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          美國再次放寬對華高技術(shù)產(chǎn)品出口 65nm以下刻蝕設(shè)備不再受限

          作者: 時間:2010-10-09 來源:SEMI 收藏

            在SEMI及會員公司的共同努力下,經(jīng)過9個月的等待,美國聯(lián)邦政府正式實施放寬的出口條件,原來180nm的技術(shù)審核指標(biāo)被正式放寬到了a。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/113313.htm


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