3. 

        <meter id="pryje"><nav id="pryje"><delect id="pryje"></delect></nav></meter>
          <label id="pryje"></label>
          


          
	
  	
          
	
          
		首頁　 
		資訊　 
		商機 　
		下載　 
		拆解 　
		高校　 
		招聘 　
		雜志　 
		會展　 
		EETV　 
		百科 　
		問答　 
		電路圖　 
		工程師手冊 　
		Datasheet　
		100例 　
		活動中心　 
		E周刊閱讀 　
		樣片申請
	
          




          
	EEPW首頁 >> 
	主題列表 >> 
	euv?
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
                                
          
                  

                                
          
                    
          拚不過對手　英特爾放棄搶推EUV？
          
                                                            
            
                    	
          • 　　引領技術開發(fā)的少數(shù)芯片制造商認定，極紫外光(EUV)微影技術將在明年使得半導體元件的電晶體密度更進一步向物理極限推進，但才剛失去全球半導體產(chǎn)業(yè)龍頭寶座的英特爾(Intel)，似乎放棄了繼續(xù)努力在采用EUV的腳步上領先;該公司在1990年代末期曾是第一批開始發(fā)展EUV的IC廠商。　　曾是電子工程師的市場研究機構Bernstein分析師Mark Li表示，英特爾不會在短時間內導入EUV，該公司仍在克服量產(chǎn)10納米制程的困難，因此其7納米制程還得上好幾年，何時會用上EUV更是個大問題。　　在此同時，三星(S
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        英特爾  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          Entegris EUV 1010光罩盒展現(xiàn)極低的缺陷率，已獲ASML認證
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　業(yè)界領先的特種化學及先進材料解決方案的公司Entegris(納斯達克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術進行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設備制造商之一的ASML密切合作而開發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認證，用于NXE:3400B等產(chǎn)品。　　隨著半導體行業(yè)開始更多地使用EUV光刻技術進行先進技術制程的大批量制造(HVM)，對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        Entegris  EUV  ASML                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          李在镕正式回歸，三星半導體是否大舉投資引關注
          
                                                            
            
                    	
          • 先前李在镕涉入政治關說丑聞的負面影響尚未完全消除，設法恢復各界對三星的信賴也是李在镕須解決的課題。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        三星  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          EUV、3nm、GAA首次亮相，三星晶圓代工業(yè)務強勢進軍中國市場
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　為進一步提升在中國市場晶圓代工領域的競爭力，6月14日，三星電子在中國上海召開 “2018三星晶圓代工論壇(Samsung Foundry Forum 2018)”(SFF)，這是SFF首次在中國舉行，中國半導體市場的影響力可見一斑?！　”敬握搲?，三星電子晶圓代工事業(yè)部戰(zhàn)略市場部部長、副社長裵永昌帶領主要管理團隊，介紹了晶圓代工事業(yè)部升級為獨立業(yè)務部門一年來的發(fā)展成果，以及未來發(fā)展路線圖和服務，首次發(fā)布了FinFET、GAA等晶體管構造與EUV曝光技術的使用計劃，以及3納米芯片高端工藝的發(fā)展路線圖，
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV，晶圓                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          進軍全球5G芯片市場，臺積電7納米EUV工藝聯(lián)發(fā)科M70明年發(fā)
          
                                                            
            
                    	
          • 　　聯(lián)發(fā)科高分貝宣布旗下首款5G Modem芯片，代號為曦力(Helio)M70的芯片解決方案將在2019年現(xiàn)身市場的動作，臺面上或是為公司將積極進軍全球5G芯片市場作熱身，但臺面下，已決定采用臺積電7納米EUV制程技術設計量產(chǎn)的M70 5G Modem芯片解決方案，卻是聯(lián)發(fā)科為卡位臺積電最新主力7納米制程技術產(chǎn)能，同時向蘋果(Apple)iPhone訂單招手的關鍵大絕，在高通(Qualcomm)還在三星電子(SAMSUNG)、臺積電7納米制程技術猶疑之間，聯(lián)發(fā)科已先一步表達忠誠，而面對高通、蘋果專利訟訴
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        臺積電，EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          中芯1.2億美元下單最先進EUV光刻機 如何躲過《瓦森納協(xié)定》的？
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　據(jù)《日經(jīng)亞洲評論》(Nikkei Asian Review)15日援引消息人士的話稱，中國芯片加工企業(yè)中芯國際(SMIC)向全球最大的芯片設備制造商——荷蘭ASML訂購了首臺最先進的EUV(極紫外線)光刻機，價值1.2億美元。目前，業(yè)內已達成共識，必須使用EUV光刻機才能使半導體芯片進入7nm，甚至5nm時代。今天，中芯國際方面對觀察者網(wǎng)表示，對此事不做評論?！　∠⒎Q，這臺幾乎相當于中芯國際去年全部凈利潤的設備，將于2019年前交付。　　ASML發(fā)言人對《日經(jīng)亞洲評論》表示，該企業(yè)對包括中國客戶在內
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        中芯  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          中芯1.2億美元下單最先進EUV光刻機,后續(xù)還得解決這些問題…
          
                                                            
            
                    	
          • 　　據(jù)知情人士透露，中國最大的晶圓代工廠中芯國際已經(jīng)訂購了一臺EUV設備，在中美兩國貿易緊張的情況下，此舉旨在縮小與市場領先者的技術差距，確保關鍵設備的供應。EUV是當前半導體產(chǎn)業(yè)中最先進也最昂貴的芯片制造設備。
　　中芯國際的首臺EUV設備購自荷蘭半導體設備制造商ASML，價值1.2億美元。盡管中芯目前在制造工藝上仍落后于臺積電等市場領導者兩到三代，此舉仍突顯了該公司幫助提升中國本土半導體制造技術的雄心壯志，也保證了在最先進的光刻設備方面的供應。目前包括英特爾、三星、臺積電等巨頭都在購買該設備，以確保
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        中芯  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          2019年換機指南：手機芯片的重磅升級！
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 種種跡象表明，2018年將是移動處理器、半導體等行業(yè)迎來轉折的一年，多種技術經(jīng)歷多年沉淀后會在今年完成應用，然后在2019年爆發(fā)。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        臺積電  芯片  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ASML載具供應商家登精密談中國EUV的發(fā)展，面臨諸多挑戰(zhàn)
          
                                                            
            
                    	
          • 　　載具對于曝光機發(fā)揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機載具，并為全球最大的半導體設備制造商ASML提供載具相關技術。
　　我們主要研究EUV的配套技術，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術產(chǎn)品已經(jīng)達到國際先進水平，這是一個值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術的研究會越來越困難
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        ASML  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          三星7nm EUV工廠破土動工：新驍龍將在這里誕生
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 2017年，三星在半導體事業(yè)中的投資達到了260億美元，創(chuàng)下歷史新高，這主要得益于其存儲芯片的巨大需求。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        三星  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          臺積電要出售？張忠謀：不慌，價好就賣
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 在前段時間，臺積電創(chuàng)始人張忠謀在即將退休的時候卻意外表示，其實中國臺灣地區(qū)的企業(yè)本來就不應該死守，假如價錢夠好把臺積電賣掉也無妨。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        臺積電  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          日媒：三星最高利潤背后的危機感
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　韓國三星電子2017財年(截至2017年12月)合并營業(yè)利潤創(chuàng)下歷史新高，但其危機感正在加劇。三星1月31日發(fā)布的財報顯示，營業(yè)利潤同比增長83%，其中僅半導體業(yè)務盈利就增至上年的2.6倍，約合3.5萬億日元，顯著依賴市場行情，因此危機感增強。3大主要部門面臨著半導體增長放緩等課題。三星能否在新經(jīng)營團隊的領導下，將智能手機和電視機的自主技術培育成新的收益源? 2018財年將成為試金石。
　　三星整體的營業(yè)利潤為53.65萬億韓元，時隔4年再創(chuàng)歷史新高。其中，半導體部門的服務器和智能手機存儲銷量堅挺，
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        三星  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          EUV微影前進7nm制程，5nm仍存在挑戰(zhàn)
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　EUV微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節(jié)點。 不過，根據(jù)日前在美國加州舉辦的ISS 2018上所發(fā)布的分析顯示，實現(xiàn)5nm芯片所需的光阻劑仍存在挑戰(zhàn)。
　　極紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節(jié)點。 不過，根據(jù)日前在美國加州舉辦的年度產(chǎn)業(yè)策略研討會(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所發(fā)布的分析顯示，實現(xiàn)5nm芯片所需的光阻劑(photoresist)仍存在挑戰(zhàn)。
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV  7nm                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          4nm大戰(zhàn),三星搶先導入將EUV,研發(fā)GAAFET
          
                                                            
            
                    	
          • 　　晶圓代工之戰(zhàn)，7nm制程預料由臺積電勝出，4nm之戰(zhàn)仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱，三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備，又投入研發(fā)能取代「鰭式場效晶體管」(FinFET)的新技術，目前看來似乎較占上風。
　　Android Authority報導，制程不斷微縮，傳統(tǒng)微影技術來到極限，無法解決更精密的曝光顯像需求，必須改用波長更短的EUV， 才能準確刻蝕電路圖。 5nm以下制程，EUV是必備工具。 三星明年生產(chǎn)7nm時，就會率先采用EUV，這有如讓三星在6nm以下的競
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        4nm  EUV                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                
          
                    
          ?沒有EUV 半導體強國之夢就「難產(chǎn)」？
          
                                                            
            
                    	
          • 一時之間，仿佛EUV成為了衡量中國半導體設備產(chǎn)業(yè)發(fā)展水平的標桿，沒有EUV就無法實現(xiàn)半導體強國之夢？
            • 
                    	                        
          • 關鍵字：
                        EUV  5nm                          
            • 
                   	
          
                    
          
                
          
                                                

                
          
	                
          
		                	
          
	
          
	共196條
	10/14		|‹
			«
																																																										5																6																7																8																9																10																11																12																13																14							»
			
	
          
		                
          
	               	
          
                
          
        	
          
            
          
        
          
	
          
	
	
          

          

          
        		關于我們 - 
        		廣告服務 - 
        		企業(yè)會員服務 - 
        		網(wǎng)站地圖 - 
        		聯(lián)系我們 - 
        		征稿 - 
        		友情鏈接 - 
        		手機EEPW
        		
          
        		Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
          
        		《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
          
      			備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473
      		
          
    	
          
  	





          




          



看屁屁www成人影院,亚洲人妻成人图片,亚洲精品成人午夜在线,日韩在线 欧美成人

(function(){
    var bp = document.createElement('script');
    var curProtocol = window.location.protocol.split(':')[0];
    if (curProtocol === 'https') {
        bp.src = 'https://zz.bdstatic.com/linksubmit/push.js';
    }
    else {
        bp.src = 'http://push.zhanzhang.baidu.com/push.js';
    }
    var s = document.getElementsByTagName("script")[0];
    s.parentNode.insertBefore(bp, s);
})();