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          瑞薩電子開(kāi)發(fā)28奈米嵌入式快閃記憶體技術(shù)

          作者: 時(shí)間:2015-05-21 來(lái)源:eettaiwan 收藏

            電子(Renesas Electronics)已開(kāi)發(fā)全新快閃記憶體技術(shù),可達(dá)到更快的讀取與覆寫(xiě)速度。這項(xiàng)新的技術(shù)是針對(duì)采用28奈米(nm)嵌入式快閃記憶體()制程技術(shù)的晶片內(nèi)建快閃記憶體微控制器(MCU)所設(shè)計(jì)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/274503.htm

            為因應(yīng)近來(lái)的環(huán)境議題,世界各國(guó)對(duì)于汽車(chē)性能的法規(guī)(CO2排放、燃油效率及廢氣)皆日趨嚴(yán)格。因此,傳動(dòng)系統(tǒng)必須支援新的引擎控制方法。此外,先進(jìn)駕駛輔助系統(tǒng)(ADAS)現(xiàn)在希望能創(chuàng)造安全、防護(hù)及舒適的汽車(chē)體驗(yàn)。為因應(yīng)上述市場(chǎng)需求,汽車(chē)MCU必須進(jìn)一步提升效能,甚至進(jìn)一步降低功耗。

            正持續(xù)開(kāi)發(fā)以SG-MONOS架構(gòu)為基礎(chǔ)的MCU 記憶體,此架構(gòu)在高可用性、高速及低功率方面皆獲得良好的記錄。從40奈米制程轉(zhuǎn)移至業(yè)界最先進(jìn)的28奈米制程的同時(shí),此新技術(shù)可透過(guò)優(yōu)異的電路技術(shù)達(dá)到更大的記憶體容量及更高的處理效能。

            新的快閃記憶體技術(shù)功能為,由于記憶體單元的尺寸縮小,因此記憶體單元電流得以降低。雖然可透過(guò)字元線(xiàn)(Word Line)增速方式以確保足夠的讀取電流(記憶體單元選擇閘極)電壓,但必須考量閘氧化物可能會(huì)受到高溫的負(fù)面影響。利用記憶體單元電流的溫度依存性與周邊電晶體的可靠性是逆相關(guān)的事實(shí),已在字元線(xiàn)增速電壓中加入負(fù)向的溫度依存性,相較于簡(jiǎn)單的字元線(xiàn)增速方式,可使周邊電晶體的可靠性使用壽命提升10倍。結(jié)果將使隨機(jī)讀取速度從160增加至200 MHz,并達(dá)到高可靠性。

            瑞薩已開(kāi)發(fā)一項(xiàng)新的技術(shù),可藉由監(jiān)控抹除速度并控制抹除作業(yè),使最大抹除電壓在高速抹除時(shí)可受到抑制,以減輕層間介電質(zhì)的抹除電壓應(yīng)力。如此可在抹除作業(yè)中面對(duì)高電壓應(yīng)力時(shí)達(dá)到高可靠性,同時(shí)高壓金屬線(xiàn)與記憶體單元中的介電質(zhì)膜也會(huì)隨著更精細(xì)的制程節(jié)點(diǎn)而變得更薄。另外,瑞薩已開(kāi)發(fā)的新高速寫(xiě)入技術(shù),可藉由將負(fù)反向偏壓附加至記憶體單元以降低寫(xiě)入脈沖持續(xù)時(shí)間,并可平行寫(xiě)入多個(gè)快閃記憶體巨集。因此,可達(dá)到每秒2.0MB的寫(xiě)入速度,為最快的記憶體寫(xiě)入速度。

            由于預(yù)期未來(lái)實(shí)際產(chǎn)品的eFlash記憶體覆寫(xiě)周期計(jì)數(shù)將會(huì)增加,例如因?yàn)榭罩邪踩螺d(OTA)程式更新等,因此必須將電源供應(yīng)雜訊與電磁干擾(EMI)在覆寫(xiě)作業(yè)時(shí)對(duì)于整體系統(tǒng)運(yùn)作的影響降至最低。因此,瑞薩開(kāi)發(fā)一項(xiàng)技術(shù),采用展頻時(shí)脈產(chǎn)生(SSCG)做為產(chǎn)生用于快閃記憶體覆寫(xiě)作業(yè)之高電壓的充電泵的驅(qū)動(dòng)時(shí)脈,以降低上述感應(yīng)雜訊。

            瑞薩目前已建立4MB程式儲(chǔ)存eFlash記憶體與64KB資料儲(chǔ)存eFlash記憶體的原型,采用28奈米eFlash記憶體制程,并以超過(guò)200MHz的時(shí)脈達(dá)到6.4GB/s讀取速度。雖然瑞薩先前已確認(rèn)以40奈米制程封裝的原型晶片在160MHz時(shí)脈的讀取運(yùn)作,由于上述新技術(shù),目前進(jìn)一步確認(rèn)獲得25%的產(chǎn)品特性提升。

            此外,由于程式儲(chǔ)存eFlash記憶體容量的增加而必須符合更高寫(xiě)入效能的需求,瑞薩已達(dá)2.0MB/s寫(xiě)入速度。相對(duì)于瑞薩采用40奈米制程技術(shù)的傳統(tǒng)產(chǎn)品,效能提升近兩倍。瑞薩預(yù)期將可帶來(lái)極大的助益,協(xié)助客戶(hù)達(dá)到高容量的汽車(chē)快閃記憶體,藉由上述eFlash記憶體電路技術(shù),同時(shí)達(dá)到高效能與高可靠性。

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