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          SK海力士與臺積電攜手加強HBM技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)力

          作者: 時間:2024-04-19 來源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

          ·雙方就4研發(fā)和下一代封裝技術(shù)合作簽署諒解備忘錄

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202404/457830.htm

          ·通過采用的先進制程工藝,提升4產(chǎn)品性能

          ·“以構(gòu)建IC設(shè)計廠、晶圓代工廠、存儲器廠三方合作的方式,突破面向AI應(yīng)用的存儲器性能極限”

          2024年4月19日,SK宣布,公司就下一代產(chǎn)品生產(chǎn)和加強整合HBM與邏輯層的先進封裝技術(shù),將與公司密切合作,雙方近期簽署了諒解備忘錄(MOU)。公司計劃與合作開發(fā)預(yù)計在2026年投產(chǎn)的HBM4,即第六代HBM產(chǎn)品。

          SK表示:“公司作為AI應(yīng)用的存儲器領(lǐng)域的領(lǐng)先者,與全球頂級邏輯代工企業(yè)臺積電攜手合作,將會繼續(xù)引領(lǐng)HBM技術(shù)創(chuàng)新。通過以構(gòu)建IC設(shè)計廠、晶圓代工廠、存儲器廠三方技術(shù)合作的方式,公司將實現(xiàn)存儲器產(chǎn)品性能的新突破。”

          兩家公司將首先致力于針對搭載于HBM封裝內(nèi)最底層的基礎(chǔ)裸片(Base Die)進行性能改善。HBM是將多個DRAM裸片(Core Die)堆疊在基礎(chǔ)裸片上,并通過TSV技術(shù)進行垂直連接而成?;A(chǔ)裸片也連接至GPU,起著對HBM進行控制的作用。

          SK以往的HBM產(chǎn)品,包括HBM3E(第五代HBM產(chǎn)品)都是基于公司自身制程工藝制造了基礎(chǔ)裸片,但從HBM4產(chǎn)品開始計劃采用臺積電的先進邏輯(Logic)工藝。若在基礎(chǔ)裸片采用超細(xì)微工藝可以增加更多的功能。由此,公司計劃生產(chǎn)在性能和功效等方面更廣的滿足客戶需求的定制化(Customized)HBM產(chǎn)品。

          與此同時,雙方將協(xié)力優(yōu)化SK海力士的HBM產(chǎn)品和臺積電的CoWoS**技術(shù)融合,共同應(yīng)對HBM相關(guān)客戶的要求。

          SK海力士AI Infra擔(dān)當(dāng)社長金柱善表示:“通過與臺積電的合作伙伴關(guān)系,公司不僅將開發(fā)出最高性能的HBM4,還將積極拓展與全球客戶的開放性合作(Open Collaboration)。今后,公司將提升客戶定制化存儲器平臺(Custom Memory Platform)的競爭力,以鞏固公司‘面向AI的存儲器全方位供應(yīng)商’的地位?!?/p>

          臺積電業(yè)務(wù)開發(fā)和海外營運辦公室資深副總經(jīng)理暨副共同營運長張曉強表示:“多年來,臺積電與SK海力士已經(jīng)建立了穩(wěn)固的合作伙伴關(guān)系。通過與此融合了最先進的邏輯工藝和HBM產(chǎn)品,向市場提供了全球領(lǐng)先的AI解決方案。展望新一代HBM4,我們相信兩家公司也通過密切合作提供最佳的整合產(chǎn)品,為我們的共同客戶開展新的AI創(chuàng)新成為關(guān)鍵推動力。”

          * 硅通孔(TSV,Through Silicon Via):在DRAM芯片打上數(shù)千個細(xì)微的孔,并通過垂直貫通的電極連接上下芯片的技術(shù)。

          ** CoWoS(Chip on Wafer on Substrate):臺積電獨有的制程工藝,是一種在稱為硅中階層(Interposer)的特殊基板上搭載并連接GPU、xPU等邏輯芯片和HBM的封裝方式。其技術(shù)在2D封裝基板上集成邏輯芯片和垂直堆疊(3D)的HBM,并整合成一個模組,因此也被稱為2.5D封裝技術(shù) 。




          關(guān)鍵詞: 海力士 HBM 臺積電

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