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          三星、臺(tái)積電將于2013年實(shí)現(xiàn)20納米工藝量產(chǎn)

          作者: 時(shí)間:2012-12-09 來(lái)源:SEMI 收藏

            據(jù)DigiTimes報(bào)道,將于2013年采用技術(shù),同時(shí)開始建造生產(chǎn)14納米的工廠。臺(tái)積電也會(huì)在2013年下半年開始采用技術(shù)生產(chǎn)。當(dāng)前主流的智能手機(jī)芯片主要由高通和制造,高通的代工廠中,最出名的就是臺(tái)積電。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/139867.htm

            此前,臺(tái)積電采用的是28納米技術(shù),采用的是32納米技術(shù)。眾所周知,是越細(xì)越好,耗能也越少,芯片體積也將更小。

            可以預(yù)見,我們或?qū)⒃?013年年底或2014年年初見到采用技術(shù)制造的高通芯片。另外,臺(tái)積電也是英偉達(dá)(NVIDIA)的代工廠,所以2013年Q3/Q4,我們有望見到基于ARM Cortex A15架構(gòu)的Tegra 4。

            至于當(dāng)前芯片行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者英特爾,他們當(dāng)前采用的是22納米技術(shù),但其14納米工藝預(yù)計(jì)在2014年就能實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。



          關(guān)鍵詞: 三星 晶體管 20納米

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