在EUV光刻技術(shù)上，日本公司壟斷了光刻膠的供應(yīng)

雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。

目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導(dǎo)體光刻技術(shù)，但是毫無疑問，這就是光刻技術(shù)的未來。

與任何未來一樣，它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機所使用的技術(shù)處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。

富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機和其他設(shè)備的芯片尺寸，并使它們更加節(jié)能。這款材料主要作為光致抗蝕劑的供應(yīng)，這款光敏材料在硅晶體的蝕刻中起主要作用。

日本公司早已抓住了光刻膠的供應(yīng)。例如，兩家日本公司JSR和信越化學(xué)，它們主要供應(yīng)用于控制EUV光刻機的光刻膠，EUV光刻機占光刻機市場的90％。這種實際上的壟斷地位甚至使日本可以通過這種材料的供應(yīng)來限制韓國，這個情況已經(jīng)在一年前的芯片市場上發(fā)生過。幸運的是，一切都解決了。

因此富士和住友化學(xué)提供用于EUV光刻的光刻膠將進(jìn)一步緩解這種情況，盡管它們也都是日本公司。

富士膠片正在投資45億日元（4260萬美元），在東京西南的靜岡縣裝備一家制造廠，明年開始批量生產(chǎn)光刻膠。根據(jù)公司代表的說法，其光致抗蝕劑會在硅上留下最少量的殘留材料，從而大大降低了芯片缺陷的可能性。

住友化學(xué)將在2022財年初完成大阪工廠的所有光刻膠產(chǎn)能（從設(shè)計到生產(chǎn)）。但是它作為193 nm掃描儀光刻膠的供應(yīng)商已經(jīng)和某家知名制造商提前簽署了未來產(chǎn)品的合同，可能是為臺積電供貨。

未來，用于3納米技術(shù)工藝的光致抗蝕劑生產(chǎn)問題將變得很重要，因為許多原因，現(xiàn)代光致抗蝕劑不適合使用。EUV技術(shù)需要使用獨特的光刻膠，并且工藝技術(shù)越小，這對光刻膠的要求就越高。