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          先進制程競爭升級,三星臺積電4納米正面交鋒

          • 據(jù)韓媒Business Korea報道,三星電子將在今年上半年開始大規(guī)模生產(chǎn)第三代4納米芯片。報道稱,三星電子3月12日發(fā)布了一份商業(yè)報告,報告提到將在今年上半年開始2.3代(2.3-generation process)4納米工藝大規(guī)模生產(chǎn)。這是三星電子首次提到4納米新版本的具體量產(chǎn)時間。與4納米芯片的第一代產(chǎn)品SF4E相比,第二代和第三代產(chǎn)品顯示出更好的性能,更低的功耗,并且使用更小的晶圓面積。目前,業(yè)界已經(jīng)量產(chǎn)的最先進的半導(dǎo)體工藝制程為3納米,但市場主要產(chǎn)品仍為4納米和5納米芯片上,競爭廠商主要
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          NXP:先進制程有助打造更高效率的運算架構(gòu)

          • 物聯(lián)網(wǎng)被視為未來各種智能化系統(tǒng)的主要架構(gòu),透過底層感測網(wǎng)絡(luò)、中間通訊傳輸與上層云端平臺的組合,讓信息無縫流動,進而延伸出更多應(yīng)用,賦予更智能的生活體驗。不過隨著物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用多元化、許多應(yīng)用或因功能安全或因直觀需要實時反應(yīng),集中式運算的物聯(lián)網(wǎng)架構(gòu)已難因應(yīng)所有領(lǐng)域,因此系統(tǒng)終端開始被賦予一定程度的運算能力,以提升實時反應(yīng)功能。 恩智浦(NXP)半導(dǎo)體大中華區(qū)資深營銷經(jīng)理黃健洲恩智浦(NXP)半導(dǎo)體大中華區(qū)資深營銷經(jīng)理黃健洲指出,而針對此一需求,在MCU已布局多年的NXP在2019年推出了i.MX RT
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          半導(dǎo)體從業(yè)人員受訪時承認:技術(shù)落后2-3代

          • 受美國制裁的影響,我國在半導(dǎo)體先進制程的發(fā)展速度上嚴重放緩。 日經(jīng)新聞采訪了7家中國主要半導(dǎo)體設(shè)備制造商,大多數(shù)承認目前主要生產(chǎn)14納米至28納米的芯片,落后對手至少2到3代。日經(jīng)在今年3月的2021中國國際半導(dǎo)體展期間訪問了多家半導(dǎo)體公司,獲得了7家公司回復(fù)。大多受訪者坦承,中國半導(dǎo)體先進芯片制程發(fā)展速度已經(jīng)放緩,也表示美國制裁阻礙他們從國外采購零件和材料,但用國內(nèi)產(chǎn)品替代又會降低良品率。上海微電子是中國唯一一家商用光刻機制造商,一名工程師受訪表示:我們的主要光刻機是用于90納米制程的,而28納米和14
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          先進制程推升算力需求 云端EDA帶來靈活彈性

          • 而隨著芯片制程不斷縮小,單一芯片內(nèi)的晶體管與電路數(shù)量也持續(xù)倍增,芯片的生產(chǎn)流程也進入了新的時代,云端IC設(shè)計就是其中之一趨勢
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          邁向先進制程 PLD商機更加龐大

          • 在過去的幾年間,整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨著巨幅的衰退,然而,這個衰退現(xiàn)象卻為可編程邏輯組件(PLD)產(chǎn)業(yè)帶來了實質(zhì)的絕佳成長機會。雖然PLD公司之間的競爭仍然相當激烈,但ASIC仍然是主要的競爭對手,如今,這種競爭現(xiàn)象
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          明年資本支出 臺積將首超三星、英特爾

          •   先進制程成為半導(dǎo)體巨擘兵家必爭之地,臺積電日前于法說會上初透口風,表示明年資本支將約略高于100億美元,主要將用于16奈米制程的產(chǎn)能布建及10奈米的準備工作。工研院產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟與趨勢研究中心(IEK)則估,臺積電明年資本支出可望達到115億美元,超越英特爾、三星。   IEK分析,今年全球半導(dǎo)體廠商的資本支出估達643.6億美元、年增8.4%,其中三星、英特爾、臺積三強均超過百億美元。如此龐大的資本支出,即是由于在擴大產(chǎn)能之余,先進制程的研發(fā)投資成本亦跟著水漲船高。舉例來說,一條20奈米產(chǎn)線的投資金額就
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          先進制程介紹

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