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三星5nm EUV研發(fā)完成:功耗降低20%
- 在芯片代工領(lǐng)域,臺積電和三星是實(shí)力最強(qiáng)勁的兩大巨頭。不過,最近幾年,臺積電的實(shí)力要更勝一籌,通過7nm工藝,臺積電拿到了蘋果、高通、AMD、比特大陸等多家的大訂單。而三星自家最新的Exynos 9820處理器,采用的則還是8nm工藝。今天,三星在官網(wǎng)上帶來了一個新消息,5nm EUV成功開發(fā)完成。這對三星而言,算是一個里程碑式的成就。三星表示,與7nm相比,5nm FinFET工藝功耗降低了20%,性能提高了10%。需要說明的是,三星的7nm工藝去年10月開始宣布并初步生產(chǎn),今年年初實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。最近三星曝光
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英特爾巨資升級美國D1X晶圓廠,上馬7nm EUV工藝
- 12月中旬英特爾宣布擴(kuò)建美國俄勒岡州以及以色列、愛爾蘭的晶圓廠產(chǎn)能。英特爾這次的產(chǎn)能擴(kuò)張計(jì)劃有對應(yīng)14nm的,但是并不是應(yīng)急用的,也有面向未來工藝的,其中俄勒岡州的D1X晶圓廠第三期工程就是其中之一,未來英特爾的7nm EUV處理器會在這里生產(chǎn)。 2018年下半年英特爾忽然出現(xiàn)了14nm產(chǎn)能不足的危機(jī),這件事已經(jīng)影響了CPU、主板甚至整個PC行業(yè)的增長,官方也承認(rèn)了14nm產(chǎn)能供應(yīng)短缺,并表示已經(jīng)增加了額外的15億美元支出擴(kuò)建產(chǎn)能。12月中旬英特爾宣布擴(kuò)建美國俄勒岡州以及以色列、愛爾蘭的晶圓廠產(chǎn)
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EUV需求巨大!ASML最新財報顯示今年將出貨30臺
- 荷蘭當(dāng)?shù)貢r間1月23日,ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績報告?! 蟾嬷赋觯ツ甑谒募径葍翡N售額為31億歐元,凈收入為7.88億歐元,毛利率為44.3%。 具體來看,ASML指出,DUV光刻業(yè)務(wù)中,存儲客戶的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著持續(xù)增長。同時ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性,據(jù)了解,上一代產(chǎn)品需要六個月才能達(dá)到高可靠性,而該產(chǎn)品僅用了兩個月?! ∪ツ耆?,ASML凈銷售額為109億歐元,凈收入為26億歐元?! ≈档米⒁獾氖牵珹SML已與尼康簽署了諒解
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全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)
- 用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet,極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野,從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年(2019年,也是從今年開始),每2年~3年一個階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展?! 「叨诉壿嫲雽?dǎo)體的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和對應(yīng)的EUV曝光技術(shù)的藍(lán)圖?! ∫簿褪钦f,在EUV曝光技術(shù)的開發(fā)比較順利的情況下,5nm的量產(chǎn)日程時間會大約在2021年,3nm的量產(chǎn)時間大約在2023年。關(guān)于更先進(jìn)的2nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn),還處于模糊階段,據(jù)預(yù)測,其量產(chǎn)時間最快也是在2026
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Imec與ASML聯(lián)手,EUV成主流技術(shù)工具
- 日前,有消息稱,比利時研究機(jī)構(gòu)Imec和微影設(shè)備制造商ASML計(jì)劃成立一座聯(lián)合研究實(shí)驗(yàn)室,共同探索在后3nm邏輯節(jié)點(diǎn)的奈米級元件制造藍(lán)圖。此次雙方這項(xiàng)合作是一項(xiàng)為期五年計(jì)劃的一部份,分為兩個階段: 首先是開發(fā)并加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn),包括最新的EUV設(shè)備準(zhǔn)備就緒?! ∑浯螌⒐餐剿飨乱淮邤?shù)值孔徑(NA)的EUV微影技術(shù)潛力,以便能夠制造出更小型的奈米級元件,從而推動3nm以后的半導(dǎo)體微縮?! O紫外光(EUV)微影技術(shù) EUV光刻也叫極紫外光刻,它以波長為10-14 nm的極紫外
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三星促使EUV制程技術(shù)走紅,遵循摩爾定律方向發(fā)展
- 繼聯(lián)電在2017年進(jìn)行高階主管大改組,并宣布未來經(jīng)營策略將著重在成熟制程之后,格芯也在新執(zhí)行長Tom Caulfield就任半年多后,于日前宣布無限期暫緩7nm制程研發(fā),并將資源轉(zhuǎn)而投入在相對成熟的制程服務(wù)上?! ∫隕UV工藝是半導(dǎo)體7nm工藝的關(guān)鍵轉(zhuǎn)折點(diǎn) 眾所周知,目前半導(dǎo)體領(lǐng)域,7nm工藝是一個重要節(jié)點(diǎn)。而7nm工藝是半導(dǎo)體制造工藝引入EUV技術(shù)的關(guān)鍵轉(zhuǎn)折,這是摩爾定律可以延續(xù)到5nm以下的關(guān)鍵,引入EUV工藝可以大幅提升性能,縮減曝光步驟、光罩?jǐn)?shù)量等制造過程,節(jié)省時間和成本?! 〔贿^引入EU
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5nm技術(shù)指日可待,EUV技術(shù)有重磅突破
- 全球一號代工廠臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項(xiàng)重磅突破,一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作,二是5nm工藝將在2019年4月開始試產(chǎn)。今年4月開始,臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn),蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)褂盟圃?,但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。 而接下來的第二代7nm工藝(CLNFF+/N7+),臺積電將首次應(yīng)用EUV,不過僅限四個非關(guān)鍵層,以降低風(fēng)險、加速投產(chǎn),也借
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