<meter id="pryje"><nav id="pryje"><delect id="pryje"></delect></nav></meter>
          <label id="pryje"></label>

          新聞中心

          EEPW首頁 > 電源與新能源 > 設計應用 > PMOS緩啟電路

          PMOS緩啟電路

          作者: 時間:2024-12-27 來源:硬件筆記本 收藏

          本文來源于一個實際項目,需要由一個P作為開關來控制的導通。但對實際參數(shù)進行測量時,發(fā)現(xiàn)P導通時間太短,使得后級電路的dV/dt太大,造成一些不好的影響,因此本文對如何延緩P啟動速度進行簡單學習與概述性介紹。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202412/465848.htm

          1 米勒平臺


          上圖所示為PMOS的等效模型,其柵極、源極與漏極相互之間都存在寄生電容,分別為CGD,CGS,CDS。MOS管的開啟時序如下圖所示:


          開啟過程如下:

          (1)T0-T1階段,G端輸出電平,CGS開始從0充電直至VGS(th),漏極源極之間的電壓UDS與電路IDS保持不變,MOS管保持關斷狀態(tài);另外此時的CGD的D端電壓高于G端,但由于MOS管關斷,RDS(等效為CDS)為無窮大,所以CGD兩端電壓基本保持不變,流經(jīng)其電流也非常小。

          (2)T1-T2階段,MOSFET導通,進入恒流區(qū),柵源電容繼續(xù)充電。隨著UGS的增加,漏極電流IDS從0開始增加至滿負荷電流,柵極電壓UGS從電壓VGS繼續(xù)上升。此階段,由于CGD的原因,VDS保持不變。

          (3)T2-T3階段,隨著IDS的增加,RDS逐漸減小,CGD通過RDS放電,VDS下降,VG會為CGD反向充電,CGS被分流,導致VGS不再上升,維持在Vgp不變形成一個平臺,這個平臺稱為米勒平臺。在這個階段,IDS電流很大,RDS不是最小,所以MOS管的損耗較大。

          (4)在T3處,CGD反向充滿電,G端驅(qū)動電壓繼續(xù)為CGS充電,VGS繼續(xù)上升直至與驅(qū)動電壓相同;VDS下降使得MOS管進入飽和區(qū),MOSFET完全打開。

          由于米勒效應,MOSFET柵極驅(qū)動過程中,會形成平臺電壓,引起開關時間變長,開關損耗增加,給MOS管的正常工作帶來非常不利的影響。


          2 MOS管作為開源開關

          在電力電子中,常利用MOS管的飽和區(qū)特性將其作為負載開關,如下圖所示:


          上圖電路主要由MOSFET與控制部分組成,其中MOSFET可以選擇PMOS或NMOS。它們分別有各自的好處,針對不同的電路特點需分別選擇。


          2.1 NMOS作為開關

          PMOS的載流子為空穴,NMOS載流子為電子,因此在相同的工藝及尺寸面積條件下,NOMS管導通后的RDS更小,電流會更大,其更適合大電流場合下使用。

          當NOMS管導通時,VG >= VOUT + Vth,因此,其需要一個單獨的電壓來保持VGS大于閾值電壓,例如下圖所示,VGATE需要大于輸入電壓與閾值電壓之和。在很多場合下,電路板上并沒有這樣的電壓,所以一般使用NMOS控制需要更復雜的電路。


          2.2 PMOS作為開關

          PMOS作為開關可如下圖所示,其導通時只需要VIN >= VG + Vth即可,因此,其不需要另一個電壓來保持MOS管的打開狀態(tài),相比NMOS作為開關控制,其電路較為簡單。


          2.3NMOS與PMOS效率比較

          MOS管在導通過程中與導通后,由于RDS的存在,且負載電流較大,因此會有很大的損耗,特別是在第一節(jié)提到的米勒平臺期間。


          另外由于RDS,S級電壓會比輸入電壓有所下降,RDS越大,損失越大,如下圖所示:


          由于工藝的不同,NMOS的RDS通常比PMOS小數(shù)倍,特別是在大電流場合下,其優(yōu)勢更加明顯。但在小電流等低功耗場合下,PMOS更簡單的控制電路帶來的優(yōu)勢更為明顯。


          3 浪涌電流(Inrush current)及其控制


          如果MOS管后接一個容性負載,當電路突然導通時,電容迅速充電,會有一個非常大的涌浪電流,其大小為:


          可以看出,MOS管導通速度越快,浪涌電流越大,會給電路帶來很大的危害,比如炸管。因此,需要延長MOS管的導通時間。這時就需要合理使用第一節(jié)講到的米勒平臺了。

          米勒平臺形成的原因是VG需要對CDG電容充電,其容值越大,米勒平臺時間越長,因此,可以直接在MOS管的柵漏之間并聯(lián)一個電容C1,如下圖所示。這樣的話,dVSD/dt就會變小,inrush current會變小。


          上圖中的R1與R2是一個分壓網(wǎng)絡,其值決定了PMOS的柵源電壓,一般VGS有限制,所以R1與R2需滿足:


          R2一般可在1k-10k,又由于VGS與RDS的趨勢曲線如下,所以R1也不可太小,否則會使得RDS太大。一般取VSG的最大值計算,在此基礎上將R1增加一些,這樣管子被完全打開的同時,RDS不會太大。


          C1的值可以通過以下公式計算,其中g(shù)fs為跨導,IINRUSH為限制的最大浪涌電流,CLOAD為未添加R1與C1時,對板子浪涌電流實測結(jié)果估算而來。


          實驗室并無電流探頭,因此無法得知CLOAD的值,因此可大概選擇C1容值為10-100nF。

          下圖為使用IRF6216作為電源開關進行仿真計算,輸入電壓為70V,負載電流為0.7A,帶一個容性負載。


          首先選擇R2 = 10kΩ,在IRF6216的手冊上標注其VGS,max = 20V,因此可計算得R1為25kΩ,可以選擇再大一些的阻值。在沒有C1的情況下,其ID曲線如圖所示:初始的浪涌電流達到了80A。


          在MOS管的GD之間并聯(lián)一個電容C,取值為20nF,其浪涌電流降低到了10A,如下圖所示。相應得,其后級電壓變化速度降低。


          由于米勒平臺時間變長,MOS管在這段時間內(nèi)RDS較大,所以其熱損耗會變大;因此如果在高溫環(huán)境下,不可使米勒平臺時間過長,否則MOS管發(fā)熱過大,可能會損壞器件。




          評論


          相關推薦

          技術(shù)專區(qū)

          關閉
          看屁屁www成人影院,亚洲人妻成人图片,亚洲精品成人午夜在线,日韩在线 欧美成人 (function(){ var bp = document.createElement('script'); var curProtocol = window.location.protocol.split(':')[0]; if (curProtocol === 'https') { bp.src = 'https://zz.bdstatic.com/linksubmit/push.js'; } else { bp.src = 'http://push.zhanzhang.baidu.com/push.js'; } var s = document.getElementsByTagName("script")[0]; s.parentNode.insertBefore(bp, s); })();