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          Intel已開始研發(fā)7nm及5nm工藝
          
						
          —— 這是Intel第一次官方披露后10nm時代的遠景規(guī)劃
          
						
          
				作者：
				時間：2012-05-14
				來源：驅(qū)動之家
				
				
				
				
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          　　Intel CEO Paul Otellini近日對投資者透露，半導(dǎo)體巨頭已經(jīng)開始了7nm、5nm工藝的研發(fā)工作，這也是Intel第一次官方披露后10nm時代的遠景規(guī)劃。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/132405.htm

          　　他說：“我們的研究和開發(fā)是相當(dāng)深遠的，我是說(未來)十年。”
          

          　　按照路線圖，22nm工藝之后，Intel將在2013年進入14nm時代，相應(yīng)產(chǎn)品代號Broadwell。下一站是10nm，目前還在早期研究階段，預(yù)計2015年左右實現(xiàn)。
          

          　　7nm、5nm現(xiàn)在都處于理論研究階段，具體如何去做還遠未定案，而且隨著硅半導(dǎo)體技術(shù)復(fù)雜度的大幅提高，相信實現(xiàn)它們的代價也會高得多，即便是Intel這樣的巨頭也會感到很棘手，不過Paul Otellini向大家保證說，這兩種新工藝“正在按時向目標邁進”。
          

          　　如果Intel能夠在未來十年內(nèi)繼續(xù)堅持Tick-Tock發(fā)展策略，那么7nm、5nm應(yīng)該會分別在2017年、2019年來到我們身邊，即便有些許延遲2020年也應(yīng)該不會有問題。
          

          　　Intel 14nm工藝將會主要在俄勒岡州D1X、亞利桑那州Fab 42、愛爾蘭Fab 24三座晶圓廠投產(chǎn)，前者還有可能成為世界上第一家投產(chǎn)450毫米晶圓的工廠...
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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