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          應(yīng)用材料推出原子級薄膜處理系統(tǒng)降低芯片功耗

          —— 該突破性技術(shù)使客戶能夠繼續(xù)不遺余力地制造出更快、更節(jié)能的邏輯器件
          作者: 時(shí)間:2011-12-04 來源:中電網(wǎng) 收藏

            日前,公司推出全新的Applied Producer Onyx,以降低半導(dǎo)體的功耗。該突破性技術(shù)通過優(yōu)化隔離中長達(dá)數(shù)英里互聯(lián)導(dǎo)線的低介電常數(shù)薄膜的分子結(jié)構(gòu),使客戶在拓展至22納米及更小技術(shù)節(jié)點(diǎn)時(shí)能夠繼續(xù)不遺余力地制造出更快、更節(jié)能的邏輯器件。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/126615.htm

            公司副總裁兼介質(zhì)系統(tǒng)及模塊事業(yè)部總經(jīng)理Bill McClintock表示:“互聯(lián)導(dǎo)線消耗了近三分之一的功率,降低這部分功耗對于提高先進(jìn)邏輯器件的性能、延長電池壽命至關(guān)重要。Onyx系統(tǒng)具有獨(dú)特的處理能力,能夠?qū)崿F(xiàn)業(yè)界最節(jié)能的互聯(lián);同時(shí)能夠提高介質(zhì)的機(jī)械強(qiáng)度,使得芯片更加堅(jiān)固,能夠更好地承受來自新興三維封裝應(yīng)用的考驗(yàn)。目前,多套Producer Onyx系統(tǒng)已在進(jìn)行試生產(chǎn),用于先進(jìn)邏輯器件的制造。”

            隨著每個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷變小,互聯(lián)導(dǎo)線之間的距離變得越來越近,使得相鄰互聯(lián)導(dǎo)線之間產(chǎn)生寄生電容或串?dāng)_的可能性也隨之增加,這會(huì)耗能并減緩開關(guān)速度。通過降低隔離及支撐這些結(jié)構(gòu)的絕緣材料的介電常數(shù)來降低寄生電容,是確保持續(xù)改善性能和電池壽命的重要途徑。

            公司具有專利保護(hù)的Onyx技術(shù)通過在多孔介質(zhì)薄膜中填充碳和硅材料,在原子量級對該隔離材料進(jìn)行加固。該處理工藝將介電常數(shù)降低20%之多,從而大幅降低了芯片功耗。此外,該工藝還提高了介質(zhì)薄膜的硬度,使其能夠承受數(shù)以百計(jì)后續(xù)工藝和封裝步驟的考驗(yàn)。



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