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          化學機械拋光 Slurry 的蛻與進
          
						
          
				作者：
				時間：2009-05-31
				來源：網(wǎng)絡
				
				
				
				
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           Slurry的發(fā)展與蛻變
           “CMP技術非常復雜，牽涉眾多的設備、耗材、工藝等，可以說CMP本身代表了半導體產(chǎn)業(yè)的眾多挑戰(zhàn)。”安集微電子的CEO王淑敏博士說，“主要的挑戰(zhàn)是影響CMP工藝和制程的諸多變量，而且這些變量之間的關系錯綜復雜。其次是CMP的應用范圍廣，幾乎每一關鍵層都要求用到CMP進行平坦化。不同應用中的研磨過程各有差異，往往一個微小的機臺參數(shù)或耗材的變化就會帶來完全不同的結果，slurry的選擇也因此成為CMP工藝的關鍵之一?！?P> CMP技術所采用的設備及消耗品包括：拋光機、slurry、拋光墊、后CMP清洗設備、拋光終點檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測設備等。其中slurry和拋光墊為消耗品。Praxair的研發(fā)總監(jiān)黃丕成博士介紹說，一個完整的CMP工藝主要由拋光、后清洗和計量測量等部分組成。拋光機、slurry和拋光墊是CMP工藝的3大關鍵要素，其性能和相互匹配決定CMP能達到的表面平整水平（圖2）。
           
				
            
          
                
			
							
          
                
			            
                            
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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