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          ASML堵了EUV光刻機(jī)的路,但國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)有3大新方向

          • 眾所周知,當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī),甚至可以說(shuō)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi),全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機(jī),不會(huì)有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機(jī)的路堵住了,這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈,形成了捆綁關(guān)系,像蔡司等與ASML形成了利益共同體,EUV光刻機(jī)中,蔡司等廠商至關(guān)重要,掌握核心科技,缺少這些供應(yīng)鏈,其它廠商不可能制造出EUV光刻機(jī)。所以,目前眾多的其它光刻機(jī)企業(yè),并不打算走EUV光刻機(jī)這條路,在另尋它路。同樣的,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)基本上也走不通EUV這條路,只能另尋他路,而
          • 關(guān)鍵字: ASML  EUV  光刻機(jī)  

          美國(guó)發(fā)起的對(duì)華聯(lián)合出口限制留下漏洞?

          • 據(jù)報(bào)道,荷蘭和日本已與美國(guó)達(dá)成協(xié)議,共同限制向中國(guó)出口芯片制造工具,這將進(jìn)一步削弱中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,因?yàn)槌讼拗浦袊?guó)制造商使用 EUV 光刻機(jī)外,進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機(jī)。但在美國(guó)對(duì)中國(guó)發(fā)起的嚴(yán)格出口限制中,中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊?這似乎是一個(gè)值得仔細(xì)研究的問(wèn)題。近年來(lái),美國(guó)加大了對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設(shè)計(jì)了各種策略和行動(dòng),還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對(duì)向中國(guó)出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后,美國(guó)急于讓擁有 ASML
          • 關(guān)鍵字: EUV  DUV  深紫外光刻機(jī)  

          EUV光刻機(jī)開(kāi)始“落幕”了

          • 說(shuō)到光刻機(jī)大家難免會(huì)想到三個(gè)廠商,荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機(jī)就是制造芯片的核心裝備?,F(xiàn)如今光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML,他與臺(tái)積電合作,共同突破了沉浸式DUV光刻機(jī),也正因?yàn)榇藙?dòng)作,才奠定了ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機(jī),而且還是獨(dú)家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展,市場(chǎng)就要越來(lái)越追求高性能以及高要求,ASLM造成的長(zhǎng)時(shí)間壟斷,導(dǎo)致其他同行沒(méi)有辦法發(fā)展。在他自身無(wú)法突破的前提下,他的路是越走越窄。在全球范
          • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  ASML  DUV  EUV  

          三星擬新設(shè)至少10臺(tái)EUV光刻機(jī):展露要當(dāng)世界第一的野心

          • 最新消息顯示,盡管全球經(jīng)濟(jì)將放緩,但三星仍計(jì)劃擴(kuò)大DRAM與晶圓代工的晶圓產(chǎn)能,明年在其P3晶圓廠新設(shè)至少10臺(tái)極紫外光刻設(shè)備(EUV),用于生產(chǎn)最新的12nm級(jí)內(nèi)存芯片,而三星目前僅有40臺(tái)EUV光刻機(jī)。
          • 關(guān)鍵字: 三星  EUV  光刻機(jī)  

          三星首次采用韓國(guó)本土EUV光刻膠 打破日企壟斷

          • 據(jù)報(bào)道,三星首次引入韓國(guó)本土公司東進(jìn)世美肯(Dongjin Semichem)研發(fā)的EUV光刻膠(EUV PR)進(jìn)入其量產(chǎn)線,這也是三星進(jìn)行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。在2019年經(jīng)歷與日本的光刻膠等關(guān)鍵原料的供應(yīng)風(fēng)波之后,三星就在嘗試將關(guān)鍵原料的供應(yīng)本土化,經(jīng)過(guò)三年的努力,韓國(guó)實(shí)現(xiàn)了光刻膠本地化生產(chǎn)。在日本限制出口、三星嘗試重構(gòu)EUV光刻膠的供應(yīng)鏈之后,東進(jìn)世美肯就已開(kāi)始研發(fā)EUV光刻膠,并在去年通過(guò)了三星的可靠性測(cè)試,隨后不到一年就被應(yīng)用于三星的大規(guī)模生產(chǎn)線。不過(guò),EUV光刻膠可用于3-50道程序,目前
          • 關(guān)鍵字: 三星  韓國(guó)  EUV  光刻膠  

          有多貴?ASML新EUV光刻機(jī)單臺(tái)硬件造價(jià)2500億:可買三臺(tái)頂級(jí)航母

          • 都知道光刻機(jī)單臺(tái)成本非常的貴,但是你知道有多貴嗎?一臺(tái)數(shù)億美元的光刻機(jī)讓我們看到了一款硬件設(shè)備的價(jià)格極限,然而,ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時(shí)透露,他們正在全力研制劃時(shí)代的新光刻機(jī)high-NA EUV設(shè)備,而高NA EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的單臺(tái)造價(jià)將在300億到350億歐元之間,約合人民幣2195到2561億元。這個(gè)價(jià)格什么概念,一搜頂級(jí)航母的價(jià)格差不多在100億美元左右,而這臺(tái)硬件設(shè)備可以買三艘頂級(jí)航母,而ASML目前在售的雙工件臺(tái)EUV光刻機(jī)不過(guò)數(shù)億美元,作為下一代產(chǎn)品身價(jià)
          • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  ASML  EUV  

          事關(guān)EUV光刻技術(shù),中國(guó)廠商公布新專利

          • 近日,據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)消息,華為技術(shù)有限公司于11月15日公布了一項(xiàng)于光刻技術(shù)相關(guān)的專利,專利申請(qǐng)?zhí)枮?02110524685X。集成電路制造中,光刻覆蓋了微納圖形的轉(zhuǎn)移、加工和形成環(huán)節(jié),決定著集成電路晶圓上電路的特征尺寸和芯片內(nèi)晶體管的數(shù)量,是集成電路制造的關(guān)鍵技術(shù)之一。隨著半導(dǎo)體工藝向7nm及以下節(jié)點(diǎn)的推進(jìn),極紫外(extreme ultraviolet,EUV)光刻成為首選的光刻技術(shù)。相關(guān)技術(shù)的EUV光刻機(jī)中采用強(qiáng)相干光源在進(jìn)行光刻時(shí),相干光經(jīng)照明系統(tǒng)分割成的多個(gè)子光束具有固定的相位關(guān)系,當(dāng)
          • 關(guān)鍵字: EUV  光刻  華為  

          SK海力士引領(lǐng)High-k/Metal Gate工藝變革

          • 由于傳統(tǒng)微縮(scaling)技術(shù)系統(tǒng)的限制,DRAM的性能被要求不斷提高,而HKMG(High-k/Metal Gate)則成為突破這一困局的解決方案。SK海力士通過(guò)采用該新技術(shù),并將其應(yīng)用于全新的1anm LPDDR5X DRAM, 即便在低功率設(shè)置下也實(shí)現(xiàn)了晶體管性能的顯著提高。本文針對(duì)HKMG及其使用益處進(jìn)行探討。厚度挑戰(zhàn): 需要全新的解決方案組成DRAM的晶體管(Transistor)包括存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的單元晶體管(Cell Transistor)、恢復(fù)數(shù)據(jù)的核心晶體管(Core Tr
          • 關(guān)鍵字: SK海力士  High-k  Metal Gate  

          美光:成功繞過(guò)了EUV光刻技術(shù)

          • 本周美光宣布,采用全球先進(jìn)1β(1-beta)制造工藝的DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)送樣給部分手機(jī)制造商、芯片平臺(tái)合作伙伴進(jìn)行驗(yàn)證,并做好了量產(chǎn)準(zhǔn)備。1β工藝可將能效提高約15%,存儲(chǔ)密度提升35%以上,單顆裸片(Die)容量高達(dá)16Gb(2GB)。一個(gè)值得關(guān)注的點(diǎn)是,美光稱,1β繞過(guò)了EUV(極紫外光刻)工具,而依然采用的是DUV(深紫外光刻)。這意味著相較于三星、SK海力士,美光需要更復(fù)雜的設(shè)計(jì)方案。畢竟,DRAM的先進(jìn)性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導(dǎo)體的能力,各公司目前通過(guò)不斷縮小電路
          • 關(guān)鍵字: 美光  EUV  光刻技術(shù)  

          芯片巨頭美光:成功繞過(guò)了EUV光刻技術(shù)

          •   本周美光宣布,采用全球最先進(jìn)1β(1-beta)制造工藝的DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)送樣給部分手機(jī)制造商、芯片平臺(tái)合作伙伴進(jìn)行驗(yàn)證,并做好了量產(chǎn)準(zhǔn)備?! ?β工藝可將能效提高約15%,存儲(chǔ)密度提升35%以上,單顆裸片(Die)容量高達(dá)16Gb(2GB)?! ∫粋€(gè)值得關(guān)注的點(diǎn)是,美光稱,1β繞過(guò)了EUV(極紫外光刻)工具,而依然采用的是DUV(深紫外光刻)?! ∵@意味著相較于三星、SK海力士,美光需要更復(fù)雜的設(shè)計(jì)方案。畢竟,DRAM的先進(jìn)性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導(dǎo)體的能力,各公司目
          • 關(guān)鍵字: 美光  DRAM  內(nèi)存芯片  光刻機(jī)  EUV  

          ASML:有望繼續(xù)向中國(guó)出貨非EUV光刻機(jī)

          • 近期,全球半導(dǎo)體龍頭設(shè)備企業(yè)阿斯麥(ASML)、泛林(LAM)公布了其最新一季度財(cái)報(bào),阿斯麥方面,最新一季度銷售額和利潤(rùn)均超出市場(chǎng)預(yù)期,其新的凈預(yù)訂額也創(chuàng)下了紀(jì)錄。此外阿斯麥CEO Peter Wennink表示,ASML有望繼續(xù)向中國(guó)出貨非EUV光刻機(jī);泛林方面,當(dāng)季公司營(yíng)收創(chuàng)下歷史新高,官方表示,2023年晶圓廠設(shè)備支出將下滑。ASML:有望繼續(xù)向中國(guó)出貨非EUV光刻機(jī)10月19日,光刻機(jī)大廠阿斯麥公布了2022年第三季度財(cái)報(bào)。數(shù)據(jù)顯示,ASML第三季度凈營(yíng)收同比增長(zhǎng)10%至58億歐元,超出此前業(yè)界預(yù)
          • 關(guān)鍵字: ASML  EUV  光刻機(jī)  泛林  

          半導(dǎo)體廠倚重EUV 先進(jìn)微影技術(shù)的強(qiáng)勁需求

          • 微影設(shè)備業(yè)者ASML第一季已完成136臺(tái)極紫外光(EUV)曝光機(jī)出貨,累計(jì)超過(guò)7,000萬(wàn)片晶圓完成EUV曝光。隨著EUV微影技術(shù)推進(jìn),預(yù)期2025年之后新一代EUV曝光機(jī)每小時(shí)曝光產(chǎn)量可達(dá)220片以上,以因應(yīng)客戶端先進(jìn)制程推進(jìn)至埃米(Angstrom)世代對(duì)先進(jìn)微影技術(shù)的強(qiáng)勁需求。雖然2023年半導(dǎo)體市況能見(jiàn)度低且不確定性高,但包括臺(tái)積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導(dǎo)體廠仍積極投資EUV產(chǎn)能,加上制程推進(jìn)會(huì)帶動(dòng)光罩層數(shù)增加,法人樂(lè)觀看好家登、帆宣、公準(zhǔn)、意德士(等EUV概念股明年?duì)I運(yùn)將
          • 關(guān)鍵字: 微影技術(shù)  ASML  EUV  

          荷蘭光刻機(jī)巨頭大舉增加在華員工 背后有什么深意?

          • 在美國(guó)拼命打壓中國(guó)之際,荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML卻相反,根據(jù)該公司透露的消息,ASML今年將在中國(guó)招聘200多名員工,以跟上中國(guó)的增長(zhǎng)步伐,這意味著ASML 在華員工人數(shù)已超過(guò) 1500 人,占ASML公司全球員工的14%。那么,ASML到底想干什么呢?首先,ASML公司是想賺錢,雖然臺(tái)積電、三星等買去了荷蘭ASML公司的大部分EUV光刻機(jī),但ASML公司可以在中國(guó)銷售DUV等光刻機(jī)。而且,2021年ASML的第一大客戶就是中國(guó)大陸芯片企業(yè),中國(guó)大陸芯片企業(yè)為ASML貢獻(xiàn)了超過(guò)290億美元,而中國(guó)臺(tái)灣和韓國(guó)
          • 關(guān)鍵字: ASML  EUV  

          泛林集團(tuán)、Entegris 和 Gelest 攜手推進(jìn) EUV 干膜光刻膠技術(shù)的生態(tài)系統(tǒng)

          • 泛林集團(tuán) (NASDAQ: LRCX)、Entegris, Inc. 和三菱化學(xué)集團(tuán)旗下公司 Gelest, Inc, 于近日宣布了一項(xiàng)戰(zhàn)略合作,將為全球半導(dǎo)體制造商提供可靠的前體化學(xué)品,用于下一代半導(dǎo)體生產(chǎn)所需的、泛林突破性的極紫外 (EUV)干膜光刻膠創(chuàng)新技術(shù)。三方將合作對(duì)未來(lái)幾代邏輯和 DRAM 器件生產(chǎn)所使用的 EUV 干膜光刻膠技術(shù)進(jìn)行研發(fā),這將有助于從機(jī)器學(xué)習(xí)和人工智能到移動(dòng)設(shè)備所有這些技術(shù)的實(shí)現(xiàn)。? ? ? ? ? ? ?
          • 關(guān)鍵字: 泛林集團(tuán)  EUV  干膜光刻膠  

          卡脖子也沒(méi)用 國(guó)內(nèi)廠商芯片新技術(shù)繞過(guò)EUV光刻機(jī)

          • 毫無(wú)疑問(wèn),如今國(guó)內(nèi)芯片廠商面前最大的障礙就是EUV光刻機(jī),不過(guò)EUV光刻機(jī)是研制先進(jìn)芯片的一條路徑,但并非唯一解。    對(duì)于國(guó)內(nèi)廠商來(lái)說(shuō),當(dāng)前在3D NAND閃存的發(fā)展上,就因?yàn)椴恍枰狤UV機(jī)器,從而找到了技術(shù)追趕的機(jī)會(huì)。而在DRAM內(nèi)存芯片領(lǐng)域,盡管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV,可來(lái)自浙江海寧的芯盟則開(kāi)辟出繞過(guò)EUV光刻的新方案。芯盟科技CEO洪沨宣布基于HITOC技術(shù)的3D 4F2 DRAM架構(gòu)問(wèn)世。他指出,基于HITOC技術(shù)所開(kāi)發(fā)的全新架構(gòu)3D 4F2 DRA
          • 關(guān)鍵字: 芯片  EUV  光刻機(jī)  
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