c制程漸成熟 有助3C產(chǎn)品微縮設計

　　行動運算產(chǎn)品市場持續(xù)朝產(chǎn)品薄化方向設計，目前相關設計多使用整合晶片減少元件用量，對于異質(zhì)核心的封裝整合，若仍使用舊有的封裝技術將會造成成品元件仍具一定程度占位面積，必須利用堆疊與更復雜的3DIC技術進行元件整合的積極微縮設計…

　　矽晶片的制程技術，一直是推進行動終端產(chǎn)品躍進式升級、改善的關鍵驅(qū)動力，以往透過SoC(systemonachip)將不同用途的異質(zhì)核心進行整合，目前已經(jīng)產(chǎn)生簡化料件、縮減關鍵元件占位面積的目的，但隨著使用者對于行動裝置或可攜式裝置的薄化、小型化要求越來越高，異質(zhì)功能晶片除要求高度整合成單晶片外，也對整合的元件體積要求越來越高!還必須在整合元件的占位面積進一步進行縮減。

　　SoC整合的趨勢與效益明顯，越來越多晶片產(chǎn)品采用高度整合方式簡化系統(tǒng)架構(gòu)復雜度。Altera

　　記憶體晶片構(gòu)造較單純，使用3DIC制程具大幅擴增容量效益，圖為IBM利用3DIC技術制作的多記憶體晶片堆疊封裝構(gòu)造示意圖。IBM

　　WireBonding使用效益有限業(yè)者積極發(fā)展微縮制法

　　早期的整合封裝方式，是將各功能晶片利用打線連接(WireBonding)，雖可在功能性滿足多晶片整合的要求，同時也可以縮減至少30%~40%的載板占位面積，因為功能晶片間的傳輸匯流排、電子線路等已經(jīng)在同一個封裝內(nèi)處理完成，對于晶片對外的線路布線需求即消失了，自然載板即可再進一步縮減。

　　但在得到30%~40%載板面積縮減的跳躍式巨幅改善后，想進一步進行縮減，在制程與IC技術卻碰到新的開發(fā)瓶頸，因為在物理限制下晶片的微縮程度已經(jīng)達到高峰，若要進一步再微縮設計獲得較大幅的改善效益，反而要從封裝制程上著手。例如，原本平整利用金屬打線整合的多晶片封裝，改用晶片堆疊方式進行，甚至連較占空間的金屬打線都改用IC制程處理，進一步縮減晶片間在封裝體內(nèi)部的間隙，達到更大幅度的晶片微縮設計。

　　TSV技術可有效提升IC功能

　　即便透過IC制程的封裝改善，僅能再把晶片本身體積進行有限的微幅縮減，雖對于異質(zhì)核心的整合晶片本身微縮效益有限，若將此技術整合于記憶體之類的同質(zhì)晶片封裝，由于利用IC制程的整合設計可讓同時可裝載的晶片數(shù)量增加，讓原先受限于封裝技術無法大量堆疊的晶片進一步進行微縮整合，即可創(chuàng)造倍數(shù)計的應用價值提升。

　　而在眾多微縮制程的封裝技術中，以TSV(Through-SiliconVia)直通矽晶穿孔封裝技術目前頗受業(yè)界關注，TSV為能讓3DIC封裝滿足IC業(yè)界摩爾定律(Moore’sLaw)產(chǎn)品演進速度的一種晶片內(nèi)的互連技術。TSV設計概念是源自高密度多層印刷電路板(PCB)設計，TSV封裝方式可以如同千層派般層層堆疊數(shù)片功能晶片，封裝技術將電力互相連接的三次元(3D)堆疊封裝(StackPackage)方式，這可以使TSV封裝方法較傳統(tǒng)采平面(2D)形式配置晶片的封裝技術進入3D的晶片堆疊技術，目前TSV技術已有相關產(chǎn)品應用于市場。

　　TSV難度高線路成形制法為成功關鍵

　　以TSV立體堆疊技術來說，實踐TSV封裝方案的關鍵包括晶圓薄化、鉆孔、導電材質(zhì)填孔、晶圓與晶圓間的連接處理等，TSV的晶片堆疊方式并不是采行以往2DIC整合常見的打線接合(WireBonding)方式來制作不同晶片的連接處理，而是使用在晶片上進行鉆孔打洞方式于晶片底部填入金屬材料。

　　實際的作法與步驟是：在每一組矽晶圓以蝕刻或雷射型式來進行鉆孔(via)處理，制作出可以貫通每一層晶片的導線空間(此為前置處理步驟)，接著再利用銅、多晶矽、鎢…等導電材料來填滿各層晶片預先處理的線路管徑，透過導孔以導電物連結(jié)后形成電子電路通道(內(nèi)部接合線路)，進行訊號或電力連接目的，當內(nèi)部線路處理完成后，再將晶圓或者是晶粒施加薄化研磨處理，或再搭配堆疊、結(jié)合(Bonding)等加工制程進行制作，TSV即為將多IC晶片整合的關鍵堆疊技術。

　　TSV技術其實也不見得僅能將導線設置于晶片的四周。因為TSV的觀念是全3D立體布線的思維，原有2D概念的原件布局可以改垂直方向的3D堆疊，至于內(nèi)部連接線路除了利用晶片周圍進行連接外，TSV技術也可將線路連接處設計于穿越晶片本身，連接線也可以在晶片中間或是設置需求處。這種彈性的線路連接方式，可以進一步簡化內(nèi)部線路連接型態(tài)，可讓晶片內(nèi)的傳輸線距以最佳化的距離進行設計，使內(nèi)部連接路徑以更短的距離達到連接需求。

　　采行TSV制法效益多已有記憶體產(chǎn)品導入市場

　　TSV除改善傳輸或信號線距外，因為點對點的傳輸線距使得導通路徑縮短，這在電子電路應用中可以產(chǎn)生相當多的效益!例如，該線路可以傳輸更高頻的信號，該線路的阻抗也可以因傳輸距離縮減而相對應減少，自然線路雜訊問題也可獲得改善，元件的效能同時可以獲得提升，對于部分高效應用可能產(chǎn)生的晶片核心高熱現(xiàn)象，也可善用TSV的線路設置彈性，將容易聚集高熱的關鍵元件核心進行導電線路制作，除訊號傳遞效果外也可將晶片核心的高熱透過多元導通線路進行內(nèi)部溫度逸散途徑。

　　另外，TSV技術可以讓異質(zhì)晶片堆疊透過連接線達到高密度構(gòu)裝，并可應用于類比、數(shù)位或同時存在類比/數(shù)位晶片的封裝場合，且矽基、記憶體與射頻元件等產(chǎn)品均適用。

　　此外，TSV的立體互連技術優(yōu)勢，也較打線接合的晶片連接型式有更多的技術優(yōu)點。例如，具更短的內(nèi)部互連路徑、線路的電阻/電感值更低，亦可在傳遞訊號與晶片內(nèi)的電力配送更具效率，甚至TSV制作方式另擁有可不限制裸晶堆疊數(shù)量，導入技術的優(yōu)勢相當顯著，目前在CMOSSensor、記憶體產(chǎn)品已逐步導入TSV技術改善產(chǎn)品效能，此外在基頻IC、射頻IC與SoC處理器等應用領域，也會持續(xù)增加。

　　觀察TSV制程現(xiàn)況，目前包含Via-first(先鉆孔)及Via-last(后鉆孔)兩種技術實踐方法，其中以后鉆孔的技術困難度與挑戰(zhàn)性較低，已較早導入相關產(chǎn)品應用，加上在晶片內(nèi)線路制作的結(jié)構(gòu)較大、亦較容易制做完成，對于業(yè)者來說也可以自SiP(SysteminaPackage)設計方法中延續(xù)制程技術進行封裝法進階改善，也吸引不少業(yè)者投入進行技術優(yōu)化。

　　而先鉆孔制程中必須將通道制作完成于其半導體制程之前，技術方面的難度較高，元件的制程構(gòu)造本身就相當復雜，對形成通道作法難度更顯困難，但實際上先鉆孔制程可讓通道線路品質(zhì)更好，先鉆孔制作方案具高傳輸效益，對于需要較高內(nèi)部連接速度的高階整合晶片設計需求，先鉆孔有較高的使用附加價值。