聯(lián)電新加坡工廠擴產(chǎn)使用45/40nm工藝
據(jù)報道,聯(lián)電近日表示,他們在新加坡的Fab 12i晶圓廠已經(jīng)開始啟動擴產(chǎn)計劃進行45/40nm工藝生產(chǎn),聯(lián)電的此次擴產(chǎn)計劃也是為滿足客戶對先進制程技術的需求。
本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/98816.htmFab 12i晶圓廠是聯(lián)電的首個300mm晶圓廠,于2002年4月完工,并在2003年開始試產(chǎn),目前的月晶圓產(chǎn)量為31000片,主要量產(chǎn)65/55nm工藝芯片。
聯(lián)電稱此次擴產(chǎn)計劃極具“侵略性”,但是沒有透露此次擴產(chǎn)所投花費、完成時間以及擴產(chǎn)后的產(chǎn)能。
聯(lián)電負責晶圓廠運營業(yè)務的副總裁顏博文表示:“此次工廠擴產(chǎn)和技術升級兌現(xiàn)了我們當初對用戶作出的承諾,同時能夠拉動新加坡當?shù)氐木蜆I(yè),吸引更多的優(yōu)秀工程師到聯(lián)電來。”
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