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          英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機(jī)?

          TSMC不會(huì)在2030年或更晚采用先進(jìn)的High-NA EUV芯片制造工具 ——英特爾本周剛剛收到了其第一臺(tái):報(bào)告

          • TSMC 不急于采用ASML的High-NA EUV進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。本周,英特爾開(kāi)始收到其第一臺(tái)ASML的0.55數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻工具,它將用于學(xué)習(xí)如何使用這項(xiàng)技術(shù),然后在未來(lái)幾年內(nèi)將這些機(jī)器用于18A后的生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)。相比之下,據(jù)中國(guó)Renaissance和SemiAnalysis的分析師表示,TSMC并不急于在不久的將來(lái)采用High-NA EUV,該公司可能要在2030年或更晚才會(huì)加入這一陣營(yíng)。“與英特爾在轉(zhuǎn)向GAA(計(jì)劃在[20A]插入之后)后不久即開(kāi)始使用High-NA
          • 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體  臺(tái)積電,ASML  

          ASML兩款光刻機(jī)出口許可被撤銷

          • 1月2日,全球光刻機(jī)龍頭ASML在官網(wǎng)發(fā)布聲明稱,荷蘭政府最近撤銷了此前頒發(fā)給其2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機(jī)的部分出口許可證,這將對(duì)ASML在中國(guó)內(nèi)地的個(gè)別客戶產(chǎn)生影響。在聲明中,ASML表示:“在新的出口管制條例下,今年(指2023年)年底前ASML仍能履行已簽訂的合同,發(fā)運(yùn)這些光刻設(shè)備??蛻粢惨阎こ隹诠苤茥l例所帶來(lái)的限制,即自2024年1月1日起,ASML將基本不會(huì)獲得向中國(guó)客戶發(fā)運(yùn)這些設(shè)備的出口許可證。”預(yù)計(jì)此次出口許可證撤銷及最新的美國(guó)出口管制限制不會(huì)對(duì)公司2023
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  DUV  EUV  

          DUV光刻機(jī)出口許可被撤 ASML:中國(guó)訂單已全數(shù)交付

          • 近日光刻機(jī)巨頭ASML發(fā)布公告稱,去年2型DUV光刻機(jī)已獲準(zhǔn)的出口許可證突然遭到撤銷,不過(guò),中國(guó)大陸客戶預(yù)付購(gòu)買DUV光刻機(jī)所積壓訂單基本都已完成交付。 據(jù)ASML指出,2023年NXT:2050i、NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出貨許可證突然被撤銷,不過(guò)這沒(méi)有太多可以擔(dān)心的地方,因?yàn)?023年ASML基本已交付了中國(guó)大陸客戶預(yù)付的DUV積壓訂單,至于2023年之后是否能繼續(xù)出口DUV光刻,在此之前本就無(wú)法確定?!犊炜萍肌穲?bào)導(dǎo)說(shuō),事實(shí)上2023年ASML一直都在向中國(guó)客戶供應(yīng)光刻機(jī),其中就包含了NXT:20
          • 關(guān)鍵字: DUV  光刻機(jī)  ASML  

          ?ASML被禁止向中國(guó)運(yùn)送其部分關(guān)鍵的芯片制造工具

          • 半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML表示,荷蘭政府禁止其向中國(guó)出口部分工具。ASML表示,荷蘭政府最近部分撤銷了其NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)在2023年裝運(yùn)的許可證。在撤銷船舶許可證之前,美國(guó)政府在10月份加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)先進(jìn)半導(dǎo)體和芯片制造工具的出口管制,并在此前的規(guī)定基礎(chǔ)上進(jìn)行了進(jìn)一步收緊。荷蘭公司ASML制造了制造世界上最先進(jìn)芯片所需的最重要機(jī)器之一。美國(guó)的芯片限制使包括ASML在內(nèi)的公司爭(zhēng)先恐后地弄清楚這些規(guī)則在實(shí)踐中的含義。ASML公司該公司表示,荷蘭政府禁止其制造最先進(jìn)半導(dǎo)體的關(guān)鍵機(jī)器向中
          • 關(guān)鍵字: ASML  DUV  EUV  

          ASML聲明:2050、2100光刻機(jī)出口許可證被部分撤銷

          • 1月2日消息,日前,荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML在其官網(wǎng)發(fā)布聲明,稱部分光刻機(jī)出口許可證被撤銷。根據(jù)聲明,荷蘭政府最近部分撤銷了2023年NXT:2050i、NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出貨許可證,影響了中國(guó)大陸的一小部分客戶。ASML預(yù)計(jì),目前撤銷出口許可證或最新的美國(guó)出口管制限制不會(huì)對(duì)2023年財(cái)務(wù)前景產(chǎn)生重大影響。ASML還稱,在最近與美國(guó)政府的討論中,ASML進(jìn)一步澄清了美國(guó)出口管制法規(guī)的范圍和影響。美國(guó)去年10月17日公布的出口管制新規(guī),對(duì)用于一些先進(jìn)生產(chǎn)設(shè)施的某些次關(guān)鍵DUV浸沒(méi)光刻系統(tǒng)施加了限制。
          • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  ASML  

          英特爾拿到首臺(tái)2nm光刻機(jī) 重回領(lǐng)先地位?

          • 12月21日,荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML通過(guò)社交媒體宣布,其首套高數(shù)值孔徑極紫外(High-NA EUV)光刻機(jī)正從荷蘭Veldhoven總部開(kāi)始裝車發(fā)貨,將向英特爾進(jìn)行交付。數(shù)值孔徑(NA)是光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的重要指標(biāo),直接決定了光刻的實(shí)際分辨率和最高能達(dá)到的工藝節(jié)點(diǎn)。
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  2nm  光刻機(jī)  EUV  ASML  臺(tái)積電  

          ASML 向英特爾交付首臺(tái)高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備

          • IT之家 12 月 22 日消息,ASML 公司近日通過(guò)官方 X(推特)賬號(hào)發(fā)布推文,宣布已經(jīng)向英特爾交付首臺(tái)高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備。IT之家此前報(bào)道,ASML 研制的高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備主要用于生產(chǎn) 2nm 工藝半導(dǎo)體芯片,數(shù)值孔徑(NA)光學(xué)性能從 0.33 提高到 0.55。ASML 明年規(guī)劃產(chǎn)能僅有 10 臺(tái),而英特爾已經(jīng)預(yù)訂了其中 6 臺(tái),不過(guò) ASML 計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi)將此設(shè)備產(chǎn)能提高到每年 20 臺(tái)。ASML 新的高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)涉及一種全新的工具,具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  英特爾  

          韓國(guó)總統(tǒng)到訪之際,ASML與三星達(dá)成7.52億美元的芯片廠協(xié)議

          • 周二,荷蘭科技巨頭ASML和三星(Samsung)簽署了一項(xiàng)價(jià)值約7億歐元的協(xié)議,將在韓國(guó)建設(shè)一家半導(dǎo)體研究廠。與此同時(shí),韓國(guó)總統(tǒng)尹錫悅(Yoon Suk Yeol)結(jié)束了這次以科技為重點(diǎn)的訪問(wèn)的第一天。尹錫悅是第一位到訪ASML高度安全的“無(wú)塵室”的外國(guó)領(lǐng)導(dǎo)人,這次到訪荷蘭的目的是在這兩個(gè)全球半導(dǎo)體大國(guó)之間結(jié)成“芯片聯(lián)盟”。他參觀了ASML的城市規(guī)模設(shè)施,該公司制造先進(jìn)的機(jī)器來(lái)制造半導(dǎo)體芯片,為從智能手機(jī)到汽車的一切提供動(dòng)力。ASML和三星后來(lái)同意“未來(lái)共同”投資該設(shè)施,該設(shè)施將“使用下一代EUV(極紫
          • 關(guān)鍵字: 三星  ASML  EUV  

          阿斯麥(ASML)監(jiān)事會(huì)擬任命Christophe Fouquet為總裁兼首席執(zhí)行官

          • ●? ?ASML?聯(lián)席總裁?Peter Wennink?和?Martin van den Brink?將于?2024?年?4?月?24?日榮休●? ?Jim Koonmen?將被任命為首席客戶官,加入管理委員會(huì)近日,阿斯麥(ASML)監(jiān)事會(huì)宣布,擬任命現(xiàn)任首席商務(wù)官兼管理委員會(huì)成員?Christophe Fouquet?擔(dān)任公司
          • 關(guān)鍵字: 阿斯麥  ASML  

          買不到7納米機(jī)臺(tái)又怎樣?ASML挺中國(guó)大陸:在1領(lǐng)域做到全球最強(qiáng)

          • 美國(guó)祭出半導(dǎo)體禁令打壓中國(guó)大陸先進(jìn)制程發(fā)展,盡管買不到ASML用于先進(jìn)技術(shù)的7納米、3納米微影設(shè)備,但也激勵(lì)大陸加速發(fā)展成熟制程領(lǐng)域。ASML中國(guó)區(qū)總裁沈波表示,將協(xié)助中國(guó)的成熟制程做到全世界非常具有競(jìng)爭(zhēng)力的水平,這是一個(gè)值得努力的方向。每日經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)導(dǎo),對(duì)于中國(guó)半導(dǎo)體未來(lái)該往哪個(gè)發(fā)展方向,沈波指出,ASML自己看來(lái),先進(jìn)制程芯片從數(shù)量上講相對(duì)較小,絕大多數(shù)是成熟制程芯片,對(duì)于中國(guó)來(lái)講,這么大終端市場(chǎng)需求推動(dòng)下,把成熟制程芯片做到非常具有競(jìng)爭(zhēng)力的水平,對(duì)咱們這個(gè)產(chǎn)業(yè)來(lái)講是最高效的,可以達(dá)到一個(gè)事半功倍的效
          • 關(guān)鍵字: 7納米  ASML  

          繞開(kāi)ASML重振業(yè)績(jī) 日本尼康逆勢(shì)開(kāi)拓中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)

          • 日本尼康(Nikon)為了重振業(yè)績(jī),將大幅轉(zhuǎn)變半導(dǎo)體光刻機(jī)業(yè)務(wù)的戰(zhàn)略。目前全球市占率排名第3的尼康將采用不違反對(duì)華出口管制的成熟技術(shù)設(shè)備,在2024年投放新產(chǎn)品,通過(guò)尋求逆勢(shì)開(kāi)拓中國(guó)市場(chǎng),以實(shí)現(xiàn)卷土重來(lái)?!度战?jīng)中文網(wǎng)》報(bào)導(dǎo)說(shuō),尼康預(yù)測(cè)2023財(cái)年(截至2024年3月)的合并凈利潤(rùn)將同比減少22%,降至350億日元(約合臺(tái)幣72億元)。半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)的精密機(jī)械業(yè)務(wù)以及相機(jī)影像業(yè)務(wù)是2大支柱,其中高檔微單相機(jī)銷售強(qiáng)勁,但精密機(jī)械業(yè)務(wù)低迷影響獲利。報(bào)導(dǎo)說(shuō),光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心,三菱UFJ摩根士丹利證券的調(diào)查
          • 關(guān)鍵字: ASML  尼康  光刻機(jī)  

          佳能押注納米壓印技術(shù) 挑戰(zhàn)光刻機(jī)老大ASML

          • 日本佳能一直在投資納米壓?。∟ano-imprint Lithography,NIL)這種新的芯片制造技術(shù),并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備集群。計(jì)劃將新型芯片制造設(shè)備的價(jià)格定為阿斯麥極紫外光刻機(jī)的十分之一左右,從而在光刻機(jī)領(lǐng)域取得進(jìn)展。佳能首席執(zhí)行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,基于NIL的新型芯片制造設(shè)備售價(jià)將比阿斯麥(ASML)的極紫外光刻(EUV)設(shè)備少一位數(shù),雖然最終的定價(jià)目前還沒(méi)有敲定,但是可以預(yù)見(jiàn)將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開(kāi)辟出一條新的道路。
          • 關(guān)鍵字: 佳能  納米壓印  光刻機(jī)  ASML   半導(dǎo)體  

          ASML Billy Tang:光源技術(shù)增強(qiáng)帶來(lái)的可持續(xù)性和可用性改進(jìn)

          • 近日,在第七屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)上,ASML Cymer的市場(chǎng)營(yíng)銷經(jīng)理Billy Tang,分享了光源技術(shù)增強(qiáng)帶來(lái)的可持續(xù)性和可用性改進(jìn)。Billy Tang表示,可持續(xù)性和可用性改進(jìn)是我們關(guān)注的核心,需要同時(shí)減少對(duì)環(huán)境的影響,提高光源的效率和整體性能,本次討論提供自動(dòng)數(shù)據(jù)分析和性能調(diào)優(yōu)(ADAPT)的軟件。ADAPT這個(gè)命名是關(guān)于自動(dòng)數(shù)據(jù)分析和表單調(diào)優(yōu)的,這是一個(gè)人工智能驅(qū)動(dòng)的產(chǎn)品。Cymer承諾到2040年實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品使用的凈零溫室氣體排放2013年,Cymer成為ASML的子公司,Cymer是世界領(lǐng)
          • 關(guān)鍵字: ASML  ADAPT  
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