中國半導體行業(yè)10大光刻膠企業(yè)

光刻膠又叫光致抗蝕劑，制造一塊芯片往往要對硅片進行數(shù)十次光刻，除了用到光刻機，還要添加光刻膠作為抗腐蝕涂層。這是一種高頻剛需的材料，光刻膠生產(chǎn)技術較為復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。

說到材料就進入了今天的主題，我們不得不接受一個殘酷的現(xiàn)實，中國大陸不僅造不出光刻機、光刻膠領域也被卡脖子了。

今年五月份，日本對中國光刻膠提出了斷供，直接導致國內(nèi)多家晶圓廠將會面臨大缺貨的處境，按照工藝的先進程度，光刻膠依次分為G線、I線、KRFARFUV5種，日本此次擬對中國大陸斷供的是KRF光刻膠，ARF光刻膠的制造難度是最高的，是14納米七納米芯片制造過程中不可或缺的原材料。

不過，這也是目前國內(nèi)能夠大規(guī)模量產(chǎn)的最先進的一種，但自給率也才不過5%，ARFUV則完全依賴進口。

其實，早在5月30日，南大光電就已經(jīng)發(fā)布公告稱，公司自主研發(fā)的ARF光刻膠產(chǎn)品通過客戶認證，具備55納米工藝要求，南大光電成立于2000年12月，是以南京大學國家863計劃研究成果作為技術支持的中國高純金屬有機化合物歐元的產(chǎn)業(yè)化基地。

目前除了南大光電，國內(nèi)還有不少企業(yè)都加入了研發(fā)KRF級別以上光刻膠的隊伍中來。

比如徐州博康彤程新材，上海新陽半導體行業(yè)想要做到真正強大，不僅需要突破，制造端的技術限制，更要在原材料的供給上，不要拉后腿，只有這樣才能做到在各種危機面前不受他人牽制，能夠獨立自主地研發(fā)下去。

所以發(fā)展半導體材料也是重中之重，半導體設備是物理的世界材料，是化學的天堂，我們在為光刻輔助材料的國產(chǎn)化突破欣喜之余，也應該清醒地認識到中國與日本在材料領域的巨大差距，取長補短，積極進取，

接下來讓我們看一下是哪10家光刻膠企業(yè)吧！

一、晶瑞電材：

公司作為國內(nèi)高新技術企業(yè)，在微電子化學品的研究開發(fā)與生產(chǎn)當中一直處于行業(yè)領先位置，其核心產(chǎn)品主要包括光刻膠、功能性材料等。

二、新萊應材：

公司的核心產(chǎn)品均能應用于光刻膠設備當中，其客戶群體當中就含有光刻膠設備制造商。

三、芯源微：

產(chǎn)品包括光刻工序涂膠顯影設備和單片式濕法設備。

四、亞威股份：

公司與關聯(lián)方一同出資打造威邁芯材，對韓國WIMAS已經(jīng)完成了收購計劃，該韓國企業(yè)主要從事的是半導體化合物的生產(chǎn)開發(fā)與銷售。

五、華懋科技：

公司旗下持股公司徐州搏康目前為國內(nèi)重點量產(chǎn)高端光刻膠的企業(yè)，在EUV光刻膠領域當中處于國際水平的上游層次。

六、彤程新材：

公司旗下子公司北京科華微電子作為國內(nèi)僅有的一家擁有荷蘭曝光機的中外合資企業(yè)，在高檔光刻膠自主研發(fā)以及量產(chǎn)能力當中也屬于國家高新技術企業(yè)。

七、蘇大維格：

公司作為領先行業(yè)的微納結(jié)構(gòu)生產(chǎn)供應商，已經(jīng)實現(xiàn)自主研發(fā)出光刻機設備，并成立了微納光學的研發(fā)平臺，在各類型的產(chǎn)品中為客戶提供不同的設計與服務。

八、芯碁微裝：

公司專業(yè)從事以微納直寫光刻為技術核心的直接成像設備及直寫光刻設備的研發(fā)、制造、銷售以及相應的維保服務。

九、南大光電：

公司主要核心產(chǎn)品為ArF光刻膠產(chǎn)品，不僅得到了客戶的使用認證，還是國內(nèi)第一只通過驗證的國產(chǎn)ArF光刻膠產(chǎn)品。