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          異質(zhì)整合突破 應(yīng)用材料火力支持IC封裝

          作者: 時(shí)間:2023-07-18 來源:工商時(shí)報(bào) 收藏

          目前臺(tái)積電先進(jìn)封裝的制程瓶頸在于硅穿孔(TSV)技術(shù),TSV硅穿孔芯片堆棧并非打線接合,而是在各邏輯芯片鉆出小洞,從底部填充入金屬,使其能通過每一層芯片。再以導(dǎo)電材料如銅、多晶硅、鎢等物質(zhì)填滿,形成連接的功能,最后將晶圓或晶粒薄化加以堆棧、結(jié)合(Bonding),作為芯片間傳輸電訊號(hào)用之立體堆棧技術(shù)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202307/448746.htm

          隨著IC設(shè)計(jì)業(yè)者繼續(xù)將更多的邏輯、內(nèi)存和特殊功能芯片整合到先進(jìn)的2.5D和3D封裝中,每個(gè)封裝中的TSV互連導(dǎo)線數(shù)量擴(kuò)展到數(shù)千個(gè)。為整合更多的互連導(dǎo)線并容納更高的芯片堆棧,需將硅穿孔變得更窄、更高,造成沉積均勻性改變,因而降低了效能,也增加了電阻和功耗。

          高效能運(yùn)算和人工智能等應(yīng)用對晶體管的需求以指數(shù)級(jí)速度成長,傳統(tǒng)的2D微縮速度緩慢且變得更加昂貴,解決產(chǎn)業(yè)所面臨的挑戰(zhàn),使芯片制造商能以新的方式改善芯片的功率、效能、單位面積成本與上市時(shí)間。

          (簡稱:應(yīng)材)為技術(shù)最大供貨商,提供芯片制造系統(tǒng),包括蝕刻、物理/化學(xué)氣相沉積、退火與表面處理等設(shè)備。幫助半導(dǎo)體業(yè)者將各種功能、技術(shù)節(jié)點(diǎn)和尺寸的小芯片結(jié)合到先進(jìn)封裝中,使組合后的整體可作為單一產(chǎn)品的形式來運(yùn)作。

          應(yīng)材指出,本次推出的新系統(tǒng),包括Producer Avila PECVD電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng),擴(kuò)大了應(yīng)材在領(lǐng)域與同業(yè)的差距。




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