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          承受業(yè)界強度的模擬器件

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          作者:Joshua Israelsohn 時間:2005-09-20 來源:EDN電子設(shè)計技術(shù) 收藏
          承受業(yè)界強度的模擬器件
          幾十年的工藝開發(fā)大多著眼于提高邏輯電路的密度與速度。最小門尺寸已經(jīng)從微米級縮小到100nm以下。然而,我們周圍的世界并沒有同步縮小,所以,對許多應(yīng)用來說,信號、噪聲和非周期事件仍與過去一樣大或者更大。作為I/O設(shè)計師該怎么辦?
            要點
            高電壓模擬工藝的改進能實現(xiàn)更高的集成度和模擬電路與數(shù)字電路的更有效混合。
            隨著亞微米高電壓工藝進一步確立自己的地位,芯片制造商和 OEM 設(shè)計者將需要重新考慮功能分割的方法。
            隨著工作電壓和信號電壓的提高,考慮保護電路以應(yīng)對異常情況和故障情況這一要求也在提高。

            當代高速邏輯器件供應(yīng)商都喜歡把自己的產(chǎn)品想像成技術(shù)領(lǐng)域的中心,也許他們是對的。但是,在信息到達這一中心之前,它必須由外圍的信息源傳送過來,而且經(jīng)處理的信息要成為有用的東西,還得返回到外圍信息源——這是一個由人、機器及自然環(huán)境組成的雜亂的非硅片世界。不管那些抱住數(shù)字內(nèi)核不放的供應(yīng)商的最熱切的愿望如何,自然世界——遠離方便而又熟悉的、偶然為自己利益服務(wù)的抽象概念——卻保持不變的模擬狀態(tài)。
            毫無疑問,模擬 IC 技術(shù)正在走邏輯器件的老路,即更小的信號擺幅,更高的集成度,以及與普通 CMOS 及其變體工藝相關(guān)的規(guī)模經(jīng)濟。實際上,由于使用比最先進工藝老幾代的制造設(shè)備,模擬 IC 和 混合信號 IC業(yè)已受益于在這些已大幅降價的設(shè)備上實現(xiàn)高產(chǎn)的低電壓工藝,從而進一步降低了生產(chǎn)成本。于是,數(shù)伏電壓的模擬信號工藝取得了巨大的商業(yè)成功,并使那些在CMOS IC 技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)應(yīng)用這種模擬工藝的公司有了深刻的印象。
            盡管低電壓信號工藝是經(jīng)濟的,但這一技術(shù)幾乎不適合于某種應(yīng)用的物理接口,因為這種接口規(guī)定了模擬 I/O 結(jié)構(gòu)的電氣條件。因此,盡管工業(yè)應(yīng)用能代表與可靠的接口電路相關(guān)的要求和設(shè)計挑戰(zhàn),但在測量儀器、醫(yī)療電子、汽車系統(tǒng)、通信與消費電子等多種多樣的環(huán)境中,仍會發(fā)生類似的問題。然而,直至不久前,此類應(yīng)用大多數(shù)依賴于演進多年但卻幾乎不大偏離其演進軌道的半導體制造工藝。同時,驅(qū)使低電壓 IC 設(shè)計師采用更小幾何尺寸的經(jīng)濟動力可能對必須適應(yīng)大信號擺幅的芯片制造商不利(附文“小尺度的經(jīng)濟性”)。最近,一些主要的模擬信號半導體和混合信號半導體制造商已偏離了這一趨勢,開發(fā)出更緊湊的新工藝,并仍然保留I/O功能所需的可靠性。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/8691.htm

            可能的小尺度工藝
            器件層(如柵極氧化層)的介質(zhì)擊穿常常限制著某種特定工藝和器件設(shè)計的工作電壓。但是,這種觀點從工藝角度把工作電壓看作一個參數(shù)。只要在工藝規(guī)定的信號電壓極限內(nèi)能獲得足夠的 SNR,這種觀點就是合理的。確實,考慮到每次信號轉(zhuǎn)換時為雜散電容充電所需的電能 EC=C(ΔV)2/2,低工作電壓帶來的節(jié)能效果是不相稱的。
            但是,工業(yè)應(yīng)用的觀點則完全不同。在這種情況下,標稱信號電壓是給定的,一般是



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