32nm制程用沉浸光刻設備客戶需求量劇增：ASML公司召回先前遭辭退員工

　　據(jù)荷蘭ASML公司高管透露，由于最近半導體廠商對沉浸式光刻設備的需求量劇增，著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工，同時還 招聘了數(shù)百名新員工，這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工，同時還預計公司將可保證各個客戶對光刻設備的訂單需求。

　　由于消費電子設備以及PC市場對高密度芯片的需求在不斷上升，ASML公司的高管表示他預計他的客戶們在今明兩年不會碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過于求的情況。

　　據(jù)ASML公司今年一季度公布的財報數(shù)據(jù)顯示，這家光刻廠商今年一季度末的NXT:1950i型光刻機的存貨量為28臺，公司還透露今年第二季度將售出11臺這樣的設備。NXT:1950i 是專門為300mm 32nm及以上級別制程芯片產(chǎn)品設計的光刻設備。

　　NXT:1950i和早期ASML沉浸式光刻機相同的1.35NA數(shù)據(jù)孔徑投影透鏡，但加入了對平臺定位技術(shù)有重大改進的新型NXT雙晶圓工作臺(twin stage)系統(tǒng)，以及改善的液體控制系統(tǒng)。最大每小時可產(chǎn)出200片300mm晶圓。這種光刻設備的售價大約在400萬美元每部。臺積電，聯(lián)電，前特許公司以及Intel-鎂光合資的IMFlash公司和一眾NAND閃存廠商等是ASML沉浸式光刻機的主要客戶;而Intel公司盡管在45nm制程應用了尼康和ASML兩家公司的光刻機，但在32nm節(jié)點Intel使用的全部是尼康的光刻產(chǎn)品。