北京微電子國際研討會再燃摩爾定律之爭

　　在全球半導體產業(yè)復蘇之際，北京微電子國際研討會于10月27日成功召開，摩爾定律這一引領半導體產業(yè)發(fā)展的“圣經”再次成為了主題演講會場爭論的焦點。

　　摩爾定律減速之爭

　　Intel中國研究院院長方之熙認為，摩爾定律還將延續(xù)，技術的發(fā)展不會止步。目前Intel已開始15nm技術的研發(fā)，2011年將開始10nm技術的研發(fā)。追溯Intel的歷史，每兩年一代的新技術推出從未延遲，例如2005年的65nm技術，2007年的45nm技術及2009年的32nm技術都為業(yè)界帶來的全新的產品。“摩爾定律不會減速，但設計與制造成本的增加的確是事實，因此如何將更多的功能整合在一起，減少小批量產品將是對企業(yè)的一大挑戰(zhàn)。”

　　Synopsys副總裁潘建岳認為，摩爾定律的延緩從45nm開始已很明顯，在之前的90nm和65nm，自技術開發(fā)成熟后，大批量產品上市ramp up通常需要2年的時間，但在 45nm技術代，ramp up速度已明顯出現(xiàn)了滯后。不過這對中國的半導體產業(yè)來說是件好事，因為我們追趕國際先進的腳步將因此而更快。

　　在摩爾定律的引導下，更多的科學家在探索新材料與新工藝。SEMI中國區(qū)總裁陸郝安指出，為了提高半導體的性能，越來越多的元素已被成功應用于半導體工藝之中。HKMG等新材料與新工藝的應用將使半導體技術不斷發(fā)展自己，并超越自己。

　　摩爾定律的超越

　　Intel在追逐摩爾定律的同時，More Than Moore也是Intel中國研究院的重點研究課題之一。方之熙介紹，CPU與存儲器的3D封裝將可能是未來的發(fā)展方向之一。為解決CPU與Memory之間傳送速度及管腳限制等問題，光互連傳輸已在Intel得到成功開發(fā)。在Intel中國研究院10月中開幕儀式上，Intel就成功展示了第一套Light Peak高速光連線技術原型驗證平臺，實現(xiàn)在Light Peak上承載DisplayPort 協(xié)議，傳輸帶寬高達10Gbps。

　　SOC技術的發(fā)展也是業(yè)界關注的焦點之一。“目前的SOC技術才剛剛開始，都還只是簡單的集成，”方之熙說。SOC未來在汽車電子等領域將有很大的發(fā)展空間。當然IP core的利用等問題也是需要仔細探討的。

　　中國半導體產業(yè)的機會

　　半導體是新興產業(yè)，也是高科技的代表行業(yè)之一。每一次的危機都會給產業(yè)帶來新的變化。而此次中國在危機中率先復蘇，就充分證明了中國的實力。中國半導體行業(yè)協(xié)會理事長江上舟認為，目前越來越多的IDM向Fab Lite轉型，這對中國半導體制造產業(yè)來說無疑是一個重大機遇。中國的半導體制造、設計與設備行業(yè)都應該努力邁向世界先進水平。

　　陸郝安說，SEMI作為國際半導體行業(yè)協(xié)會，愿意搭建國際的溝通橋梁，中國業(yè)者只要堅定信心，就必定有更大的發(fā)展。