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          首座450mm晶圓廠2017年投產(chǎn)

          —— 2017年將有三座450mm晶圓開始運轉(zhuǎn)
          作者: 時間:2012-07-12 來源:慧聰網(wǎng) 收藏

             廠工具供應(yīng)商貿(mào)易部門資深分析師ChristianDieseldorff在周一的SemiconWest演講中表示,首家使用450mm生產(chǎn)半導(dǎo)體的廠預(yù)計將在2017年開始運作。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/134532.htm

            Dieseldorff預(yù)測,2017年將有三座450mm晶圓開始運轉(zhuǎn)。他同時預(yù)估,屆時生產(chǎn)IC的晶圓廠總數(shù)將從今年的464座下降至441座。

            

           

            2007和2017年開始運轉(zhuǎn)或開始生產(chǎn)的晶圓廠數(shù)量比較。

            目前,業(yè)界已經(jīng)有數(shù)個針對450mm晶圓的工具開發(fā)專案,為了增加每片晶圓上的晶片數(shù)量并提升獲利,領(lǐng)先的晶片制造商也希望能朝450mm轉(zhuǎn)移。在這些專案中,耗資48億美元,由英特爾(Intel)、IBM、Globalfoundries、三星(SamsungElectronics)和臺積電(TSMC)五大晶片業(yè)巨擘聯(lián)合組成,預(yù)計在紐約設(shè)廠的「全球450聯(lián)盟(Global450Consortium)」最受人矚目。

            盡管領(lǐng)先的晶片制造商希望盡快轉(zhuǎn)移到450mm晶圓,但這個過程仍然充滿著不確定性,包括他們還要做多少開發(fā)工作,以及是否會有還有其他晶片制造商跟進(jìn)。

            Gartner的半導(dǎo)體制造研究副總裁BobJohnson指出,在2018年以前,450mm都不會成為主流,事實上,更可能的情況是到2019或2020年才可望普及。

            Johnson預(yù)測,首款alpha450mm開發(fā)工具可在今年底或明年初就緒,但直2016或2017年,量產(chǎn)工具預(yù)計都還不可能準(zhǔn)備好。Johnson指出,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中有很多關(guān)于轉(zhuǎn)移到450mm有多困難或多容易的預(yù)測,但除非人們真的開始采用450mm,否則是無法準(zhǔn)確預(yù)測能否順利轉(zhuǎn)移,以及會出現(xiàn)何種問題的。

            “除非你親身嘗試,否則你不會知道,”Johnson說。

            Johnson表示,如果說21世紀(jì)初的300mm晶圓轉(zhuǎn)移有帶來任何啟示,那么晶片制造商首先必須興建大型的450mm晶圓廠,但他們還得要有足夠的專業(yè)人員,能夠為新制程除錯。

            研發(fā)投資預(yù)估落差大

            Gartner預(yù)估,450mm工具開發(fā)的研發(fā)成本將耗資170億美元,今年的支出預(yù)計是20億美元。而其他的開發(fā)成本預(yù)估則差距頗大,最少的預(yù)估成本是100億美元,還有其他機構(gòu)預(yù)估250億美元以及400億美元。

            “在我們真的拿到這些工具,而且用在生產(chǎn)線上以前,我們都不會知道真實數(shù)字,”Johnson說。

            Johnson同時表示,他認(rèn)為往450mm晶圓的轉(zhuǎn)移是不可避免的趨勢,而前10大晶圓廠設(shè)備供應(yīng)商在這個轉(zhuǎn)移過程中將貢獻(xiàn)80%的研發(fā)費用。

            本周一,英特爾也宣布計劃以41億美元投資設(shè)備供應(yīng)商ASML,取得15%股權(quán),這是英特爾打算加速發(fā)展450mm的工具和超紫外光(EUV)研發(fā)投資的行動之一。另外,同樣在周一,「FlemishMinisterofInnovation」的主管IngridLieten也宣布將在比利時魯汶的IMEC研究室投資打造一座450mm潔凈室

            Dieseldorff表示,預(yù)估包括晶圓廠建設(shè)和設(shè)備成本在內(nèi)的2012年晶片廠前端總支出,將會在590億和600億美元之間,大約與2011年持平。也預(yù)估,前端支出在2013年大約會成長2%~5%,介于610億到630億美元之間。

            據(jù)SEMI預(yù)估,包括分離式IC晶圓廠在內(nèi)的總晶圓廠設(shè)備支出,在2012年大約為389億美元,與2011年持平。Dieseldorff表示,SEMI預(yù)測晶圓廠設(shè)備支出在2013年會增加20%,達(dá)468億美元。

            Dieseldorff同時表示,預(yù)估在2012和2013年,晶圓廠建設(shè)的支出總金額會稍微超過600億美元,略低于2011年的625億美元。他指出,最近幾個月以來,包括臺積電(TSMC)、三星(Samsung)、聯(lián)電(UMC)和中芯國際(SMIC)等大廠宣布的新投資計劃,預(yù)計將提高晶圓廠建設(shè)的投資總額。“晶圓廠建設(shè)的資本支出情況,已經(jīng)擺脫過去的雙位數(shù)字衰退情況,得到大幅改善了。”

            Dieseldorff進(jìn)一步指出,盡管近年來日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨龐大壓力,但日本仍會比其他地區(qū)擁有更多的晶圓廠。到2017年,日本的晶圓廠總數(shù)預(yù)計將從2007年的152座下降到105座。美洲擁的晶圓廠數(shù)量排名第二,但也預(yù)計從2007年的123座下降到2017年的95座。

            



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