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          集成電路芯片熱機械應(yīng)力特征研究

          作者:蘇勝新 杜新綱 喬彥彬 時間:2014-10-28 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏
          編者按:  摘要:本文在試驗和理論兩個方面,系統(tǒng)研究了芯片熱機械應(yīng)力特征。作者利用紅外熱成像技術(shù)研究了芯片內(nèi)部熱機械應(yīng)力隨工作電流的瞬態(tài)變化關(guān)系,發(fā)現(xiàn)芯片熱機械應(yīng)力隨工作電流呈對數(shù)增長。同時本文利用有限元方法模擬計算了芯片熱機械應(yīng)力在不同電流密度下與總工作電流的關(guān)系,從而驗證了上述實驗結(jié)論,并發(fā)現(xiàn)隨著電流密度增加芯片內(nèi)部熱機械應(yīng)力上升速率變快。   引言   隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展,電路元件集成度不斷提高,盡管芯片總功耗在降低,由于芯片面積和元件尺寸不斷減小,導致芯片的熱功耗密度不斷增大,芯片內(nèi)部溫度和熱機械

            2 結(jié)果和討論

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/264522.htm

            首先,我們借助技術(shù)測試了芯片在不同工作電流下瞬態(tài)熱應(yīng)力曲線,本實驗 用到的紅外熱像儀是FLIR公司的型號為SC5700的紅外熱像儀,其工作波段為2.5~5.1 mm,數(shù)據(jù)采集頻率為115Hz,圖2(a)顯示的是熱源5的在不同的工作總電流下隨時間的變化曲線。工作總電流施加方式如下:每條熱源施加0.5 A工作電流,按照5→4→6→3→7→2→8→1→9順序依次增加發(fā)光單元數(shù)目,則總電流Itotal= n×0.5 A (n=1, 2, 3…9),每增加一條熱源測試一次熱源5的瞬態(tài),如圖2(a)所示。同時我們測得了熱源5的穩(wěn)態(tài)與工作總電流的關(guān)系,如圖2(b)所示。我們通過最小二乘法擬合發(fā)現(xiàn)芯片熱機械應(yīng)力與總工作電流的對數(shù)成正比,即



            為了驗證上述實驗結(jié)論,我們利用有限元方法按照實驗電流施加方式模擬了芯片在不同電流密度下芯片熱機械應(yīng)力與電流的關(guān)系,有限元模型如圖1(b)所示,模擬結(jié)果如圖3(a)所示。從模擬結(jié)果可以看出,在不同電流密度下芯片熱機械應(yīng)力隨工作 電流呈對數(shù)關(guān)系,與實驗結(jié)果相一致。我們進一步通過最小二乘法擬合得到了系數(shù)A,如圖3(b)所示,發(fā)現(xiàn)系數(shù)A與電流密度呈線性關(guān)系。此結(jié)果表明隨著電流密度增加芯片熱機械應(yīng)力增長變快。

            研究發(fā)現(xiàn),芯片內(nèi)部熱機械應(yīng)力達到一定值后會導致芯片發(fā)生塑性形變,通過有限元模擬我們得到了芯片溫度與熱機械應(yīng)力的關(guān)系,如圖4所示。文獻報道,當基芯片局域溫度達到450-500 K時芯片材料就開始發(fā)生塑性形變,我們計算結(jié)果表明,在局域溫度在450-500 K時,其對應(yīng)的熱機械應(yīng)力在40~50 MPa之間[9],換言之,當芯片的局域熱機械應(yīng)力達到40~50 MPa時芯片開始發(fā)生塑性變形,導致芯片失效,其電學參數(shù)會發(fā)生嚴重變化。

            3 結(jié)論

            作者自主設(shè)計了一款芯片在實驗上考核了芯片熱機械應(yīng)力與工作電流的關(guān)系,發(fā)現(xiàn)芯片熱機械應(yīng)力與工作電流呈對數(shù)關(guān)系。在理論上利用有限元方法驗證了實驗結(jié)果,該研究結(jié)果為考核芯片熱機械應(yīng)力失效奠定了一定的基礎(chǔ)。

            參考文獻:
            [1]田民波.電子封裝工程.北京:清華大學出版社,2003.9
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            [3]孫炳華. CSP結(jié)構(gòu)的熱應(yīng)力分析[J].信息技術(shù),2008,11:46-52.
            [4]Martín-Martín A,Avella M,Iñiguez M P,et al.Thermomechanical model for the plastic deformation in high power laser diodes during operation[J].J. Appl. Phys.,2009,106(7): 073105-1–073105-8
            [5]Qiao Y,F(xiàn)eng S,Xiong C,et al.Working Thermal Stresses in Al/ High-Power Laser Diode Bars Using Infrared Thermography[J].IEEE Trans. Dev. Mater. Rel.,2014,14(1):413-417
            [6]Bougataya M,Lakhsasi A,Massicotte D.VLSI Thermo-mechanical Stress Analysis by Gradient Direction Sensor Method[C].CCECE/CCGEI,2005,710-713
            [7]Wojciak W,et al.Thermal monitoring of a single heat source in semiconductor devices-the first approach[J].Microelectronics Journal,1997,313-316
            [8]Springer Handbook of Condensed Matter and Materials Data.edited by Martienssen W and Warlimont H(Springer,Berlin,2005)
            [9]Suzuki T,Yasutomi T,Tokuoka T,et al.Plastic deformation of GaAs at low temperatures[J].Philos. Mag. A,1999,79(11):2637.

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