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          功率器件的熱設計基礎(一)---功率半導體的熱阻

          作者: 時間:2025-01-23 來源:英飛凌 收藏

          / 前言 /

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202501/466594.htm

          功率半導體是實現(xiàn)IGBT、碳化硅SiC高功率密度的基礎,只有掌握功率半導體的基礎知識,才能完成精確,提高的利用率,降低系統(tǒng)成本,并保證系統(tǒng)的可靠性。

          熱設計基礎系列文章會比較系統(tǒng)地講解熱設計基礎知識,相關標準和工程測量方法。

          散熱

          功率半導體器件在開通和關斷過程中和導通電流時會產生損耗,損失的能量會轉化為熱能,表現(xiàn)為半導體器件發(fā)熱,器件的發(fā)熱會造成器件各點溫度的升高。

          半導體器件的溫度升高,取決于產生熱量多少(損耗)和散熱效率(散熱通路的)。

          IGBT模塊的風冷散熱

          IGBT模塊的風冷散熱是典型的散熱系統(tǒng),同時包含了散熱的形式三種: 熱傳導、熱輻射和熱對流。

          熱傳導:

          熱傳導是指固體或液體之間因為溫度差而產生熱量傳遞或擴散的現(xiàn)象。熱傳導的特性可以類比為電氣工程中的歐姆定律,如圖所示。熱能工程中的熱源就像電氣工程中的電源,熱能工程中的受熱體就像是電氣工程中的負載,電氣工程有電阻電容元件,熱能工程也有類似屬性的元件,稱為和熱容。

          熱阻是一個在熱傳導中至關重要的概念,它描述了物質對熱傳導的阻力,為傳熱過程中溫度差與熱流量比值。這一參數(shù)在電子元器件設計、散熱方案設計等多個領域都扮演著重要角色。

          R th =熱阻

          P (P th,C ) =功率(熱流量)

          ΔT=溫差

          這個定義,就與電路中的歐姆定律一致:

          不同介質(固體、液體或氣體)導熱能力不同,以熱的形式傳輸熱能的能力定義為導熱系數(shù)λ。因為導熱系數(shù)是介質的特性,所以某種材料的導熱系數(shù)可以看作是一個常數(shù)。導熱系數(shù)又稱熱導率,單位是W/(m·K)。下表給出了一些材料的λ值。

          從上表可以看到功率半導體常用材料的導熱系數(shù),如硅的導熱系數(shù)是100W/(m·K),而碳化硅的導熱系數(shù)是490W/(m·K),所以說碳化硅散熱性比硅好很多,且優(yōu)于金屬銅25%,甚至比金屬銀還好。

          熱阻與導熱系數(shù):

          熱阻與導熱介質的橫截面積A成反比,與厚度d成正比,其單位是K/W:

          金屬鋁和銅有很好的導熱性,常用于制作功率半導體的散熱器,但再好的導體也會引入熱阻,而且厚度越大,熱阻越高。

          有了熱阻和導熱系數(shù)的概念,就可以與產品聯(lián)系起來了:

          實例一

          功率模塊的結構和熱阻

          熱阻是由材料導熱系數(shù),厚度,面積決定的,一個實際帶銅基板的IGBT功率模塊的熱阻分布如下圖所示,芯片焊料導熱性并不好,導熱系數(shù)30W/(m·K)左右,但很薄,厚度往往只有0.1mm,所以在功率模塊中熱阻只占4%。而DCB中的陶瓷導熱系數(shù)25 W/(m·K),與焊料差得不多,但厚度有0.38mm,幾乎是焊接層的4倍,所以熱阻占比高達28%。

          我們在定義模塊殼到散熱器的熱阻時,假設導熱硅脂的導熱系數(shù)是1W/(m·K),厚度為30-100um,在芯片的散熱通路中,其占比高達37%,是最大的部分。所以用更好的導熱材料緩解散熱瓶頸,提高功率密度的重要舉措,這為什么提供預涂導熱材料的模塊。

          實例二

          芯片厚度與熱阻

          同樣我們也可以仿真分析一下,芯片厚度對熱阻的影響。

          為了簡化問題,我們用采用擴散焊的單管為例,其結構簡單。由于采用擴散焊,熱阻主要由芯片和銅框架構成,仿真條件:假設硅芯片的面積5.1mm2 ,硅的芯片厚度分別為350um和110um,芯片損耗 170W。

          可以直觀地看清硅導熱性不是特別好,相同條件下,350um的芯片要比110um芯片溫度高15度,原因是芯片的厚度造成的熱阻增大。

          但器件的耐壓與漂移區(qū)的長度和電阻率有關,太薄的晶圓意味著更低的耐壓,太厚漂移區(qū)漂移區(qū)電阻也更大,熱阻也增加,開發(fā)IGBT薄晶圓技術就是一種完美的設計。

          實例三

          SiC碳化硅芯片的熱優(yōu)勢

          功率開關器件的耐壓與其漂移區(qū)的長度和電阻率有關,而MOSFET是單極性功率開關器件,其通態(tài)電阻又直接決定于漂移區(qū)的長度和電阻率,與其制造材料臨界擊穿電場強度的立方成反比。因為4H-SiC有10倍于Si的臨界擊穿電場強度,因此基于SiC的允許使用更薄的漂移區(qū)來維持更高的阻斷電壓,從而顯著降低了正向壓降以及導通損耗,同時減小熱阻。

          做一個paper design例子,如果要獲得5000V的耐壓,使用摻雜為2.5*10 13 /cm 3 的襯底材料,Si基功率器件需要漂移層厚度0.5mm,單位面積電阻為10Ωcm 2 ;SiC MOSFET使用摻雜為2.0*10 15 /cm 3 的漂移層,需要的厚度僅有0.05mm,單位面積電阻僅為0.02Ωcm 2 。

          同時碳化硅的導熱系數(shù)是490W/(m·K),所以碳化硅芯片可以實現(xiàn)很高的功率密度,就是說,芯片面積很小,也可以保證芯片的散熱。

          SiC的禁帶寬度3.23ev,相應的本征溫度可高達800攝氏度。如果能夠突破材料及封裝的溫度瓶頸,則功率器件的工作溫度將會提升到一個全新的高度。



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