32nm制程用沉浸光刻設(shè)備客戶(hù)需求量劇增：ASML公司召回先前遭辭退員工

　　據(jù)荷蘭ASML公司高管透露，由于最近半導(dǎo)體廠(chǎng)商對(duì)沉浸式光刻設(shè)備的需求量劇增，著名光刻廠(chǎng)商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工，同時(shí)還 招聘了數(shù)百名新員工，這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工，同時(shí)還預(yù)計(jì)公司將可保證各個(gè)客戶(hù)對(duì)光刻設(shè)備的訂單需求。

　　由于消費(fèi)電子設(shè)備以及PC市場(chǎng)對(duì)高密度芯片的需求在不斷上升，ASML公司的高管表示他預(yù)計(jì)他的客戶(hù)們?cè)诮衩鲀赡瓴粫?huì)碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過(guò)于求的情況。

　　據(jù)ASML公司今年一季度公布的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示，這家光刻廠(chǎng)商今年一季度末的NXT:1950i型光刻機(jī)的存貨量為28臺(tái)，公司還透露今年第二季度將售出11臺(tái)這樣的設(shè)備。NXT:1950i 是專(zhuān)門(mén)為300mm 32nm及以上級(jí)別制程芯片產(chǎn)品設(shè)計(jì)的光刻設(shè)備。

　　NXT:1950i和早期A(yíng)SML沉浸式光刻機(jī)相同的1.35NA數(shù)據(jù)孔徑投影透鏡，但加入了對(duì)平臺(tái)定位技術(shù)有重大改進(jìn)的新型NXT雙晶圓工作臺(tái)(twin stage)系統(tǒng)，以及改善的液體控制系統(tǒng)。最大每小時(shí)可產(chǎn)出200片300mm晶圓。這種光刻設(shè)備的售價(jià)大約在400萬(wàn)美元每部。臺(tái)積電，聯(lián)電，前特許公司以及Intel-鎂光合資的IMFlash公司和一眾NAND閃存廠(chǎng)商等是ASML沉浸式光刻機(jī)的主要客戶(hù);而Intel公司盡管在45nm制程應(yīng)用了尼康和ASML兩家公司的光刻機(jī)，但在32nm節(jié)點(diǎn)Intel使用的全部是尼康的光刻產(chǎn)品。