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          臺積電2nm制程進展順利 晶圓廠最快4月進機

          作者:陳玲麗編譯時間:2024-01-18來源:電子產品世界收藏

          在3nm工藝于2022年四季度開始量產之后,研發和量產的重點隨之轉向下一代工藝,計劃在2025年實現量產。這意味著工廠及相關的設備要做好準備,以確保按計劃順利量產。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202401/454973.htm

          進入時代的進展順利,最新援引供應鏈合作伙伴的消息報道稱,位于新竹科學園區的寶山首座P1已經完成鋼構工程,并正在進行無塵室等內部工程 —— 最快4月啟動設備安裝工作,相關動線已勘查完成。而P2及高雄兩地的工廠則計劃在2025年開始制造采用此項技術的2nm芯片,中科二期則視需求狀況預定在2027年評估該廠將采用2nm還是A14工藝節點。

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          據預測,的2nm技術將在今年末將做好風險生產的準備,并在2025年末進入大批量生產。盡管臺積電暫未披露相關設備采購計劃,但無疑最新型的EUV光刻機是達成2nm制程的必要條件,而英特爾已率先入手ASML的首臺High-NA EUV光刻機(每臺售價高達4億歐元)。

          另外,臺積電自2023年第三季度以來,其3nm工藝節點的營收比例已升至約6%,目前每月3nm產能已逐步攀升至10萬片,且預計今年將對收入的貢獻比重將更高。3nm節點中,繼N3B之后,性能更好的N3E于2023年第四季度開始量產,此外N3P、N3X工藝也將滿足各類客戶的需求。

          值得一提的是,臺積電是全球最大的芯片制造企業之一,在先進制程技術方面擁有豐富的經驗。隨著2nm晶圓工廠的陸續落成和投入運營,臺灣地區的半導體產業將繼續保持領先地位,進一步提升在全球市場上的競爭力。



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