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          鎧俠與閃迪合作研發(fā)出332層NAND閃存

          作者: 時間:2025-02-24 來源:SEMI 收藏

          官網(wǎng)獲悉,日前, 公司和閃迪公司宣布率先推出了最先進(jìn)的技術(shù),以4.8Gb/s的接口速度、卓越的能效和更高的密度樹立了行業(yè)標(biāo)桿。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202502/467211.htm

          據(jù)悉,新閃存采用CBA雙晶圓鍵合技術(shù),分別制造CMOS控制電路、存儲陣列,然后鍵合在一起,類似長江存儲的Xtacking晶棧架構(gòu)。3D堆疊層數(shù)達(dá)到空前的332層,對比第8代的218層增加了多達(dá)38%。

          兩家公司的新一代較目前量產(chǎn)的第八代產(chǎn)品(BiCS FLASH? generation 8)實現(xiàn)了33%的接口速度提升,達(dá)到4.8Gb/s。此外,該技術(shù)也顯著提升了數(shù)據(jù)輸入/輸出的能效,輸入功耗降低10%,輸出功耗降低34%,成功實現(xiàn)了高性能與低功耗的最優(yōu)平衡。兩家公司預(yù)展第十代(BiCS FLASH? generation 10)技術(shù)時介紹,通過將存儲層數(shù)增至332層并優(yōu)化晶圓平面布局以提高平面密度,使位密度提升了59%。

          鎧俠首席技術(shù)官宮島英史表示:“隨著人工智能技術(shù)的普及,預(yù)計產(chǎn)生的數(shù)據(jù)量將顯著增加,同時現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心對能效提升的需求也在增長。鎧俠深信,這項新技術(shù)將實現(xiàn)更大容量、更高速度和更低功耗的產(chǎn)品,包括用于未來存儲解決方案的SSD產(chǎn)品,并為人工智能的發(fā)展奠定基礎(chǔ)。”



          關(guān)鍵詞: 鎧俠 3D閃存 NAND

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