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          超快速IV測試技術(shù)簡介-半導(dǎo)體器件特性測試的變革

          作者: 時間:2012-08-07 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          超快速IV測量技術(shù)是過去十年里吉時利推出的最具變革性的方法和儀器,吉時利一直以其高精度高品質(zhì)的SMU即原測試單元而著稱,吉時利的原測試單元在過去的三十年里一直被當(dāng)做直流伏安測試的標(biāo)準(zhǔn),一些著名的產(chǎn)品例如236、237、240、2600、4200都被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、光伏、納米材料等行業(yè),如2010年諾貝爾物理學(xué)獎獲得者所研究的石墨硒就是使用吉時利的原測試單元進(jìn)行量測的。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/193440.htm

            隨著科學(xué)的發(fā)展,科學(xué)家和工程師發(fā)現(xiàn)越來越多的器件具有瞬態(tài)效應(yīng),例如功率的瞬態(tài)效應(yīng)會在1微秒內(nèi)完成,這些瞬態(tài)效應(yīng)往往瞬態(tài)即逝,難以捕捉。為了研究這些效應(yīng)就需要SMU具有更快的測量速度,但是由于SMU在設(shè)計上的一些局限性,使得SMU無法提供非??焖俚牧繙y,于是基于超快速IV量測技術(shù)的PMU就應(yīng)運而生。這里將介紹測試單元PUM和超快速IV量測技術(shù)給特性分析帶來的革命性的變化。

            

            圖1 量測技術(shù)時間精度對比

            使用超快速IV量測的目的

            SMU即原測試單元由四個部分組成:電壓源、電流源、電壓表和電流表,SMU可以輸出電壓測量電流,也可以輸出電流測量電壓。需要強(qiáng)調(diào)的是,SMU內(nèi)部集成的四個儀表都是直流的高精度儀表,吉時利最高精度的SMU可以分辨0.01fA的電流和1µV的電壓。為了得到如此高的測量精度,SMU使用的AV轉(zhuǎn)換是積分模式的,如果您使用過SMU,您一定知道SMU是需要積分概念的,積分時間的單位是PLC,一個PLC等于20個毫秒,要得到準(zhǔn)確的測量結(jié)果,就需要在至少一個PLC內(nèi)做積分,這樣看來SMU是一個測得準(zhǔn)但測得很慢的儀器。

            另外一種使用AD轉(zhuǎn)換模式的儀器是數(shù)字示波器。數(shù)字示波器使用的AD轉(zhuǎn)換是差分模式,這種模式可以提供非常高的測量速度,但相對于SMU,示波器的測量精度就慘不忍睹,事實上多數(shù)示波器只能測量電壓,而電壓的測量能準(zhǔn)確到一個毫伏就很好了。如果用示波器來測量電流通常有兩種方式,一個是使用電流探頭,另外一個是測量已知組織電阻兩端的電壓,這兩種方法都不能得到準(zhǔn)確的電流測量,而且連線也特別復(fù)雜。示波器在設(shè)計之初就沒有為精確的IV量測提供服務(wù)。

            從另外一個角度來看待這個問題,精度和速度就像魚和熊掌永遠(yuǎn)不可兼得,精度需要犧牲速度來換取,反之亦然。另外,如果使用示波器來測量前面提到的器件的瞬態(tài)效應(yīng)還有另外一個問題,示波器沒有內(nèi)部的信號機(jī)理,脈沖發(fā)生器就是用來提供高速率的信號機(jī)理的,但是脈沖發(fā)生器只能提供信號機(jī)理,而不能進(jìn)行信號的測試,只有把脈沖發(fā)生器和示波器做在一個測試系統(tǒng)內(nèi),才能實現(xiàn)SMU能實現(xiàn)的量測。

            


          圖2 4225-PM超快速測量模塊

          事實上吉時利有很多客戶在很久前就向我們提出了準(zhǔn)確表征器件瞬態(tài)效應(yīng)的要求,如同幻燈片所示,這些要求曾經(jīng)是讓客戶抓狂的事情,SMU可以給他們提供足夠的精度和方便的測試設(shè)定,但卻無法提供足夠的速度。正如之前提到的,SMU的量測都是在1毫秒以后完成的,而這里所列的事情在1毫秒以內(nèi)早已完成,也曾經(jīng)有一些動手能力很強(qiáng)的客戶,他們試著用脈沖發(fā)生器和示波器搭建超快速IV量測系統(tǒng),但這樣的系統(tǒng)往往連線非常復(fù)雜,而且往往得不到準(zhǔn)確和可重復(fù)的數(shù)據(jù)。如果無法在實驗室里得到可重復(fù)的數(shù)據(jù),又如何發(fā)表研究成果呢?

            再深入看幾個實際的例子。這里所示的是一種SOI器件,我們知道MOS襯底是硅,SOI的襯底則是硅的氧化物。之所以用硅的氧化物作為襯底就是為了降低功耗,因為氧化硅的絕緣性比硅要好很多,從襯底流走的電流都會被二氧化硅所阻擋,但是SOI器件有一個副作用,在氧化硅阻擋電流的同時也阻擋了熱量的散發(fā)。柵極通常都是二氧化硅,如果襯底也是二氧化硅的話,就好像在熱天下面墊毛毯上面蓋棉被,而SOI工藝通常被用在高功率器件上,這樣功率大產(chǎn)生的熱量就更多。從圖上可以看到,用SMU測得的電流會有一個明顯下降的趨勢,這是由于器件發(fā)熱造成的。而用超快速IV量測就可以得到器件沒有發(fā)熱時的本身特性,通過這個方法,我們就能夠準(zhǔn)確評估器件發(fā)了多少熱量,以及發(fā)熱對器件的影響到底有多大。

            

            圖3 4225-PMU連接電路圖

            另外一個例子是HIKI材料。柵極電容大小決定了柵極對溝道的控制能力,隨著器件越做越小,簡單的把柵極氧化層做得更薄已經(jīng)無法滿足需求,這個時候就需要引入HIKI材料。所謂HIKI通常指在硅的氧化物里再摻加一些別的元素,以提高材料的界電常數(shù)。但世界上沒有免費的午餐,引入HIKI材料固然提高了柵極的控制力,卻使得原來成熟的材料變得缺陷多多,載流子在運行的時候,就會被這些缺陷捕獲,這效應(yīng)被稱為電荷陷阱效應(yīng)??椿脽粲疫叺膬蓮垐D,給器件打2V的脈沖,在上升沿和下降沿分別測試IDS曲線,上面的圖兩條曲線幾乎重合,而下面的圖卻區(qū)別明顯,這是因為脈沖寬度不同。下面圖的脈沖寬度是5微秒,而正是5微秒的等待使一些載流在被捕獲到柵極內(nèi),使得器件的特性發(fā)生了很大的變化。

            接下來的例子是和場效應(yīng)管的可靠性有關(guān)的。目前發(fā)現(xiàn)的場效應(yīng)管的可靠性問題主要有兩個,一個是熱載流子GHCI,另一個是負(fù)偏壓高溫不穩(wěn)定性MBTI。熱載流子是比較傳統(tǒng)的可靠性測試項目,而MBTI同它相比有一些獨特的地方,對MBTI效應(yīng)來說,只要把施加在器件上的應(yīng)力祛除,器件的衰退就會發(fā)生迅速的恢復(fù),恢復(fù)速度非??觳⑶液蜏囟扔嘘P(guān),在常溫下可以實現(xiàn)100%的恢復(fù),如果測試的速度太慢,就無法準(zhǔn)確表征MBTI效應(yīng)。


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