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          Intel:65nm已出貨4000萬 超越90nm

          • 2006年9月對Intel來說是一個非常重要的月份,因為其65nm處理器的出貨量首次超過了90nm,達4000萬顆,而AMD還沒有拿出一顆。 Otellini在IDF上稱,到下周,Intel的65nm處理器出貨量就將達到4000萬這一具有里程碑意義的數(shù)字,不過其中只有大約500萬顆是新的Core架構(gòu)產(chǎn)品,NetBurst和Yonah架構(gòu)仍占據(jù)著7/8的Intel產(chǎn)品。 Intel還特別提到了服務(wù)器方面,因為Woodcrest核心Xeon 5100是率先出貨的Core架構(gòu)處理器,不過其出貨量目前也
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          65nm對決90nm!Intel技術(shù)不只領(lǐng)先一點

          • 65nm對決90nm!Intel技術(shù)不只領(lǐng)先一點          每一次工藝制程的變更,都將帶來處理器性能的飛躍。     在更新的制程工藝上,Intel這一次稍稍領(lǐng)先。Intel最新的65nm處理器已經(jīng)在IDF大會上亮相。65納米(1納米等于十億分之一米)制程融合了高性能、低功耗晶體管、第二代英特爾應(yīng)變硅、高速銅互連以及低-K電介質(zhì)材料。采用65納米制程生產(chǎn)芯片將
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          65nm對決90nm!Intel技術(shù)不只領(lǐng)先一點

          • 每一次工藝制程的變更,都將帶來處理器性能的飛躍。     在更新的制程工藝上,Intel這一次稍稍領(lǐng)先。Intel最新的65nm處理器已經(jīng)在IDF大會上亮相。65納米(1納米等于十億分之一米)制程融合了高性能、低功耗晶體管、第二代英特爾應(yīng)變硅、高速銅互連以及低-K電介質(zhì)材料。采用65納米制程生產(chǎn)芯片將使英特爾能夠?qū)斍皢蝹€芯片上的晶體管數(shù)量再翻一番。65nm晶體管不僅在尺寸上比90nm產(chǎn)品更小,而且還會降低能耗并減少電流泄漏。   &n
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          65nm半導(dǎo)體工藝發(fā)展策略

          • 摘要: 本文研究Altera在65nm工藝上的工程策略,介紹公司如何為客戶降低生產(chǎn)和計劃風險,并同時從根本上提高密度、性能,及降低成本和功耗。關(guān)鍵詞: 65nm;FPGA;功耗 引言Altera在65nm半導(dǎo)體制造工藝上的發(fā)展策略是充分利用先進的技術(shù)和方法,以最低的成本為客戶提供性能最好的器件,同時降低客戶風險,保證產(chǎn)品盡快面市。Altera在130nm和90nm器件上的市場份額表明,有效控制高端半導(dǎo)體技術(shù)中存在的風險,能夠提高FPGA體系結(jié)構(gòu)在市場上的受歡迎程度。因此,早自2003
          • 關(guān)鍵字: 0610_A  65nm  FPGA  單片機  功耗  嵌入式系統(tǒng)  雜志_技術(shù)長廊  

          英特爾發(fā)布雙核至強®7100系列處理器平臺

          •   鞏固企業(yè)級服務(wù)器市場領(lǐng)先地位 八款針對多路服務(wù)器產(chǎn)品的全新的雙核英特爾®至強®7100系列處理器平臺揭開神秘面紗。代號為“Tulsa”的雙核英特爾®至強®7100系列處理器平臺,以其頂級的可靠性和領(lǐng)先的性能,滿足現(xiàn)代企業(yè)諸多復(fù)雜系統(tǒng)應(yīng)用的需求。與此同時,由于采用能耗低至95瓦的處理器,大大降低了能源成本,提升了系統(tǒng)效能。雙核英特爾®至強®7100系列處理器的發(fā)布進一步滿足了企業(yè)級市場的應(yīng)用需求,將英特爾公司今年夏季服務(wù)器平臺新品的強勢發(fā)布再一
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          XILINX宣布推出PLANAHEAD 8.2設(shè)計套件

          • 進一步擴展 65-NM VIRTEX-5 FPGA性能優(yōu)勢 新版軟件可提高性能、加快設(shè)計收斂速度并提供了更好的信號完整性分析能力  賽靈思公司(Xilinx, Inc. (NASDAQ:XLNX)宣布即日起推出PlanAhead™ 分層設(shè)計和分析軟件8.2版。新版軟件支持賽靈思公司最新的Virtex™-5 LX系列65nm FPGA器件。配合賽靈思公司的集成軟件環(huán)境(ISE͐
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          65nm和超越65nm的IC制造挑戰(zhàn)

          • 65nm和超越65nm的IC制造挑戰(zhàn)Manufacturing Challenges:65nm And Beyond全球IC制造業(yè)在2004年取得輝煌業(yè)績,銷售總額達到2180億美元,提前完成了國際半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展路線圖(ITRS)的90nm節(jié)點進程,十多座300mm晶圓廠正在投產(chǎn)或共建,全球以Intel為首的十大IC供應(yīng)商都在加緊研發(fā)65nm工藝,Intel、TI、三星、東芝、臺積電開始小批量生產(chǎn)65nm工藝的IC,謀求技術(shù)領(lǐng)先,搶占市場。根據(jù)2004的修正的ITRS最新技術(shù)進程可知,90nm節(jié)點正好在2
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          共67條 5/5 |‹ « 1 2 3 4 5

          65nm介紹

          半導(dǎo)體制造工藝,指集成電路內(nèi)電路與電路間的距離。在處理器領(lǐng)域,制造工藝可以看作是處理器核心中每一個晶體管的大小。早期制作工藝采用微米作為單位,隨著近兩年工藝技術(shù)的進步,包括處理器、內(nèi)存、顯卡等芯片的制作工藝已經(jīng)全面采用更小的納米單位,而65nm工藝是處理器領(lǐng)域中先進的制造工藝。 在生產(chǎn)中一般采用的生產(chǎn)方式是光刻,光刻是在掩模板上進行的,宏觀上講,只要提高掩模板的分辨律就能刻出更多MOS管了, [ 查看詳細 ]

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