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          Mentor 強(qiáng)化支持臺(tái)積電5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝以及晶圓堆疊技術(shù)的工具組合

          作者: 時(shí)間:2018-05-04 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            , a Siemens business 宣布,該公司 Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS?) Platform 中的多項(xiàng)工具已通過TSMC最新版5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。 同時(shí)宣布,已更新了 Calibre nmPlatform 工具,可支持TSMC的晶圓堆疊封裝 (WoW)技術(shù)。 的工具和 TSMC 的新工藝將協(xié)助雙方共同客戶更快地為高增長(zhǎng)市場(chǎng)提供芯片創(chuàng)新。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201805/379465.htm

            TSMC 設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)營(yíng)銷部資深總監(jiān) Suk Lee 表示:“Mentor 通過提供更多功能和解決方案來支持我們最先進(jìn)的工藝,持續(xù)為TSMC 生態(tài)系統(tǒng)帶來了更高的價(jià)值。通過為我們的新工藝提供不斷創(chuàng)新的先進(jìn)電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 技術(shù),Mentor 再次證明了對(duì) TSMC 以及我們的共同客戶的承諾?!?/p>

            Mentor 增強(qiáng)工具功能,以支持 TSMC 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝

            Mentor 與 TSMC 密切合作,針對(duì) TSMC 的 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝,對(duì) Mentor 的 Calibre nmPlatform 中的各種工具進(jìn)行認(rèn)證,其中包括 Calibre nmDRC?、Calibre nmLVS?、Calibre PERC?、Calibre YieldEnhancer 和 Calibre xACT?。這些 Calibre 解決方案現(xiàn)已新增測(cè)量與檢查功能,包括但不限于支持與 TSMC 共同定義的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)要求。Mentor 的 Calibre nmPlatform 團(tuán)隊(duì)還與 TSMC 合作,通過增強(qiáng)多 CPU 運(yùn)行的可擴(kuò)展性,來改善物理驗(yàn)證運(yùn)行時(shí)的性能,進(jìn)而提高生產(chǎn)率。Mentor 的 AFS 平臺(tái),包括 AFS Mega 電路仿真器,現(xiàn)在也獲得TSMC 的 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。

            Mentor 增強(qiáng)工具功能,以支持 TSMC 的 WoW 晶圓堆疊技術(shù)

            Mentor 在其 Calibre nmPlatform 工具中新增了幾項(xiàng)增強(qiáng)功能,以支持 WoW 封裝技術(shù)。增強(qiáng)功能包括適用于帶背面硅通孔 (BTSV) 的裸片的 DRC 和 LVS Signoff、芯片到芯片的接口對(duì)齊與連通性檢查以及芯片到封裝堆疊的接口對(duì)齊與連通性檢查。其他增強(qiáng)功能還包括背面布線層、硅通孔 (TSV) 中介層以及接口耦合的寄生參數(shù)提取。

            Calibre Pattern Matching,可支持 TSMC 7nm SRAM 陣列檢查實(shí)用工具

            Mentor 與 TSMC 密切合作,將 Calibre Pattern Matching 與 TSMC 的 7nm SRAM 陣列檢查實(shí)用工具進(jìn)行整合。該流程有助于客戶確保其構(gòu)建的 SRAM 實(shí)現(xiàn)可滿足工藝需要。借助這種自動(dòng)化,客戶即能成功流片。SRAM 陣列檢查實(shí)用工具可供 TSMC 7nm工藝的客戶使用。

            Mentor, a Siemens business 副總裁兼Design to Silicon 部門總經(jīng)理 Joe Sawicki 表示:“TSMC 持續(xù)不斷地開發(fā)創(chuàng)新晶圓工藝,使我們的共同客戶能夠向市場(chǎng)推出許多世界上最先進(jìn)的 IC,我們不僅為 Mentor 的平臺(tái)能率先獲得 TSMC 最新工藝的認(rèn)證感到自豪,也為我們能與 TSMC 緊密合作,攜手開發(fā)新技術(shù)以協(xié)助客戶加速硅片生產(chǎn)的目標(biāo)感到自豪?!?/p>

            如需了解更多信息,請(qǐng)于 2018 年 5 月 1 日蒞臨 TSMC 技術(shù)研討會(huì)的 Mentor 展位(展位號(hào) 408),地址:加利福尼亞州圣克拉拉市圣克拉拉會(huì)議中心。



          關(guān)鍵詞: Mentor TSMC

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