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          特斯拉明年將采用臺積電3nm芯片
          
						
          
				作者：時間：2023-12-28來源：SEMI收藏
			
          

			
          


			
          
			
          


			
          
			
          


			
          
			
          
			
			
          
			
			
          


			
          
                
				
          據外媒，除了傳統客戶聯發科、AMD、英偉達、英特爾、高通外，特斯拉也已確認參與臺積電(TSMC)明年的3nm NTO芯片設計定案（New Tape-Outs，NTOs）。報道稱，特斯拉成為臺積電N3P的客戶也表明，其打算利用該尖端技術生產下一代全自動駕駛(FSD)智能駕駛芯片。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/202312/454310.htm
          據了解，臺積電N3P工藝計劃預計在2024年投產，與N3E工藝相比，N3P的性能提高5%，功耗降低5%到10%，芯片密度提高1.04倍。臺積電表示，N3P的性能、功耗和面積(PPA)指標，以及技術成熟度，都超過了英特爾的18A工藝。
          
				
            	
                
				
								
          
				          
                
				              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
          


			
          
			
            
			  
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