Si2和SEMI宣布聯(lián)手改良 集成電路可制造性設(shè)計

2005年4月15日，德州奧斯汀，加州圣何塞——Silicon Integration Initiative（Si2）和SEMI于今日宣布一項合作協(xié)議，旨在應對日益復雜的集成電路可制造性設(shè)計以及不斷增長的成本問題。
 
半導體的設(shè)計制造日趨復雜，因此亟須設(shè)計商、制造商和技術(shù)供應商通力合作，以共同應對這一難題。SEMI成員已充分意識到這一需要，并對可制造性設(shè)計（DFM）這一領(lǐng)域頗感興趣。而Si2成員同樣在尋求更加深入地了解制造流程，以期開發(fā)出全新的工具和技術(shù)用于創(chuàng)造更為穩(wěn)健的設(shè)計方案，并在制造流程早期實現(xiàn)更高收益。

SEMI總裁兼首席執(zhí)行官麥雅斯說道：“在近期的一次SEMI調(diào)查中，半導體加工廠的經(jīng)理均將可制造性設(shè)計問題列為首要關(guān)注點。能夠與Si2就這一主題開展合作，以便更好地滿足SEMI成員及其客戶的需求，我們深感高興。與行業(yè)協(xié)會開展緊密合作將會使SEMI成員受益匪淺?！?/span>

Si2總裁兼首席執(zhí)行官Steve Schulz評論道：“由于獨立的設(shè)計和制造流程效率日益低下，規(guī)模日益縮減的亞波長IC正面臨諸多內(nèi)在問題，由此形成的經(jīng)濟動力促使半導體產(chǎn)業(yè)向‘系統(tǒng)觀’轉(zhuǎn)變。我們的成員公司意識到，這一產(chǎn)業(yè)問題只能通過跨行業(yè)的廣泛合作，尤其是與SEMI所代表的公司的合作方能妥善解決。我們需要開發(fā)能夠?qū)崿F(xiàn)合理化數(shù)據(jù)整合的全新標準界面、模型和語義學，發(fā)掘新的機遇，以創(chuàng)造行之有效的解決方案和更為高效的產(chǎn)業(yè)?！?/span>

Si2和SEMI將在可制造性設(shè)計領(lǐng)域內(nèi)展開合作，為各自成員提供增值服務。SEMI主要涉足貿(mào)易會展和標準制定領(lǐng)域，而Si2則主要從事EDA領(lǐng)域內(nèi)的協(xié)作研發(fā)。盡管雙方各自的業(yè)務領(lǐng)域大相徑庭，但雙方仍可通過合作為雙方的成員公司創(chuàng)造獨特的價值。為此，雙方業(yè)已制定一系列短期和持續(xù)性協(xié)作規(guī)劃。

最為重要的全球半導體制造博覽會——2005年美西半導體設(shè)備展將于2005年7月12日至14日在舊金山舉行。屆時，在新興技術(shù)大廳的全新EDA特別展區(qū)，Si2將主辦一系列技術(shù)演講，并就Si2成員的參與進行協(xié)調(diào)。

此外，全新的可制造性設(shè)計（DFM）研討會將于2005年秋在SEMI圣何塞辦事處舉行。此次會議將為半導體設(shè)備制造主管人員、芯片設(shè)計商、EDA供應商和設(shè)備公司高層就DFM協(xié)作事宜提供一個自由討論的論壇。

最后，SEMI將與Si2攜手參加即將到來的一系列EDA盛會，例如今年6月中旬在阿納海姆舉辦的設(shè)計自動化會議。其他領(lǐng)域的合作目前正在討論中。