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EUV將在7納米節(jié)點發(fā)威?
- 核心提示:荷蘭半導體設備大廠 ASML 現(xiàn)在勉為其難地承認了其客戶私底下悄悄流傳了好一陣子的情況:大多數(shù)半導體廠商仍將采用傳統(tǒng)浸潤式微影技術來生產(chǎn)10奈米制程晶片,而非延遲許久的超紫外光微影(EUV)技術;不過這恐怕將使得10奈米節(jié)點因為無法壓低每電晶體成本,而成為不受歡迎的制程。 荷蘭半導體設備大廠 ASML 現(xiàn)在勉為其難地承認了其客戶私底下悄悄流傳了好一陣子的情況:大多數(shù)半導體廠商仍將采用傳統(tǒng)浸潤式微影技術來生產(chǎn)10奈米制程晶片,而非延遲許久的超紫外光微影(EUV)技術;不過這恐怕將使得
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