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          TSMC37納米及以下工藝案終結(jié)
          
						
          —— TSMC與請求USITC與STC.UNM均已向法院提出終止調(diào)查申請
          
						
          
				作者：
				時間：2010-11-16
				來源：電子產(chǎn)品世界
				
				
				
				
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          　　TSMC今(16)宣布，就美國國際貿(mào)易委員會(USITC)針對TSMC被指控28納米工藝技術(shù)有侵權(quán)之虞的調(diào)查案，得以有利于TSMC的方式終結(jié)。TSMC與請求USITC調(diào)查此案的美國新墨西哥大學專利授權(quán)機構(gòu)STC.UNM均已向法院提出終止調(diào)查申請，內(nèi)容請參閱USITC網(wǎng)站­--案件編號：337-TA-729、標題：In the Matter of Certain Semiconductor Products Made by Advanced Lithography Techniques and Products Containing Same。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/114595.htm

          　　這項調(diào)查內(nèi)容指稱TSMC37納米及以下的半導體工藝侵害編號第6,042,998號 (“998”專利)的美國專利，但TSMC否認這項侵權(quán)指控。
          

          　　TSMC資深副總經(jīng)理暨法務(wù)長杜東佑博士表示：「雖然TSMC對于此次STC.UNM這種基于無效專利而提出的案件感到遺憾，但仍欣見本案終能解決」。
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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          關(guān)鍵詞：
            			            TSMC
                        37納米
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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