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應(yīng)用材料
應(yīng)用材料 文章 進(jìn)入應(yīng)用材料技術(shù)社區(qū)
應(yīng)用材料公司推出光刻空間成像技術(shù)
- 近日，應(yīng)用材料公司宣布推出Aera2™ for Lithography系統(tǒng)。半導(dǎo)體制造商通過(guò)運(yùn)用該系統(tǒng)的IntenCD™技術(shù)可以提升硅片的臨界尺寸一致性(CDU)超過(guò)20%，增加器件的良率并降低每片硅片的圖形曝光成本。此外，Aera2™ for Lithography系統(tǒng)可以延長(zhǎng)光掩膜的壽命并提高整個(gè)光刻區(qū)域的生產(chǎn)力。 應(yīng)用材料公司資深副總裁、硅系統(tǒng)事業(yè)部總經(jīng)理Tom St. Dennis表示：“ 對(duì)于45nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的臨界尺寸均勻性要求是非
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應(yīng)用材料第四季度獲利下挫45%
- 全球最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商應(yīng)用材料公司日前宣布了2008財(cái)年及第四季度財(cái)報(bào)情況。 2008年第四財(cái)季度營(yíng)收20.4億美元，較去年同期的23.7億美元下滑14%，而較第三財(cái)季的18.5億美元增長(zhǎng)9%。凈收入2.31億美元，去年同期的4.22億美元下滑45%，而較第三財(cái)季的1.65億美元增加40%。第四財(cái)季新增訂單量為22.1億美元，與去年同期相當(dāng)，較上季度的20.3億美元有所提高。按新訂單區(qū)域來(lái)看，臺(tái)灣26%，北美22%，東南亞及中國(guó)22%，歐洲11%，韓國(guó)10%，日本9%。 2008
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應(yīng)用材料第四財(cái)季凈利下滑45%
- 據(jù)MarketWatch報(bào)道，應(yīng)用材料公司(AMAT)在美股收盤(pán)后宣布，剛過(guò)去的第四財(cái)季共盈利2.31億美元，合每股17美分，銷(xiāo)售額總計(jì)20.4億美元。上年同期，這家知名的半導(dǎo)體設(shè)備及太陽(yáng)能板制造商盈利4.22億美元，合每股30美分，銷(xiāo)售額為23.7億美元。若不計(jì)一次性項(xiàng)目，應(yīng)用材料的季盈利將達(dá)2.64億美元，合每股20美分。接受FactSet Research調(diào)查的華爾街分析師平均預(yù)期：應(yīng)用材料第四季每股將盈利17美分，營(yíng)收將達(dá)19.7億美元。 周三美股常規(guī)交易中，在納斯達(dá)克上市的應(yīng)用材料股票
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應(yīng)用材料公司和臺(tái)灣綠能公司簽訂長(zhǎng)期太陽(yáng)能服務(wù)合同
- 近日，應(yīng)用材料公司宣布同臺(tái)灣綠能科技股份有限公司（GET）簽訂5年服務(wù)合同，為其SunFab™薄膜太陽(yáng)能組件生產(chǎn)線提供支持。作為太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)中最全面的服務(wù)產(chǎn)品，應(yīng)用材料公司的SunFab Performance Service™將減少運(yùn)營(yíng)成本，并快速實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。SunFab Performance Service™服務(wù)產(chǎn)品已經(jīng)在歐洲和亞洲的領(lǐng)導(dǎo)光伏制造廠商中取得了強(qiáng)勁的增長(zhǎng)勢(shì)頭，單結(jié)和雙結(jié)薄膜光伏應(yīng)用的合約金額超過(guò)了1億美元。 綠能科技公司總裁Hurlon Lin
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應(yīng)用材料公司推出Extensa PVD系統(tǒng)
- 近日，應(yīng)用材料公司推出Applied Endura® Extensa™ PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，這是業(yè)界唯一在亞55納米存儲(chǔ)芯片銅互聯(lián)的關(guān)鍵阻擋層薄膜沉積工藝中具有量產(chǎn)價(jià)值的系統(tǒng)。Extensa系統(tǒng)獨(dú)特的Ti/TiN工藝技術(shù)使擴(kuò)散阻擋薄膜具有高水準(zhǔn)的階梯覆蓋率，整塊硅片上薄膜厚度的不均勻性<3%。同其他同級(jí)別競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的系統(tǒng)相比，它具有最少的缺陷和更低的耗材成本。 應(yīng)用材料公司副總裁兼金屬沉積產(chǎn)品部總經(jīng)理Prabu Raja表示：“由于存儲(chǔ)單元的高電壓和高
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應(yīng)用材料公司推出新eHARP 系統(tǒng)
- 近日，應(yīng)用材料公司推出Applied Producer® eHARP™ 系統(tǒng)，為32納米及更小工藝節(jié)點(diǎn)上關(guān)鍵的STI（淺溝槽隔離）器件結(jié)構(gòu)提供已被生產(chǎn)驗(yàn)證的HARP SACVD®空隙填充技術(shù)。eHARP工藝能夠提供無(wú)孔薄膜，用于填充小于30納米、長(zhǎng)寬比大于12:1的空隙，從而滿(mǎn)足先進(jìn)存儲(chǔ)器件和邏輯器件的關(guān)鍵制造要求。該系統(tǒng)擁有多項(xiàng)工藝創(chuàng)新專(zhuān)利，能提供強(qiáng)勁的高密度應(yīng)力誘導(dǎo)薄膜，幫助推動(dòng)傳統(tǒng)的平坦化和新興的3-D器件結(jié)構(gòu)向更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展。 應(yīng)用材料公司副總裁兼電介質(zhì)系
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應(yīng)用材料和T-Solar簽訂薄膜太陽(yáng)能生產(chǎn)線長(zhǎng)期服務(wù)協(xié)議
- 應(yīng)用材料公司近日宣布推出太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)中首個(gè)薄膜太陽(yáng)能生產(chǎn)線服務(wù)項(xiàng)目SunFab Performance Service?? 。這個(gè)獨(dú)特的服務(wù)解決方案能夠控制Applied SunFab?薄膜太陽(yáng)能生產(chǎn)線的成本并保證其產(chǎn)量，實(shí)現(xiàn)兆瓦級(jí)生產(chǎn)成本的不斷降低。作為業(yè)界最全面的整合支持解決方案，SunFab Performance Service能夠幫助客戶(hù)快速開(kāi)始量產(chǎn)并優(yōu)化SunFab?生產(chǎn)線的效率和生產(chǎn)力。 應(yīng)用材料公司已經(jīng)同西班牙T-Solar Globa
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ATR調(diào)降半導(dǎo)體設(shè)備股評(píng)級(jí)
- ? 近日以應(yīng)用材料(AMAT)為首的芯片設(shè)備制造股普跌。稍早時(shí)一家研究公司的分析師宣布，將該板塊的評(píng)級(jí)從“超持”降至“中立”。 ???????? 美國(guó)科技研究公司(簡(jiǎn)稱(chēng)ATR)的分析師Bill Ong宣布，調(diào)降半導(dǎo)體資本設(shè)備類(lèi)股的整體評(píng)級(jí)，理由是市場(chǎng)對(duì)芯片制造工具的需求疲軟。 ??????&nb
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半導(dǎo)體專(zhuān)利侵權(quán)樣本調(diào)查：中微遭應(yīng)用材料起訴
- 在離開(kāi)跨國(guó)公司創(chuàng)業(yè)的第三個(gè)年頭，中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中微”)董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官尹志堯意外地成為了被告：一封來(lái)自美國(guó)應(yīng)用材料公司的通知告訴他，中微海外母公司及上海運(yùn)營(yíng)公司，被控告涉嫌盜用商業(yè)秘密、違反合同和不公平競(jìng)爭(zhēng)。 提起這項(xiàng)指控的不是別人，而是尹志堯的“老東家”。在此之前，作為應(yīng)用材料重要產(chǎn)品——等離子蝕刻機(jī)事業(yè)群的主要負(fù)責(zé)人，尹志堯?yàn)檫@家全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商服務(wù)長(zhǎng)達(dá)13年之久。 應(yīng)用材料認(rèn)為，訴訟案中所有的共同被告，都曾在應(yīng)用材料工作過(guò)，尹志堯在辭去應(yīng)用材料
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應(yīng)用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再檢測(cè)系統(tǒng)
- 近日，應(yīng)用材料公司推出最先進(jìn)的缺陷再檢測(cè)SEM(掃描電子顯微鏡)SEMVision™ G4系統(tǒng)，它將應(yīng)用材料公司非常成功的SEMVision系統(tǒng)的技術(shù)和生產(chǎn)能力提升到45納米及更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)。SEMVision G4系統(tǒng)的關(guān)鍵在于全新的SEM聚焦離子槍技術(shù)和增強(qiáng)的多視角SEM成像系統(tǒng)(MPSI)，他們具有卓越的2納米物理精度，能提供無(wú)與倫比的成像質(zhì)量，其每秒一個(gè)缺陷的檢測(cè)速度也設(shè)定了新的基準(zhǔn)。 應(yīng)用材料公司工藝診斷和控制事業(yè)部SEM部門(mén)總經(jīng)理Ronen Benzion表示：“45納米
- 關(guān)鍵字： 測(cè)試 測(cè)量 應(yīng)用材料 EMVision G4 SEM 測(cè)量工具
應(yīng)用材料公司榮獲普氏能源資訊“年度最佳綠色能源創(chuàng)新者”獎(jiǎng)項(xiàng)
- 近日，在第九屆普氏能源資訊全球能源大獎(jiǎng) (9th annual Platts Global Energy Awards) 頒獎(jiǎng)典禮上，應(yīng)用材料公司因其領(lǐng)先的SunFab™薄膜太陽(yáng)能面板生產(chǎn)線榮獲了“年度最佳綠色能源創(chuàng)新者”獎(jiǎng)項(xiàng)。 應(yīng)用材料公司副總裁、首席技術(shù)官兼能源與環(huán)境方案事業(yè)部總經(jīng)理Mark Pinto表示：“應(yīng)用材料公司一直致力于運(yùn)用納米制造技術(shù)降低太陽(yáng)能光伏發(fā)電的成本。這一獎(jiǎng)項(xiàng)的提名者來(lái)自全球各地，也包括綠色能源領(lǐng)域內(nèi)全球領(lǐng)先的創(chuàng)新企業(yè)。我非常高興應(yīng)用材料公司的成績(jī)?cè)谀敲炊鄡?yōu)
- 關(guān)鍵字： 模擬技術(shù) 電源技術(shù) 應(yīng)用材料 綠色能源 太陽(yáng)能 電源
應(yīng)用材料公司推出亮場(chǎng)硅片檢測(cè)工具UVision3系統(tǒng)
- 近日，應(yīng)用材料公司推出具有業(yè)界最高生產(chǎn)力的DUV(深紫外)亮場(chǎng)硅片檢測(cè)工具UVision® 3系統(tǒng)，它能滿(mǎn)足45納米前端制程和浸沒(méi)式光刻對(duì)于關(guān)鍵缺陷檢測(cè)靈敏度的要求。這個(gè)新一代的系統(tǒng)為應(yīng)用材料公司突破性的UVision技術(shù)帶來(lái)了重要的進(jìn)步，它將掃描硅片的激光束數(shù)量提升至3倍，使其生產(chǎn)速度比任何競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的系統(tǒng)快40%。兩個(gè)新的成像模式將靈敏度擴(kuò)展至20納米，全新靈活的自動(dòng)缺陷分類(lèi)引擎能夠迅速標(biāo)定出有害缺陷從而達(dá)到更快的成品率學(xué)習(xí)進(jìn)程。 應(yīng)用材料公司副總裁，工藝診斷控制事業(yè)部總經(jīng)理Gilad
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應(yīng)用材料公司收購(gòu)Baccini公司加速太陽(yáng)能業(yè)務(wù)發(fā)展
- 近日， 應(yīng)用材料公司宣布收購(gòu)Baccini公司。 Baccini公司是晶體硅光伏電池制造領(lǐng)域內(nèi)自動(dòng)金屬鍍膜和檢測(cè)系統(tǒng)的領(lǐng)先廠商。這套綜合設(shè)備致力于晶體硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中對(duì)轉(zhuǎn)換效率及成品率起到重要影響的關(guān)鍵工藝步驟，并促使超薄硅片的使用成為可能。Baccini公司的產(chǎn)品及技術(shù)結(jié)合應(yīng)用材料公司的半導(dǎo)體互聯(lián)工藝專(zhuān)長(zhǎng)、制造能力和研發(fā)資源，將為客戶(hù)提供世界級(jí)的先進(jìn)晶體硅太陽(yáng)能電池的自動(dòng)化生產(chǎn)技術(shù)。 Baccini公司是一家成立于1967年的私人公司，位于意大利Treviso。Baccini公司的生產(chǎn)線能提
- 關(guān)鍵字： 消費(fèi)電子 應(yīng)用材料 Baccini 太陽(yáng)能 消費(fèi)電子
應(yīng)用材料公司建立SunFab技術(shù)中心加速太陽(yáng)能創(chuàng)新
- 近日，應(yīng)用材料公司建立了SunFab技術(shù)中心——業(yè)內(nèi)最先進(jìn)的新一代太陽(yáng)能技術(shù)應(yīng)用中心，為光伏電池的研發(fā)開(kāi)創(chuàng)了新紀(jì)元。該中心位于德國(guó)Alzenau，面積2000平米，具有殿堂級(jí)的模塊制造設(shè)備，包括應(yīng)用材料公司的PECVD(等離子加強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)和ATON™ PVD(物理氣相沉積)系統(tǒng)、激光設(shè)備以及工廠自動(dòng)化軟件等全系列能代表應(yīng)用材料公司SunFab™大規(guī)模太陽(yáng)能面板制造薄膜生產(chǎn)線的設(shè)備。 SunFab技術(shù)中心將成為應(yīng)用材料公司主要的太陽(yáng)能研發(fā)中心，專(zhuān)注于提高模塊的轉(zhuǎn)換效率
- 關(guān)鍵字： 消費(fèi)電子 SunFab 太陽(yáng)能 應(yīng)用材料 消費(fèi)電子
應(yīng)用材料公司推出Centura Carina Etch系統(tǒng)克服高K介電常數(shù)
- 近日，應(yīng)用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系統(tǒng)用于世界上最先進(jìn)晶體管的刻蝕。運(yùn)用創(chuàng)新的高溫技術(shù)，它能提供45納米及更小技術(shù)節(jié)點(diǎn)上采用高K介電常數(shù)/金屬柵極(HK/MG)的邏輯和存儲(chǔ)器件工藝擴(kuò)展所必需的材料刻蝕輪廓，是目前唯一具有上述能力并可以用于生產(chǎn)的解決方案。應(yīng)用材料公司的Carina技術(shù)具有獨(dú)一無(wú)二的表現(xiàn)，它能達(dá)到毫不妥協(xié)的關(guān)鍵刻蝕參數(shù)要求：平坦垂直，側(cè)邊輪廓不含任何硅材料凹陷，同時(shí)沒(méi)有任何副產(chǎn)品殘留物。 應(yīng)用材料公司資深副總裁、硅系統(tǒng)業(yè)務(wù)
- 關(guān)鍵字： 測(cè)試 測(cè)量 應(yīng)用材料 晶體管 刻蝕 IC 制造制程
應(yīng)用材料介紹
應(yīng)用材料公司是全球最大的納米制造技術(shù)企業(yè)。作為電子產(chǎn)業(yè)中最大的設(shè)備、服務(wù)和軟件產(chǎn)品供應(yīng)商，我們用納米制造技術(shù)改善人們的生活。
自1967年成立至今三十多年來(lái)，應(yīng)用材料公司一直都是領(lǐng)導(dǎo)信息時(shí)代的先驅(qū)，以納米制造技術(shù)打造世界上每一塊半導(dǎo)體芯片和平板顯示器。目前，應(yīng)用材料已進(jìn)入太陽(yáng)能面板和玻璃面板的生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域。
應(yīng)用材料公司在全球13個(gè)國(guó)家和地區(qū)的生產(chǎn)、銷(xiāo)售和服務(wù)機(jī)構(gòu)有1 [ 查看詳細(xì) ]
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