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          三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品,支持ASML下一代光刻機(jī)

          作者: 時(shí)間:2024-06-19 來(lái)源:SEMI 收藏

          日前,日本三井化學(xué)宣布將在其巖國(guó)大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線,開(kāi)始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端的零部件產(chǎn)品(保護(hù)半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202406/460031.htm

          據(jù)悉,此種CNT薄膜可以實(shí)現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過(guò)1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為5000張,生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于2025年12月完工,可為將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV提供支持。



          關(guān)鍵詞: 光刻機(jī) 納米管薄膜 ASML

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