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          老美失算了!想引領(lǐng)芯片技術(shù)卻讓ASML獨(dú)大

          作者: 時(shí)間:2024-04-15 來(lái)源: 收藏

          美國(guó)為了擺脫對(duì)他國(guó)的依賴,力促制造業(yè)回流本土,美媒撰文分析,美國(guó)曾有機(jī)會(huì)引領(lǐng)制造技術(shù)卻錯(cuò)過(guò)了機(jī)會(huì),不只讓獨(dú)大,也讓亞洲制造商臺(tái)積電、三星等主導(dǎo)了生產(chǎn)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202404/457642.htm

          根據(jù)MarketWatch報(bào)導(dǎo),在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)占有關(guān)鍵地位,是目前全球唯一有能力生產(chǎn)微影設(shè)備極紫外光(EUV)曝光機(jī)的企業(yè)。Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula指出,臺(tái)積電、英特爾和三星之間競(jìng)爭(zhēng)激烈,身為設(shè)備供貨商的處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。

          至于美國(guó)為何會(huì)失去對(duì)EUV技術(shù)這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)的控制權(quán)?美國(guó)財(cái)經(jīng)媒體報(bào)導(dǎo),主因是英特爾的的戰(zhàn)略錯(cuò)誤,時(shí)任執(zhí)行長(zhǎng)布萊恩·科再奇(Brian Krzanich)不相信該技術(shù)能夠以經(jīng)濟(jì)的規(guī)模發(fā)揮作用,因此放棄了ASML第1代EUV機(jī)器的生產(chǎn)。

          Brian Krzanich對(duì)于英特爾在尖端芯片制造制程方面領(lǐng)先于同行充滿信心,但事實(shí)證明這是1個(gè)錯(cuò)誤決定,臺(tái)積電使用EUV制程,在2018年左右首次在技術(shù)上超越英特爾。

          英特爾執(zhí)行長(zhǎng)的基辛格(Pat Gelsinger)則希望他不會(huì)重蹈前任的覆轍,英特爾已收到ASML第一臺(tái)最新型高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī),在接下來(lái)幾年,英特爾打算將此系統(tǒng)部署到18A后的節(jié)點(diǎn)(1.8納米制程)。




          關(guān)鍵詞: 芯片 ASML

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