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	 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 價值3.83億美元！Intel拿下全球第二臺High NA EUV光刻機(jī)
          
    
          

          

          


	
	
	

          
	
          
		
          
			
          價值3.83億美元！Intel拿下全球第二臺High NA EUV光刻機(jī)
          
						
          
				作者：
				時間：2024-08-07
				來源：快科技
				
				
				
				
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          8月6日消息，在近日的財(cái)報(bào)電話會議上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV（極紫外光刻機(jī)）。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/202408/461736.htm
          High NA EUV光刻機(jī)是目前世界上最先進(jìn)的芯片制造設(shè)備之一，其分辨率達(dá)到8納米，能夠顯著提升芯片的晶體管密度和性能，是實(shí)現(xiàn)2nm以下先進(jìn)制程大規(guī)模量產(chǎn)的必備武器。
          帕特·基辛格表示，第二臺High NA設(shè)備即將進(jìn)入Intel位于美國俄勒岡州的晶圓廠，預(yù)計(jì)將支持公司新一代更強(qiáng)大的計(jì)算機(jī)芯片的生產(chǎn)。
          此前，Intel已于去年12月接收了全球首臺High NA EUV光刻機(jī)，并在俄勒岡州晶圓廠完成了組裝。
          此次第二臺設(shè)備的引入，將進(jìn)一步提升Intel在高端芯片制造領(lǐng)域的競爭力，有望幫助公司在2025年實(shí)現(xiàn)對臺積電等競爭對手的超越。
          High NA EUV光刻機(jī)的引入，是Intel"IDM 2.0"戰(zhàn)略的一部分，該戰(zhàn)略旨在通過技術(shù)創(chuàng)新和工藝提升，重塑Intel在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)地位。
          Intel計(jì)劃在2027年前將High NA EUV技術(shù)用于商業(yè)生產(chǎn)，并在2030年前實(shí)現(xiàn)代工業(yè)務(wù)的收支平衡。
          
				
            
                
			
							
          
                
			              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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