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          “薄膜生長”國產(chǎn)實驗裝置在武漢驗收

          作者: 時間:2023-10-27 來源:SEMI 收藏

          據(jù)武漢市科技局官微消息,日前,芯片生產(chǎn)中的重要設(shè)備——“”實驗裝置在武漢通過驗收,這項原創(chuàng)性突破可提升芯片質(zhì)量。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202310/452147.htm

          據(jù)悉,是芯片生產(chǎn)的核心上游。這套自主研制的“”國產(chǎn)實驗裝置,由武漢大學(xué)劉勝教授牽頭,聯(lián)合華中科技大學(xué)、清華大學(xué)天津高端裝備研究院、華南理工大學(xué)、中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所、中國科學(xué)院微電子研究所等多家單位,歷時5年完成。

          這套“薄膜生長”國產(chǎn)實驗裝置由“進(jìn)樣腔”、“高真空環(huán)形機械手傳樣腔”等多個腔體和“超快飛秒雙模成像系統(tǒng)”、“超快電子成像系統(tǒng)”等多個構(gòu)件組成。據(jù)武漢大學(xué)副研究員吳改介紹,這套裝置將硅、藍(lán)寶石等襯底放入進(jìn)樣腔,通過“高真空環(huán)形機械手”將襯底轉(zhuǎn)運至功能不同的腔體,實現(xiàn)襯底的預(yù)處理、薄膜生長、等離子體清洗等過程。



          關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 薄膜生長 工藝

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