簡述pcb外層蝕刻過程中應(yīng)注意的問題
大量涉及蝕刻面的質(zhì)量問題都集中在上板面被蝕刻的部分,而這些問題來自于蝕刻劑所產(chǎn)生的膠狀板結(jié)物的影響。對這一點的了解是十分重要的,因膠狀板結(jié)物堆積在銅表面上。一方面會影響噴射力,另一方面會阻檔了新鮮蝕刻液的補充,使蝕刻的速度被降低。正因膠狀板結(jié)物的形成和堆積,使得基板上下面的圖形的蝕刻程度不同,先進入的基板因堆積尚未形成,蝕刻速度較快, 故容易被徹底地蝕刻或造成過腐蝕,而后進入的基板因堆積已形成,而減慢了蝕刻的速度。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/201809/389145.htm蝕刻設(shè)備的維護
維護蝕刻設(shè)備的最關(guān)鍵因素就是要保證噴嘴的高清潔度及無阻塞物,使噴嘴能暢順地噴射。阻塞物或結(jié)渣會使噴射時產(chǎn)生壓力作用,沖擊板面。而噴嘴不清潔,則會造成蝕刻不均勻而使整塊電路板報廢。
明顯地,設(shè)備的維護就是更換破損件和磨損件,因噴嘴同樣存在著磨損的問題,所以更換時應(yīng)包括噴嘴。此外,更為關(guān)鍵的問題是要保持蝕刻機沒有結(jié)渣,因很多時結(jié)渣堆積過多會對蝕刻液的化學(xué)平衡產(chǎn)生影響。同樣地,如果蝕刻液出現(xiàn)化學(xué)不平衡,結(jié)渣的情況就會愈加嚴(yán)重。蝕刻液突然出現(xiàn)大量結(jié)渣時,通常是一個信號,表示溶液的平衡出現(xiàn)了問題,這時應(yīng)使用較強的鹽酸作適當(dāng)?shù)那鍧嵒驅(qū)θ芤哼M行補加。
蝕刻過程中應(yīng)注意的問題
減少側(cè)蝕和突沿,提高蝕刻系數(shù)
側(cè)蝕會產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時間越長,側(cè)蝕的情況越嚴(yán)重。側(cè)蝕將嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度,嚴(yán)重的側(cè)蝕將不可能制作精細導(dǎo)線。當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時,蝕刻系數(shù)就會升高,高蝕刻系數(shù)表示有保持細導(dǎo)線的能力,使蝕刻后的導(dǎo)線能接近原圖尺寸。無論是錫-鉛合金,錫,錫-鎳合金或鎳的電鍍蝕刻劑,突沿過度時都會造成導(dǎo)線短路。因為突沿容易撕裂下來,在導(dǎo)線的兩點之間形成電的拆接。
影響側(cè)蝕的因素有很多,下面將概述幾點s
1、蝕刻方式s
浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側(cè)蝕,潑濺和噴淋式蝕刻的側(cè)蝕較小,尤以噴淋蝕刻的效果最好。
2、蝕刻液的種類s
不同的蝕刻液,其化學(xué)組分不相同,蝕刻速率就不一樣,蝕刻系數(shù)也不一樣。
例如s酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3,而堿性氯化銅蝕刻系數(shù)可達到4。
3、蝕刻速率:
蝕刻速率慢會造成嚴(yán)重側(cè)蝕。提高蝕刻質(zhì)量與加快蝕刻速率有很大的關(guān)系,蝕刻速度越快,基板在蝕刻中停留的時間越短,側(cè)蝕量將越小,蝕刻出的圖形會更清晰整齊。
4、蝕刻液的PH值:
堿性蝕刻液的PH值較高時,側(cè)蝕會增大。為了減少側(cè)蝕,PH值一般應(yīng)控制在8.5以下。
蝕刻液的密度:
堿性蝕刻液的密度太低會加重側(cè)蝕,選用高銅濃度的蝕刻液對減少側(cè)蝕非常有利。
5)銅箔厚度:
要達到最小側(cè)蝕的細導(dǎo)線的蝕刻,最好采用(超)薄銅箔。而且線寬越細,銅箔厚度應(yīng)越薄。因為銅箔越薄在蝕刻液中的時間會越短,側(cè)蝕量就越小。
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