IC設(shè)備國產(chǎn)化多點突破二手市場尋求整合

　　“工欲善其事，必先利其器。”集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展離不開裝備制造業(yè)的支撐，而裝備業(yè)的發(fā)展水平也是衡量一個國家集成電路產(chǎn)業(yè)總體水平的重要標(biāo)準(zhǔn)。近年來，我國集成電路裝備業(yè)取得了長足的進步，12英寸設(shè)備在多個工序?qū)崿F(xiàn)國產(chǎn)化。但由于8英寸、12英寸集成電路生產(chǎn)線在我國仍有很大的發(fā)展空間，這也給國外的二手設(shè)備提供了用武之地，同時，也給從事設(shè)備翻新的企業(yè)提供了發(fā)展機遇。

　　12英寸國產(chǎn)設(shè)備進展顯著

　　●多種核心裝備實現(xiàn)國產(chǎn)化

　　●12英寸65納米是下階段重點

　　一條標(biāo)準(zhǔn)的集成電路生產(chǎn)線需要300～400臺工藝設(shè)備，一般認(rèn)為，其核心裝備包括光刻機、刻蝕機、離子注入機、CVD(化學(xué)氣相淀積)設(shè)備、PVD(物理氣相淀積)設(shè)備和高溫爐;隨著光刻精度進入90納米節(jié)點，銅制程設(shè)備也進入核心裝備的行列;此外，用于硅片表面處理的清洗機也是非常重要的裝備。

　　“在集成電路生產(chǎn)設(shè)備中，刻蝕機的重要性僅次于光刻機。國內(nèi)裝備制造企業(yè)在柵刻蝕和介質(zhì)刻蝕兩個領(lǐng)域都已經(jīng)取得了突破。”02專項總體專家組組長、中科院微電子所所長葉甜春告訴記者，“目前，面向12英寸集成電路生產(chǎn)線的國產(chǎn)刻蝕機已通過了芯片制造廠的考核認(rèn)證，用于8英寸生產(chǎn)線的刻蝕機已經(jīng)進入市場。”

　　摻雜也是集成電路生產(chǎn)的重要工序，隨著技術(shù)的進步，用離子注入進行摻雜的工藝已經(jīng)逐漸取代了早期的擴散工藝。近幾年，國內(nèi)裝備制造企業(yè)在該領(lǐng)域也取得了顯著進步。據(jù)葉甜春介紹，目前國產(chǎn)離子注入機已能滿足8英寸生產(chǎn)線的要求，12英寸離子注入機也已進入整機調(diào)試階段。“除了刻蝕機和離子注入機之外，用于12英寸集成電路生產(chǎn)的國產(chǎn)高溫爐也已經(jīng)送進芯片制造廠進行工藝認(rèn)證考核。”葉甜春說。

　　針對清洗工序，中國裝備制造企業(yè)也有不錯的表現(xiàn)。2009年，盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司已經(jīng)研制出適用于45納米、12英寸集成電路生產(chǎn)的單片清洗設(shè)備，并送到國際知名芯片制造企業(yè)進行生產(chǎn)線測試。該公司工藝工程師賈照偉在接受記者采訪時表示：“隨著集成電路精度的提升，對硅片表面顆粒物和硅片均勻性的要求越來越高，傳統(tǒng)上用于批量清洗硅片的槽式清洗機有逐漸被單片清洗機取代的趨勢。”

　　記者從《國家科技重大專項“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”2009年項目指南》中了解到，02專項把2012年之前集成電路裝備的研發(fā)目標(biāo)定位在65納米節(jié)點，其中，PVD、銅互連、快速熱退火、勻膠顯影以及相關(guān)檢測設(shè)備將成為研發(fā)重點。葉甜春表示：“上海華力微電子有限公司承擔(dān)的‘909工程升級改造’項目將采用65納米工藝，02專項的實施也將滿足該項目的需求。”

　　二手設(shè)備瞄準(zhǔn)8英寸市場

　　●8英寸二手設(shè)備期待進入中國市場

　　●二手設(shè)備廠家尋求整合

　　近年來，國外的集成電路產(chǎn)品生產(chǎn)越來越多地由8英寸生產(chǎn)線轉(zhuǎn)至12英寸生產(chǎn)線，而在國際金融危機的沖擊下，很多8英寸生產(chǎn)線也提前停產(chǎn)。據(jù)曾經(jīng)管理過上華、宏力和中緯等多家IC代工企業(yè)的業(yè)內(nèi)知名專家蔡南雄統(tǒng)計，在全球范圍內(nèi)，目前已經(jīng)下線或即將下線的8英寸設(shè)備數(shù)量超過1萬臺，一大批從事二手設(shè)備翻新和銷售的廠商也把目光投向中國市場。美國亞洲技術(shù)公司中國區(qū)總代葉野在接受記者采訪時表示，目前中國的集成電路生產(chǎn)線以6英寸和6英寸以下為主，8英寸生產(chǎn)線數(shù)量還不多，而二手設(shè)備的價格通常不到新設(shè)備價格的1/10，因此對投資者非常有吸引力。