LED芯片的制造工藝流程
外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。
外延生長的基本原理是:在一塊加熱至適當溫度的襯底基片(主要有藍寶石和、SiC、Si)上,氣態(tài)物質(zhì)InGaAlP有控制的輸送到襯底表面,生長出特定單晶薄膜。目前LED外延片生長技術(shù)主要采用有機金屬化學(xué)氣相沉積方法。
其實外延片的生產(chǎn)制作過程是非常復(fù)雜的,在展完外延片后,下一步就開始對led外延片做電極(P極,N極),接著就開始用激光機切割LED外延片(以前切割LED外延片主要用鉆石刀),制造成芯片后,在晶圓上的不同位置抽取九個點做參數(shù)測試,如圖所示:
1、主要對電壓、波長、亮度進行測試,能符合正常出貨標準參數(shù)的晶圓片再繼續(xù)做下一步的操作,如果這九點測試不符合相關(guān)要求的晶圓片,就放在一邊另外處理。
2、晶圓切割成芯片后,100%的目檢(VI/VC),操作者要使用放大30倍數(shù)的顯微鏡下進行目測。
3、接著使用全自動分類機根據(jù)不同的電壓,波長,亮度的預(yù)測參數(shù)對芯片進行全自動化挑選、測試和分類。
4、最后對LED芯片進行檢查(VC)和貼標簽。芯片區(qū)域要在藍膜的中心,藍膜上最多有5000粒芯片,但必須保證每張藍膜上芯片的數(shù)量不得少于1000粒,芯片類型、批號、數(shù)量和光電測量統(tǒng)計數(shù)據(jù)記錄在標簽上,附在蠟光紙的背面。藍膜上的芯片將做最后的目檢測試與第一次目檢標準相同,確保芯片排列整齊和質(zhì)量合格。這樣就制成LED芯片(目前市場上統(tǒng)稱方片)。
在LED芯片制作過程中,把一些有缺陷的或者電極有磨損的芯片,分撿出來,這些就是后面的散晶,此時在藍膜上有一些不符合正常出貨要求的晶片,也就自然成了邊片或毛片等。
剛才談到在晶圓上的不同位置抽取九個點做參數(shù)測試,對于不符合相關(guān)要求的晶圓片作另外處理,這些晶圓片是不能直接用來做LED方片,也就不做任何分檢了,直接賣給客戶了,也就是目前市場上的LED大圓片(但是大圓片里也有好東西,如方片)。
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