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          晶體硅太陽電池擴(kuò)散氣氛場均勻性研究

          作者: 時間:2009-10-16 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          從表4可看出,廢氣排放口離恒溫區(qū)越遠(yuǎn),即離爐口越近,爐口的方阻片內(nèi)/片間性改善越好,但廢氣排放的同時也有大量熱能的排放,在排放口區(qū)域聚集的熱能較多,因考慮到爐門的低溫(一般為小于200℃)要求,在一定程度上又限制了排放口到爐門的距離不能太近。所以,生產(chǎn)中廢氣排放口的較佳位置是在一個兩向平衡距離范圍內(nèi)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/181202.htm

          2.4 排風(fēng)量大小對爐口性的影響
          當(dāng)進(jìn)入爐石英管內(nèi)的工藝氣體總流量一定時,排風(fēng)量大小的設(shè)定直接影響爐內(nèi)的場壓強(qiáng)變化,而場壓強(qiáng)又與爐內(nèi)工藝氣體的濃度相關(guān)聯(lián).從而影響性,尤其是爐口的均勻性。
          通過表5分析爐口片內(nèi)極差大的具體原因,得到極差大主要是由硅片下半部分方塊電阻大造成的,而這下半部分又與排氣口最近,故采取調(diào)小排氣閥開度,增加爐內(nèi)壓強(qiáng),間接地增加工藝氣體反應(yīng)時間,從而改善爐口片內(nèi)均勻性和片間均勻性。對于穩(wěn)定生產(chǎn)而言,爐內(nèi)壓強(qiáng)的最佳值是在一定范圍內(nèi)的,這就要求工藝反應(yīng)氣體流量與廢氣排放量需保持一個整體平衡。


          3 結(jié)束語
          的主要工藝制作過程包括制絨、擴(kuò)散、刻蝕、鍍膜、印刷、燒結(jié)等,每道工序的相關(guān)控制參數(shù)都直接或間接地與電性能參數(shù)相關(guān)聯(lián)。對于擴(kuò)散工序而言,擴(kuò)散的均勻性直接體現(xiàn)在硅片形成的P-N結(jié)結(jié)深差異性上,均勻性好反映出結(jié)深差異性小,反之亦然。
          而不同的P-N結(jié)結(jié)深其燒結(jié)條件不一樣。從另一方面,同樣的燒結(jié)條件生產(chǎn)應(yīng)用于擴(kuò)散均勻性好的在制片,其歐姆接觸性能、填充因子等電性能參數(shù)一致性好,最終體現(xiàn)在電池的轉(zhuǎn)換效率一致性的可控性。用實(shí)驗(yàn)方法分析影響電池擴(kuò)散均勻性的場因素及其工藝調(diào)節(jié)優(yōu)化改善方法,在工藝調(diào)試過程中需要注意這些氣氛場因素是相互關(guān)聯(lián)影響的,一般先優(yōu)化改善均流板的均勻分流設(shè)計和廢氣排放位置因素,再綜合工藝氣體流量、排氣量等其他相關(guān)因素系統(tǒng)調(diào)整爐內(nèi)壓強(qiáng)平衡。通過擴(kuò)散均勻性的優(yōu)化調(diào)節(jié)??梢院芎玫馗纳铺栯姵氐奶畛湟蜃覨F、并聯(lián)電阻Rsh、串聯(lián)電阻Rs和開路電壓Ucc等電性能,從而降低電池的制造成本。


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