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          EEPW首頁 >> 主題列表 >> 1α dram

          DRAM供貨吃緊 創(chuàng)淡季漲幅最高紀錄

          •   集邦咨詢半導(dǎo)體研究中心(DRAMeXchange)最新研究顯示,由于DRAM供貨吃緊至今未有改善的跡象,因此延續(xù)2016下半年的價格漲勢,2017年第一季DRAM平均銷售單價呈大幅上漲格局,DDR3 4GB模組的合約價最高已超過25美元,季漲幅超過三成,為DRAM史上首個在傳統(tǒng)淡季下仍能維持強勢漲價的季度。   DRAMeXchange研究協(xié)理吳雅婷表示,根據(jù)現(xiàn)已成交的合約看來,2017年第一季標準型內(nèi)存價格持續(xù)攀高,平均漲幅接近三成,服務(wù)器內(nèi)存的漲幅略同,R-DIMM 32GB模組已超過200美元
          • 關(guān)鍵字: DRAM  

          DRAM/NAND價格回升 存儲器產(chǎn)值今年將增10%

          •   在2015、2016連續(xù)兩年下跌后,DRAM和NAND Flash存儲器平均銷售價格(ASP)正穩(wěn)健走揚,研究機構(gòu)IC Insights認為,此將有助推升2017年存儲器市場銷售規(guī)模,預(yù)估整體產(chǎn)值可達853億美元新高紀錄,較2016年成長10%;2020年更可望首度攀至千億美元大關(guān)。
          • 關(guān)鍵字: DRAM  NAND  

          一文通解基于VLT技術(shù)的新型DRAM內(nèi)存單元

          •   垂直分層閘流體(Vertical Layered Thyristor;VLT),是Kilopass研發(fā)出的新型內(nèi)存單元,能夠顯著降低動態(tài)隨機存取內(nèi)存(DRAM)的成本和復(fù)雜性。這是一種靜態(tài)的內(nèi)存單元,無需刷新操作;兼容于現(xiàn)有晶圓廠的制造設(shè)備,也無需任何新的材料或工藝?! ∠噍^于一般的DRAM,VLT內(nèi)存數(shù)組能節(jié)約高達45%的成本;這是因為它具有更小的VLT內(nèi)存單元,以及驅(qū)動更長行與列的能力,使其得以大幅提升內(nèi)存數(shù)組效率。然而,想要發(fā)揮VLT的優(yōu)勢,就必須在依據(jù)產(chǎn)業(yè)標準發(fā)展的成熟DR
          • 關(guān)鍵字: DRAM  

          紫光蓋全球最大3DNAND廠,暫時不涉足DRAM

          •   大陸紫光集團在2016年終正式宣布投資總額高達240億美元,在武漢東湖高新區(qū)興建全球單一最大3D儲存型快閃存儲器(NAND Flash)廠,為全球存儲器市場投下一顆震撼彈。   半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)透露,紫光集團由旗下長江存儲公司負責(zé)推動這項計畫。紫光集團暨長江存儲董事長趙偉國甚至將這項投資案,等同遼寧號航空母艦出海試航,是中國大陸存儲器產(chǎn)業(yè)從零突破的開端,也創(chuàng)下由國家戰(zhàn)略推動、地方大力支持、企業(yè)市場化運作的新合作模式。   由紫光集團聯(lián)合國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金(大基金)、湖北省地方基金、湖北省科投共同投資
          • 關(guān)鍵字: 紫光  DRAM  

          存儲的春天 2017年存儲行業(yè)收入將創(chuàng)紀錄

          •   根據(jù)ICInsights報道,在經(jīng)歷了2013年與2014年連續(xù)兩年20%以上增長的好年景以后,2015年全球存儲器市場陷入困境。無論是供應(yīng)商合并、產(chǎn)能控制還是新型應(yīng)用頻出等過去認為是利好的事情,都沒有拯救2015年的存儲器市場。個人電腦市場的低迷導(dǎo)致存儲器庫存過多,從而在2015年下半年出現(xiàn)了價格暴跌,2015年存儲器銷售額最終為780億美元,同比下降了3%。   這種頹勢延續(xù)到了2016年上半年,但從2016年下半年開始情況發(fā)生了變化,存儲器價格開始變得異常堅挺,而且持續(xù)到了2016結(jié)束。但由于
          • 關(guān)鍵字: DRAM  存儲器  

          嚴防技術(shù)泄露 DRAM三大廠向跳槽大陸員工發(fā)出警告信

          •   全球三大DRAM廠三星、SK海力士(SK Hynix)及美光,近期不約而同相繼寄出存證信函給跳槽到大陸合肥長鑫、及為福建晉華負責(zé)研發(fā)的聯(lián)電核心成員,全力防堵DRAM技術(shù)流入中國大陸,讓全力發(fā)展自主DRAM研發(fā)的中國大陸踢到鐵板,也讓近期有意跳槽到大陸的華亞科核心技術(shù)人員,遭到空前恫嚇。   半導(dǎo)體人士透露,三大DRAM廠強力防止中國大陸藉挖角剽竊技術(shù),顯示不樂見DRAM產(chǎn)業(yè)寡占局面被中國大陸全力搶進而打破,三大廠采取法律制約員工跳槽的行動,如果能奏效,將使DRAM供給缺口浮現(xiàn)問題再擴大,明年再現(xiàn)飆漲
          • 關(guān)鍵字: DRAM  SK海力士  

          IC Insights:2017年全球存儲器市場同比增長10%

          •   在經(jīng)歷了2013年與2014年連續(xù)兩年20%以上增長的好年景以后,2015年全球存儲器市場陷入困境。無論是供應(yīng)商合并、產(chǎn)能控制還是新型應(yīng)用頻出等過去認為是利好的事情,都沒有拯救2015年的存儲器市場。個人電腦市場的低迷導(dǎo)致存儲器庫存過多,從而在2015年下半年出現(xiàn)了價格暴跌,2015年存儲器銷售額最終為780億美元,同比下降了3%。   這種頹勢延續(xù)到了2016年上半年,但從2016年下半年開始情況發(fā)生了變化,存儲器價格開始變得異常堅挺,而且持續(xù)到了2016結(jié)束。但由于上半年跌價太狠,IC Insi
          • 關(guān)鍵字: 存儲器  DRAM  

          力晶黃崇仁:2017年DRAM市況非常好

          •   力晶執(zhí)行長黃崇仁20日出席臺灣物聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)技術(shù)協(xié)會成立大會時表示,明年存儲器市況不錯,但力晶沒有到大陸生產(chǎn)存儲器的計劃;同時他發(fā)表傳出前中華電信董事長蔡力行要去紫光看法,他認為蔡力行對于老東家臺積電有程忠誠度,不會去挖臺積電的墻角。   20日市場傳出,蔡力行將加入大陸紫光集團,協(xié)助在成都蓋12吋晶圓代工廠,黃崇仁對此提出看法表示 ,以他與蔡力行是老朋友的身分觀察,蔡力行對臺積電是有忠誠度的,不會去挖臺積電的墻角。   由于力晶已經(jīng)前進大陸合肥在當(dāng)?shù)厣w12吋晶圓代工廠合晶,目前廠房已經(jīng)蓋好,明年將進
          • 關(guān)鍵字: 力晶  DRAM  

          華亞科被高薪挖角 大陸存儲點燃DRAM主導(dǎo)權(quán)大戰(zhàn)

          •   中國大陸紫光集團長江存儲、合肥長鑫及福建晉華都積極爭取大陸存儲主導(dǎo)權(quán),隨著三大體建廠計劃預(yù)定2018年量產(chǎn),三大體系將正面對決。   長鑫目前已網(wǎng)羅SK海力士、華亞科及臺廠DRAM設(shè)計公司相關(guān)人員,構(gòu)成中日臺的存儲研發(fā)團隊。長鑫日前正式曝光相關(guān)投資計劃,預(yù)定第一期在合肥空港經(jīng)濟示范區(qū)興建第一座12吋晶圓廠,明年7月動工,目前團隊已逾50位員工,預(yù)定明年要達千人規(guī)模、2018年上看2,000人,這也是為何急于對臺挖角的關(guān)鍵。   大陸發(fā)展自主存儲已列入大陸國家發(fā)展目標,多方勢力積極主導(dǎo)地位,其中,紫
          • 關(guān)鍵字: 華亞科  DRAM  

          SK海力士開發(fā)出10納米級DRAM 與三星拉近差距

          •   傳聞SK海力士(SK Hynix)即將在2017年上半啟動10奈米級DRAM量產(chǎn),這將是繼三星電子(Samsung Electronics)之后,第二家投產(chǎn)10奈米級DRAM的半導(dǎo)體業(yè)者。目前SK海力士已完成1x奈米技術(shù)研發(fā),同時著手開發(fā)1y奈米,并組成1z奈米研發(fā)團隊,持續(xù)追求更高的技術(shù)競爭力。   據(jù)韓媒ET News報導(dǎo),14日業(yè)界消息指出,SK海力士以Alius作為計畫名稱的1x奈米DRAM即將正式量產(chǎn)。其目前已完成客戶樣品生產(chǎn),正進行最后的可靠度檢測,預(yù)定2017年第2季由M14新廠正式量
          • 關(guān)鍵字: SK海力士  DRAM  

          華亞科被高薪挖角 大陸存儲點燃DRAM主導(dǎo)權(quán)大戰(zhàn)

          •   中國大陸紫光集團長江存儲、合肥長鑫及福建晉華都積極爭取大陸存儲主導(dǎo)權(quán),隨著三大體建廠計劃預(yù)定2018年量產(chǎn),三大體系將正面對決。   長鑫目前已網(wǎng)羅SK海力士、華亞科及臺廠DRAM設(shè)計公司相關(guān)人員,構(gòu)成中日臺的存儲研發(fā)團隊。長鑫日前正式曝光相關(guān)投資計劃,預(yù)定第一期在合肥空港經(jīng)濟示范區(qū)興建第一座12吋晶圓廠,明年7月動工,目前團隊已逾50位員工,預(yù)定明年要達千人規(guī)模、2018年上看2,000人,這也是為何急于對臺挖角的關(guān)鍵。   大陸發(fā)展自主存儲已列入大陸國家發(fā)展目標,多方勢力積極主導(dǎo)地位,其中,紫
          • 關(guān)鍵字: 華亞科  DRAM  

          SK海力士計劃明年第二季量產(chǎn)10 納米DRAM

          •   繼三星之后,SK 海力士計劃明年開始量產(chǎn) 10 納米 DRAM,在 1x DRAM 開發(fā)完成后,SK 海力士將繼續(xù)研發(fā) 1y DRAM,并為發(fā)展 1z DRAM 鋪路。   來自產(chǎn)業(yè)界的消息指出,SK 海力士 1x DRAM 開發(fā)代號設(shè)為 Alius,已準備進入量產(chǎn)前置作業(yè)。SK 海力士目前已經(jīng)完成晶圓制樣,正要在進行可靠度認證。   半導(dǎo)體認證通常需將過工程試樣(Engineering sample)與客戶端式樣(Customer sample)兩道程序,在通過客戶測試后,產(chǎn)品開發(fā)才算完成。據(jù)報
          • 關(guān)鍵字: SK海力士  DRAM  

          SK 海力士計劃明年第二季量產(chǎn)10 納米DRAM

          •   繼三星之后,SK 海力士計劃明年開始量產(chǎn) 10 納米 DRAM,在 1x DRAM 開發(fā)完成后,SK 海力士將繼續(xù)研發(fā) 1y DRAM,并為發(fā)展 1z DRAM 鋪路。   來自產(chǎn)業(yè)界的消息指出,SK 海力士 1x DRAM 開發(fā)代號設(shè)為 Alius,已準備進入量產(chǎn)前置作業(yè)。SK 海力士目前已經(jīng)完成晶圓制樣,正要在進行可靠度認證。   半導(dǎo)體認證通常需將過工程試樣(Engineering sample)與客戶端式樣(Customer sample)兩道程序,在通過客戶測試后,產(chǎn)品開發(fā)才算完成。據(jù)報
          • 關(guān)鍵字: SK海力士  DRAM  

          美光重心押注臺灣 3D DRAM封測廠和華亞科擴建案投資達千億

          •   美光全數(shù)收購華亞科股權(quán),華亞科并于6日下市,美光定于12日舉行華亞科加入美光典儀,并將宣布在中國臺灣地區(qū)擴大投資案,包括3D DRAM封測廠和華亞科擴建案,估計總投資金額上看千億元新臺幣。   美光已網(wǎng)羅前艾克爾總經(jīng)理梁明成出任負責(zé)美光存儲器后段封測廠投資案,12日華亞科加入美光的慶祝典禮,美光執(zhí)行長鄧肯(Mark Durcan)將親自主持,預(yù)料將同步宣布相關(guān)人事及擴大在臺投資布局。   這也是美光繼在大陸西安廠之后,在海外最大手筆的封測投資計劃,美光也借由邀請包括臺灣桃園市長鄭文燦及經(jīng)濟部長等相
          • 關(guān)鍵字: 美光  DRAM  

          美光計劃擴大3D DRAM封測廠和華亞科擴建案

          •   繼以一千三百億元新臺幣收購華亞科股權(quán)后,美光決定擴大在臺投資,計劃在中科興建美光在海外首座3D架構(gòu)的存儲器封測廠,并網(wǎng)羅前艾克爾(Amkor)總經(jīng)理梁明成出任這項業(yè)務(wù)臺灣區(qū)總經(jīng)理,新投資計劃預(yù)定十二日宣布。   梁明成四日證實已于十月底離開艾克爾,但因美光還未正式對布發(fā)布人事,他低調(diào)表示還在休息,詳細職務(wù)等美光宣布。   據(jù)了解,美光收購華亞科股權(quán)案已進入尾聲,華亞科已于十一月卅日停止交易,美光預(yù)定十二日舉辦華亞科加入美光的慶祝典禮,美光執(zhí)行長鄧肯(Mark Duncan)將再度親自抵臺主持,預(yù)料
          • 關(guān)鍵字: 美光  DRAM  
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