飛思卡爾推出最高功率的LDMOS射頻功率晶體管
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這種超高效率晶體管是飛思卡爾承諾為工業(yè)、科技和醫(yī)療(ISM)市場提供業(yè)界最具創(chuàng)新力的射頻功率解決方案的最新例證。該晶體管的操作電壓為50V,與雙極和MOSFET 設備相比,它具有明顯的優(yōu)勢。它能夠提供核磁共振成像(MRI)系統(tǒng)、CO2激光器、等離子體發(fā)生器和其他系統(tǒng)所需的功率。
以空前的功率水平實現(xiàn)高增益,這大大減少了所需的部件數(shù)量,與傳統(tǒng)設計相比,部件數(shù)量減少了70%。部件數(shù)量的大幅減少,使主板空間要求和制造復雜性隨之降低,最終使放大器成本全面降低。
飛思卡爾副總裁兼射頻部總經理Gavin P. Woods表示:“MRF6VP11KH的推出,在效率、輸出功率、可靠性和設計集成的便利性等各方面設定了新的行業(yè)基準。任何其他射頻功率設備(包括LDMOS、MOSFET和雙極)都無法實現(xiàn)這樣的性能。我們將繼續(xù)針對這類市場推出創(chuàng)新設備,讓我們的客戶能夠攻克系統(tǒng)性能的新障礙?!?
這種晶體管在10-150 MHz之間運行。它采用飛思卡爾第六代高電壓 (VHV6) LDMOS(橫向擴散金屬氧化物晶體管)技術,是飛思卡爾承諾向工業(yè)、科技和醫(yī)療(ISM)市場提供業(yè)界最新射頻功率解決方案的最新例證。該產品組合2006年6月公布的業(yè)界領先的50V VHV6 LDMOS設備系列,能夠滿足在頻率高達450 MHz的HF、VHF和UHF上操作ISM應用所需的要求。
ABI Research半導體研究主任Lance Wilson表示: “飛思卡爾憑借50V LDMOS已經突破RF 1 kW脈沖功率級別。MRF6VP11KH的高增益、高效率、低熱阻和高輸出失配可存活性都給人留下了深刻印象。” linux操作系統(tǒng)文章專題:linux操作系統(tǒng)詳解(linux不再難懂)
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