聯(lián)電65納米eFlash制程搶先問世
搶在臺積電之前,聯(lián)電日前率先與合作伙伴美高森美(Microsemi)共同發(fā)布首款采用65奈米嵌入式快閃(Embedded Flash,eFlash)制程技術生產(chǎn)的現(xiàn)場可編程門陣列(FPGA)平臺,讓eFlash制程技術順利邁入65奈米世代,對其未來進一步拓展汽車、工業(yè)、醫(yī)療及航天等半導體市場將大有幫助。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/114860.htm美高森美系統(tǒng)單芯片產(chǎn)品事業(yè)群資深營銷及業(yè)務副總裁Jay Legenhausen表示,65奈米eFlash技術對該公司產(chǎn)品安全性、可靠性與整合度的提升均大有幫助。
甫于日前收購愛特(Actel))的美高森美系統(tǒng)單芯片(SoC)產(chǎn)品事業(yè)群資深營銷及業(yè)務副總裁JayLegenhausen表示,相較前一代技術,該公司采用聯(lián)電65奈米eFlash制程的新一代FPGA平臺,在邏輯密度、效能及功耗表現(xiàn)上均更為出色,因而能滿足工業(yè)、醫(yī)療、軍事、航天、通訊和消費市場更多的設計要求。
目前,美高森美已自聯(lián)電成功取得首個硅晶圓樣品,并著手與商業(yè)和工業(yè)市場的特定客戶展開先導計劃,全力協(xié)助這些客戶順利進行導入設計。
事實上,在尚未被美高森美購并前,愛特便與聯(lián)電在eFlash制程上擁有相當密切的合作關系,該公司采用130奈米eFlash制程開發(fā)的IGLOO低功耗FPGA即是由聯(lián)電所生產(chǎn)。此次,聯(lián)電一舉將eFlash制程推進至65奈米,不論對該公司或半導體業(yè)界而言,均具有重大意義。
據(jù)了解,包括臺積電與意法半導體(ST)先前也都公開表示已投入65奈米及55奈米eFlash技術開發(fā)。臺積電系于2009年底與英飛凌(Infineon)宣布將共同研發(fā)65奈米eFlash制程,以開發(fā)符合更嚴苛質量要求的車用微控制器(MCU)及更高安全性的芯片卡,預計將于2012年下半年完成相關產(chǎn)品與制程驗證工作;而意法半導體則是投入55奈米eFlash制程研發(fā),同樣也將用于車用MCU生產(chǎn),預計2011年中可開始提供樣品。
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