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          ASML正式承認(rèn),芯片技術(shù)開始轉(zhuǎn)移

          • 在遭遇了西方的芯片技術(shù)封鎖后,我國自主研發(fā)高端光刻機(jī)的呼聲越來越高,雖然近日來很多權(quán)威人士對這樣的做法潑來了冷水,但是國際巨頭ASML卻對國產(chǎn)高端光刻機(jī)的研發(fā)充滿了“信心”。眾所周知,我國在光刻機(jī)研發(fā)領(lǐng)域起步較晚,相比于西方仍然具有較大差距,并且根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì),一臺EUV光刻機(jī)價(jià)值上億美元,并且零件數(shù)量高達(dá)上萬件,分別來自全球5000多家供應(yīng)商。更不利的是,美國、日本、德國都是光刻機(jī)核心零件的主要供應(yīng)國,而目前它們對中國的科技發(fā)展態(tài)度并不友好,所以這也給國產(chǎn)光刻機(jī)零件的供應(yīng)增添了不少難度。即便如此,國產(chǎn)光刻
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          臺積電、ASML陸續(xù)加入“美國”半導(dǎo)體聯(lián)盟

          • 近日,美國以為了振興制造業(yè)為由,組成了半導(dǎo)體聯(lián)盟,但是明眼人都能看得出來,此舉明顯是針對國產(chǎn)芯片制造業(yè)崛起的手段。對于半導(dǎo)體聯(lián)盟,全球芯片巨頭也紛紛站隊(duì)“美國”,包括高通、臺積電、微軟、谷歌、asml、三星等64家芯片半導(dǎo)體廠商陸續(xù)宣布加入。放眼望去,儼然一副對國產(chǎn)芯片形成包圍圈的樣子。不過,所謂半導(dǎo)體聯(lián)盟,實(shí)際是暗流涌動。?以“美國”為首的半導(dǎo)體聯(lián)盟暗流涌動“美國”對我們科技產(chǎn)業(yè)的壓制,在近些年一直沒有停止,甚至眼下的華為仍然受到芯片限制的影響。但在全球一體化的情況下,對華為和國產(chǎn)芯片進(jìn)行壓制,完全是“
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          ASML CEO:施加限制將使中國搞出替代產(chǎn)品 我們會徹底失去該市場

          • 繼本月15日就EUV光刻機(jī)出口管制發(fā)表看法后,荷蘭ASML(阿斯麥)CEO溫彼得(Peter Wennink)在23日再次表達(dá)了自己的意見。他強(qiáng)調(diào)的一個重點(diǎn)是,這樣做只會加快中國自主研發(fā)的速度。雖然溫彼得認(rèn)為知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)力度要保持,但他并不認(rèn)可切斷高端技術(shù)出口的做法。“如果你采取出口管制措施將中國市場拒之門外,這將迫使他們爭取技術(shù)自主權(quán)……在15年的時間里,他們自己將能夠做出所有的這些東西,而且他們的市場(針對歐洲供應(yīng)商的市場)將徹底消失?!睖乇说迷诎⑺果溈偛克诘亍商m費(fèi)爾德霍芬與媒體交流時時作出該表
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          ASML:如美國繼續(xù)對華“卡脖子”,歐洲芯片的中國市場會消失

          • 據(jù)美媒Politico報(bào)道,荷蘭光刻機(jī)制造商、行業(yè)巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示,美國針對中國的芯片出口禁令傷害了歐洲半導(dǎo)體行業(yè),“15年之內(nèi),中國將有能力制造所有產(chǎn)品。到那時,歐洲供應(yīng)商的中國市場將會消失?!薄 貙幙苏f,歐盟不應(yīng)根據(jù)美國戰(zhàn)略而限制高端技術(shù)向中國出口,這樣會加速幫助中國實(shí)現(xiàn)“科技自主”?! 〗陙恚S著美國對中興通訊、華為以及眾多中國高科技公司的打壓,歐洲一些芯片制造關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)品未獲得美國許可,無法出口給中國。這種針對中國的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業(yè)利潤下降明顯,其中原因是歐洲對
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          ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

          •   近日,中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作,有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī),中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機(jī)?!钡沁@一說法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?! 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級,實(shí)際上也是如此。  ASML澄清與中
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          ASML 5nm光刻機(jī)搶破頭:臺積電一開口就18臺 三星英特爾急了

          • 如今全球芯片短缺,不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重影銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè),就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增,目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)需求,如此之大的需求量可以說是史上的天量,三星英特爾急了。ASML光刻機(jī)搶破頭  因?yàn)槟壳叭蚰軌蛱峁┳钕冗M(jìn)極紫外光刻機(jī)的只有荷蘭ASML一家,在剛剛過去的2020年當(dāng)中,ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機(jī),也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話,就占盡了全球半導(dǎo)體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多?! 《鴮τ谡诓?/li>
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          中國芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司

          • 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào),這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機(jī),中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺?! ∮腥苏f阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€能讓臺積電折腰的公司,這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī),是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒有刀,再好的師傅也雕不出來花?! ∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻,廠商就要付給他們以小時計(jì)的美金。  曾經(jīng),某上市公司的光刻機(jī)出問題后,排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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          全球最大光刻機(jī)廠CEO:拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢

          • 拜登上任在即,他會緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示,即使總統(tǒng)換屆,兩國在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域,仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開源指令集架構(gòu)RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」?  離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了?! ≡谶^去川普任職期內(nèi),中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一?! ∮捎诿绹膲毫?,其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國銷售?! ∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
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          中科院研發(fā)者回應(yīng)5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷

          •   今年7月,在中國科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展,中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報(bào)》(Nano Letters)上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》(5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,介紹了該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報(bào)》(NanoLetters)。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng)  消息一經(jīng)發(fā)出,外界一片沸騰,一
          • 關(guān)鍵字: 中科院  光刻技術(shù)  ASML  

          荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破!中國訂購的EUV光刻機(jī)呢?

          •   據(jù)TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報(bào)道,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又送來一則好消息,該司已經(jīng)與比利時半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工作。  據(jù)了解,先進(jìn)制程的光刻機(jī)對于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時,ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)工作。按照阿斯麥的計(jì)劃,預(yù)計(jì)相應(yīng)的曝光設(shè)備全線準(zhǔn)備好之后,會在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化?! ∪欢@家荷蘭企業(yè)的光刻機(jī)制造技術(shù)卻變得重大突破之際,我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機(jī)至今卻還未到貨。據(jù)悉,中芯
          • 關(guān)鍵字: ASML  IMEC  光刻機(jī)  中芯國際    

          阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

          • 14日訊,《科創(chuàng)板日報(bào)》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米,并計(jì)劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
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          華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)?ASML華裔工程師:天方夜譚

          • 9月16日,中國科學(xué)院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱,“率先行動”計(jì)劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局,集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱,從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計(jì)劃第二階段。對此,首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱,目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu),目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評價(jià)、分類資源配置?!斑@個工作還沒有完,只是進(jìn)行了一部分,所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完,
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          臺積電采購30臺EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm,ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

          • 臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣,已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺上的最大采購客戶,累計(jì)已經(jīng)購買了 30 臺 EUV 設(shè)備。日前,ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后,也在臺積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南,成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng),重量高達(dá) 180&nbs
          • 關(guān)鍵字: EUV  臺積電  ASML  

          Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛(wèi)摩爾定律

          • 日前,中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(CSTIC)在上海開幕,為期19天,本次會議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備,EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,截至2019年第四季度,ASML當(dāng)年共售出53臺EUV NXE:3400系列EUV光刻機(jī),使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬片。他說,EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
          • 關(guān)鍵字: Intel  臺積電  ASML  EUV  光刻  摩爾定律  

          5nm工藝起飛 ASML宣布全新半導(dǎo)體技術(shù):產(chǎn)能大漲600%

          • 提到荷蘭ASML公司,大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害,今天他們宣布了另外一個新產(chǎn)品——第一代HMI多光束檢測機(jī)HMI eScan1000,適用于5nm及更先進(jìn)工藝,使得產(chǎn)能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升,晶圓的制造也越來越復(fù)雜,這也會導(dǎo)致晶圓中的錯誤更多,HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術(shù)的檢測系統(tǒng),內(nèi)部也有復(fù)雜的光電子系統(tǒng),能夠產(chǎn)生、控制多個電子束,然后根據(jù)反射回來的電子束成像來分析晶圓質(zhì)量,并有
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