應(yīng)用材料兩名高管因竊取三星技術(shù)機密被捕

　　據(jù)報道，韓國檢方近日逮捕了兩名美國半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商應(yīng)用材料Applied Materials高管，罪名則是這兩名高管偷取三星DRAM、NAND芯片處理技術(shù)等機密并出售給了競爭對手海力士。

　　美國證券交易委員會的報告顯示，Applied已經(jīng)確認此事，并透露說其中一人是前應(yīng)用材料韓國(AMK)高管、現(xiàn)任應(yīng)用材料副總裁，另一名則是應(yīng)用材料韓國子工廠的高管。

　　應(yīng)用材料在一封電子郵件中表示，由于韓國檢方目前還未公布兩人的姓名，他們也不方便透露兩者的信息。作為應(yīng)用材料的一大客戶，三星的利益顯然受到了傷害，三星表示他們將采取“適當”措施。不過三星員工也牽扯到了此案當中。

　　據(jù)悉，應(yīng)用材料高管向海力士泄露的信息涉及2005年三月到2009年12月的三星DRAM、NAND閃存芯片處理技術(shù)和三星芯片生產(chǎn)的投資計劃。

　　海力士也確認說旗下員工確實因為接收三星機密信息被捕，但是他們表示，海力士從來沒有將此非法所得技術(shù)應(yīng)用于其芯片生產(chǎn)當中。韓國當?shù)孛襟w援引韓國檢方的話說：“該案件說明芯片制造商對其競爭對手、合作伙伴的安全防范意識需進一步加強。”

　　應(yīng)用材料還表示：“我們對其客戶、供應(yīng)商、競爭對手以及其它第三方廠商的知識產(chǎn)權(quán)保護有著嚴格的規(guī)定，并將對違反規(guī)定的員工作出嚴肅處理。”