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英特爾巨資升級美國D1X晶圓廠,上馬7nm EUV工藝
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- 12月中旬英特爾宣布擴建美國俄勒岡州以及以色列、愛爾蘭的晶圓廠產(chǎn)能。英特爾這次的產(chǎn)能擴張計劃有對應14nm的,但是并不是應急用的,也有面向未來工藝的,其中俄勒岡州的D1X晶圓廠第三期工程就是其中之一,未來英特爾的7nm EUV處理器會在這里生產(chǎn)?! ?018年下半年英特爾忽然出現(xiàn)了14nm產(chǎn)能不足的危機,這件事已經(jīng)影響了CPU、主板甚至整個PC行業(yè)的增長,官方也承認了14nm產(chǎn)能供應短缺,并表示已經(jīng)增加了額外的15億美元支出擴建產(chǎn)能。12月中旬英特爾宣布擴建美國俄勒岡州以及以色列、愛爾蘭的晶圓廠產(chǎn)
- 關鍵字: 英特爾 晶圓 EUV
EUV需求巨大!ASML最新財報顯示今年將出貨30臺
- 荷蘭當?shù)貢r間1月23日,ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績報告。 報告指出,去年第四季度凈銷售額為31億歐元,凈收入為7.88億歐元,毛利率為44.3%?! 【唧w來看,ASML指出,DUV光刻業(yè)務中,存儲客戶的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著持續(xù)增長。同時ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性,據(jù)了解,上一代產(chǎn)品需要六個月才能達到高可靠性,而該產(chǎn)品僅用了兩個月?! ∪ツ耆辏珹SML凈銷售額為109億歐元,凈收入為26億歐元?! ≈档米⒁獾氖牵珹SML已與尼康簽署了諒解
- 關鍵字: EUV ASML
全面起底ASML的EUV光刻技術
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- 用于高端邏輯半導體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet,極紫外線光刻)曝光技術的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野,從7nm階段的技術節(jié)點到今年(2019年,也是從今年開始),每2年~3年一個階段向新的技術節(jié)點發(fā)展?! 「叨诉壿嫲雽w的技術節(jié)點和對應的EUV曝光技術的藍圖?! ∫簿褪钦f,在EUV曝光技術的開發(fā)比較順利的情況下,5nm的量產(chǎn)日程時間會大約在2021年,3nm的量產(chǎn)時間大約在2023年。關于更先進的2nm的技術節(jié)點,還處于模糊階段,據(jù)預測,其量產(chǎn)時間最快也是在2026
- 關鍵字: ASML EUV
三星促使EUV制程技術走紅,遵循摩爾定律方向發(fā)展
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- 繼聯(lián)電在2017年進行高階主管大改組,并宣布未來經(jīng)營策略將著重在成熟制程之后,格芯也在新執(zhí)行長Tom Caulfield就任半年多后,于日前宣布無限期暫緩7nm制程研發(fā),并將資源轉(zhuǎn)而投入在相對成熟的制程服務上?! ∫隕UV工藝是半導體7nm工藝的關鍵轉(zhuǎn)折點 眾所周知,目前半導體領域,7nm工藝是一個重要節(jié)點。而7nm工藝是半導體制造工藝引入EUV技術的關鍵轉(zhuǎn)折,這是摩爾定律可以延續(xù)到5nm以下的關鍵,引入EUV工藝可以大幅提升性能,縮減曝光步驟、光罩數(shù)量等制造過程,節(jié)省時間和成本?! 〔贿^引入EU
- 關鍵字: 三星 EUV
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