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          LED散熱基板的設(shè)計及工藝分析

          作者: 時間:2012-03-07 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          3-2-2、氮化鋁陶瓷基板

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/168333.htm

            而在更高功率應用的前提下,具高導熱S數(shù)的氮化鋁(170-230W/mK)將是基板的首選材質(zhì),但厚膜印刷之金屬層(如高溫銀膠)多需經(jīng)過高溫(高于800oC)燒結(jié),此高溫燒結(jié)于大氣環(huán)境下執(zhí)行易導致金屬線路與氮化鋁基板間產(chǎn)生氧化層,進而影響線路與基板之間的附著性;然而,薄膜則在300℃以下工藝之條件下備制,無氧化物生成與附著性不佳之疑慮,更可兼具線路尺寸與高精準度之優(yōu)勢。薄膜工藝為高功率氮化鋁陶瓷基板創(chuàng)造更多應用空間。

            4、結(jié)論

            以上我們已將基板在兩種不同工藝上做出差異,以薄膜工藝備制陶瓷散熱基板具有較高的設(shè)備與技術(shù),需整合材料開發(fā)門檻,如曝光、真空沉積、顯影、蒸鍍(Evaporation)、濺鍍(Sputtering)電鍍與無電鍍等技術(shù),以目前的市場規(guī)模,薄膜產(chǎn)品的相對成本較高,但是一旦市場規(guī)模達到一定程度時,必定會反映在成本結(jié)構(gòu)上,相對的在價格上與厚膜工藝的差異將會有大幅度的縮短。

            在高效能、高產(chǎn)品品質(zhì)要求與高生產(chǎn)架動的高功率LED陶瓷基板的發(fā)展趨勢之下,高散熱效果、高精準度之薄膜工藝陶瓷基板的選擇,將成為趨勢,以克服目前厚膜工藝產(chǎn)品所無法突破的瓶頸。因此,可預期的薄膜陶瓷基板將逐漸應用在高功率LED上,并隨著高功率LED的快速發(fā)展而達經(jīng)濟規(guī)模,此時不論高功率LED芯片、薄膜型陶瓷散熱基板、封裝工藝成本等都將大幅降低,進而更加速高功率LED產(chǎn)品的量化。


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