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          日本Rapidus計劃2024年底引入EUV光刻機
          
						
          
				作者：時間：2023-12-07來源：SEMI收藏
			
          

			
          


			
          
			
          


			
          
			
          


			
          
			
          
			
			
          
			
			
          


			
          
                
				
          據日媒報道，日本芯片公司Rapidus表示，正在北海道建設芯片工廠，目標是2027年量產2nm制程芯片。
          本文引用地址：http://www.ex-cimer.com/article/202312/453628.htm
          該公司宣布，決定在2024年年底引入EUV光刻機，并將派遣員工赴荷蘭阿斯麥學習EUV極紫外光刻技術。目標是今年派遣100名員工至IBM、阿斯麥學習先進芯片技術。
          
				
            	
                
				
								
          
				          
                
				              
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
          


			
          
			
            
			  
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          關鍵詞：
            			            日本
                        Rapidus
                        2nm
                        芯片制程
                        EUV光刻機
                        
            
          
            
			
          
		
          	
		

	

          
	
	
          
		
          
			
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